1947年12月，貝爾實驗室的約翰·巴丁、沃爾特·豪澤·布喇頓在威廉·肖克利的指導下共同發(fā)明了點接觸形式的雙極性晶體管。1948年，肖克利發(fā)明了采用結型構造的雙極性晶體管。在其后的大約三十年時間內，這種器件是制造分立元件電路和集成電路的不二選擇。早期的晶體管是由鍺制造的。在1950年代和1960年代，鍺晶體管的使用多于硅晶體管。相對于硅晶體管，鍺晶體管的截止電壓更小，通常約0.2伏特，這使得鍺晶體管適用于某些應用場合。在晶體管的早期歷史中，曾有多種雙極性晶體管的制造方法被開發(fā)出來。鍺晶體管的一個主要缺點是它容易產生熱失控。由于鍺的禁帶寬度較窄，并且要穩(wěn)定工作則要求的溫度相對硅半導體更嚴，因此大多數現代的雙極性晶體管是由硅制造的。采用硅材料的另一個重要原因是硅在地球上的儲量比鍺豐富得多(僅次于氧)。
后來，人們也開始使用以砷化鎵為代表的化合物來制造半導體晶體管。砷化鎵的電子遷移率為硅的5倍，用它制造的晶體管能夠達到較高的工作頻率。此外，砷化鎵熱導率較低，有利于高溫下進行的加工。化合物晶體管通?？梢詰糜诟咚倨骷?。雙極性晶體管能夠提供信號放大，它在功率控制、模擬信號處理等領域有所應用。此外，由于基極-發(fā)射極偏置電壓與溫度、電流的關系已知，雙極性晶體管還可以被用來測量溫度。根據基極-發(fā)射極電壓與基極-發(fā)射極和集電極-發(fā)射極電流的對數關系，雙極性晶體管也能被用來計算對數或求自然對數的冪指數。
隨著人們對于能源問題的認識不斷加深，場效應管(如CMOS)技術憑借更低的功耗，在數字集成電路中逐漸成為主流，雙極性晶體管在集成電路中的使用由此逐漸變少。但是應當看到，即使在現代的集成電路中，雙極性晶體管依然是一種重要的器件，市場上仍有大量種類齊全、價格低廉的晶體管產品可供選擇。與金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET，它是場效應管的一種，另一種為結型場效應管)相比，雙極性晶體管能提供較高的跨導和輸出電阻，并具有高速、耐久的特性，在功率控制方面能力突出。因此，雙極性晶體管依舊是組成模擬電路，尤其是甚高頻應用電路(如無線通信系統(tǒng)中的射頻電路)的重要配件。雙極性晶體管可以通過BiCMOS技術與和MOSFET制作在一塊集成電路上，這樣就可以充分利用兩者的優(yōu)點(如雙極性晶體管的電流放大能力和場效應管的低功耗特點)
從基極區(qū)域的少數載流子濃度出發(fā)，可以解釋集電極的載流子流動。如果雙極性晶體管為小注入(low level injection)，即通過某些物理過程(如光注入或電注入)引入的非平衡載流子(excess carrier，或稱“過剩載流子”)比熱平衡時的多數載流子少得多，雙極性擴散(即非平衡多數載流子和少數載流子以相同速率流動)速率實際上由非平衡少數載流子決定。另外，雙極性晶體管處理高頻信號的能力還受限于基極區(qū)域載流子的渡越時間。
一個雙極性晶體管由三個不同的摻雜半導體區(qū)域組成，它們分別是發(fā)射極區(qū)域、基極區(qū)域和集電極區(qū)域。這些區(qū)域在NPN型晶體管中分別是N型、P型和N型半導體，而在PNP型晶體管中則分別是P型、N型和P型半導體。每一個半導體區(qū)域都有一個引腳端接出，通常用字母E、B和C來表示發(fā)射極(Emitter)、基極(Base)和集電極(Collector)。
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