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半導(dǎo)體工藝（二）
半導(dǎo)體工藝上世紀(jì)末開始飛速發(fā)展，實(shí)際上由于集成電路的發(fā)明，集成電路工藝成為半導(dǎo)體工藝的主角。其發(fā)展軌跡也印證了摩爾定律，180nm、130nm、90nm、65nm、40nm、28nm、16nm等一路發(fā)展，將其稱為技術(shù)節(jié)點(diǎn)，是ITRS(國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展藍(lán)圖)根據(jù)工藝技術(shù)的發(fā)展制定的，2010年開始提出“等效擴(kuò)展”(而不是幾何擴(kuò)展)。
