Metryx將與Intel合作開(kāi)發(fā)20納米節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體工藝

摘要：  高精度質(zhì)量計(jì)量技術(shù)用于監(jiān)控淀積工藝和其它引起質(zhì)量細(xì)微變化的工藝步驟，也可以用來(lái)監(jiān)控由于高參雜注入導(dǎo)致光刻膠剝落而引起的硅損耗、襯底損壞等問(wèn)題。

關(guān)鍵字：  Metryx，  20納米，  Intel，  半導(dǎo)體工藝

英國(guó)質(zhì)量計(jì)量設(shè)備廠商Metryx日前正式加入一項(xiàng)由歐洲廠商主導(dǎo)的半導(dǎo)體設(shè)備創(chuàng)新發(fā)展評(píng)估項(xiàng)目，在此合作框架下，Metryx將和Intel，IMEC等展開(kāi)深入合作，為20納米節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體工藝開(kāi)發(fā)提供高精度質(zhì)量計(jì)量技術(shù)和設(shè)備。

高精度質(zhì)量計(jì)量技術(shù)用于監(jiān)控淀積工藝和其它引起質(zhì)量細(xì)微變化的工藝步驟，也可以用來(lái)監(jiān)控由于高參雜注入導(dǎo)致光刻膠剝落而引起的硅損耗、襯底損壞等問(wèn)題。

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