全球的缺芯現(xiàn)象還在持續(xù)：ASML官宣全新光刻機(jī)問(wèn)世

目前，全球的缺芯現(xiàn)象還在持續(xù)，各國(guó)都在積極布局半導(dǎo)體。而這其中有一個(gè)最為關(guān)鍵的設(shè)備，現(xiàn)在誰(shuí)也繞不開，那就是光刻機(jī)。也因此，光刻機(jī)行業(yè)的領(lǐng)先玩家荷蘭ASML的一舉一動(dòng)都備受關(guān)注。最近，這家企業(yè)還做出了兩個(gè)重要決定。

我們知道，現(xiàn)在能夠獨(dú)立生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)不多，主要就是荷蘭ASML和日本的尼康、佳能，還有我國(guó)的上海微電子。而荷蘭ASML能夠在光刻機(jī)領(lǐng)域處于壟斷地位，關(guān)鍵是它壟斷了高端光刻機(jī)，尼康、佳能和上海微電子只能生產(chǎn)中低端的。

只有荷蘭ASML這一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，原因也是因?yàn)楫?dāng)年英特爾同意它加入了EUV LLC組織，拒絕日本光刻機(jī)企業(yè)加入，讓其獨(dú)享了該組織的EUV技術(shù)。但也因此，ASML之后需要每年定期接受相關(guān)檢查，并且以后也一直受到相關(guān)限 制。

半導(dǎo)體權(quán)威機(jī)構(gòu)imec前不久發(fā)布業(yè)內(nèi)的最新消息，其中最重要的消息就是High NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)，ASML提前將其提前量產(chǎn)，0.55NA的下代EUV光刻機(jī)一號(hào)試做機(jī)可能在2026年量產(chǎn)。

ASML透露，首臺(tái)NA EUV光刻機(jī)2023年開放早期測(cè)試，并從2025年開始量產(chǎn)，但是分析人士認(rèn)為這并不現(xiàn)實(shí)。為啥要研制新一代的光刻機(jī)，之前的不好使嗎?光刻機(jī)的迭代，使這種設(shè)備擁有了更高的光刻分辨率、更高效的生產(chǎn)效率、更簡(jiǎn)單的光刻工藝。相對(duì)應(yīng)的，光刻機(jī)設(shè)備與芯片制程工藝相匹配，目前，最先進(jìn)的芯片制程工藝為3nm，現(xiàn)有EUV光刻機(jī)還能夠滿足其需求，但對(duì)于下一代2nm制程工藝而言，有點(diǎn)不夠看，就需要High NA EUV光刻機(jī)將重任一肩挑起。

所謂High NA EUV光刻機(jī)，就是通過(guò)調(diào)大透鏡的參數(shù)使光刻機(jī)擁有更高的分辨率，它的工作原理與EUV基本一致，但它的特使鏡頭能夠向兩個(gè)方向同時(shí)放大，一個(gè)放大8倍，一個(gè)放大4倍。這可以讓光線以更多角度穿過(guò)光罩，提升成像圖案的分辨率，并成為解決與EUV 多重圖案相關(guān)成本問(wèn)題的關(guān)鍵。憑借這點(diǎn)，這臺(tái)機(jī)器生產(chǎn)的芯片應(yīng)該是史上處理速度最快、效率最高的。

為什么不看好High NA EUV光刻機(jī)2025年進(jìn)行量產(chǎn)呢?業(yè)內(nèi)人士稱，一臺(tái)High NA光刻機(jī)的成本預(yù)計(jì)為3.168億美元，但事實(shí)上總成本可能更高，因?yàn)檫@套全新的系統(tǒng)需要新設(shè)備、新光掩模和不同的光刻膠才能運(yùn)轉(zhuǎn)。供應(yīng)商們都在竭盡全力的研發(fā)新技術(shù)，但與目標(biāo)依然存在一些差距。

關(guān)注芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的朋友們都知道，作為芯片產(chǎn)業(yè)的上游，光刻機(jī)設(shè)備是目前芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，特別是生產(chǎn)高端芯片必須要用到EUV光刻機(jī)。而EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML這一家公司能夠集成制造，由于EUV光刻機(jī)本身的制造極其復(fù)雜，因此ASML每年交付的EUV光刻機(jī)數(shù)量有限，而且每臺(tái)價(jià)格高達(dá)1.5億歐元，即便是這種情況下，該款設(shè)備依舊供不應(yīng)求。

不過(guò)，對(duì)于壟斷全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)的ASML來(lái)說(shuō)，第一的寶座并不是高枕無(wú)憂的。由于ASML并沒有自主決策權(quán)，在被限制不能自由銷售EUV光刻機(jī)的情況下，ASML曾多次申請(qǐng)出貨許可，甚至聯(lián)合臺(tái)積電和高通等企業(yè)一起申請(qǐng)，爭(zhēng)取獲得EUV光刻機(jī)的出貨許可，然而至今只有高通拿到了部分的出貨許可。

據(jù)了解，ASML新一代的光刻機(jī)在NA值上比上一代的數(shù)值有所上升，從0.33的數(shù)值上升到了0.55，具備了更高的曝光精準(zhǔn)度。與此同時(shí)，在單位時(shí)間上所可以曝光的晶圓數(shù)量也提升了不少。只不過(guò)，雖然這一代的新光刻機(jī)比起老一代來(lái)說(shuō)優(yōu)勢(shì)很明顯，但也有一個(gè)“短板”，那就是售價(jià)極為的高昂，已經(jīng)超過(guò)了3億美元的售價(jià)。

但盡管如此高昂的售價(jià)，也還是有企業(yè)對(duì)其很感興趣。其中就有三星跟英特爾。三星表示想優(yōu)先獲得新一代的光刻機(jī)，而英特爾則表態(tài)說(shuō)明他們將優(yōu)先獲得新一代的光刻機(jī)?？梢钥吹剑歉⑻貭柕难哉撌怯袇^(qū)別的，三星只是表達(dá)了自己想要的想法，但是英特爾卻表示他們已經(jīng)有所機(jī)會(huì)。

從這一點(diǎn)我們就能知道，面對(duì)新一代的光刻機(jī)，ASML給了英特爾一個(gè)優(yōu)先的權(quán)利。事實(shí)上，ASML的態(tài)度并不讓人意外，因?yàn)樵诖饲癆SML就表過(guò)態(tài)會(huì)將優(yōu)先權(quán)給到英特爾，而不是此前的臺(tái)積電。當(dāng)時(shí)就有不少業(yè)界人士猜測(cè)，在今后的日子里或許英特爾都會(huì)享有這個(gè)優(yōu)先的權(quán)利，現(xiàn)如今來(lái)看這果不其然。

只是有些好奇的是，就算ASML此前沒有表態(tài)要優(yōu)先給三星，三星也一樣對(duì)新的機(jī)器表現(xiàn)出了比較期待的態(tài)度?？墒桥_(tái)積電卻沉默了。面對(duì)高昂售價(jià)的新一代光刻機(jī)，臺(tái)積電并沒有表現(xiàn)出他們強(qiáng)烈需求的欲望。