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輻射、散射近場(chǎng)測(cè)量及近場(chǎng)成像技術(shù)
眾所周知，在離開被測(cè)目標(biāo)3λ～5λ（λ為工作波長(zhǎng)）距離上測(cè)量該區(qū)域電磁場(chǎng)的技術(shù)稱為近場(chǎng)測(cè)量技術(shù)。如果被測(cè)目標(biāo)是輻射器，則稱為輻射近場(chǎng)測(cè)量；若被測(cè)目標(biāo)是散射體，則稱為散射近場(chǎng)
眾所周知，在離開被測(cè)目標(biāo)3λ～5λ（λ為工作波長(zhǎng)）距離上測(cè)量該區(qū)域電磁場(chǎng)的技術(shù)稱為近場(chǎng)測(cè)量技術(shù)。如果被測(cè)目標(biāo)是輻射器，則稱為輻射近場(chǎng)測(cè)量；若被測(cè)目標(biāo)是散射體，則稱為散射近場(chǎng)
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