光掩模版

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  • 微電子產(chǎn)業(yè)又添一員“猛將”，30億投資光罩廠！

    8月19日上午，南湖高新區(qū)微電子產(chǎn)業(yè)又添一員“猛將”——由青島恩芯創(chuàng)始人張汝京主導(dǎo)的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項(xiàng)目簽約儀式在浙江嘉興科技城(南湖高新區(qū))智立方舉行。簽約儀式上，項(xiàng)目負(fù)責(zé)人張汝京博士為大家介紹了關(guān)于光罩的“知識(shí)點(diǎn)”。據(jù)介紹，光罩也稱為光掩模版，在IC制造過程中，其作用是將設(shè)計(jì)好的電路進(jìn)行顯影，將圖形投影在晶圓上，利用光刻技術(shù)進(jìn)行蝕刻，是半導(dǎo)體光刻工藝中所需的高精密工具。

  • 生產(chǎn)光罩（光掩模版）的設(shè)備老化，缺貨問題愈發(fā)突出

    光掩?；媸且环N硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當(dāng)前及未來微細(xì)加工光掩膜制作的主流感光材料(相當(dāng)于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射(SP)沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。光掩?；嬗幸韵聨追N叫法：勻膠鉻版，光掩?；?、空白光罩、拽英文的話就叫做Maskblanks)