什么是碳化硅SiC?
近年來,使用“功率元器件”或“功率半導(dǎo)體”等說法,以大功率低損耗為目的二極管和晶體管等分立(分立半導(dǎo)體)元器件備受矚目。這是因?yàn)?,為了?yīng)對全球共通的 “節(jié)能化”和“小型化”課題,需要高效率高性能的功率元器件。
然而,最近經(jīng)常聽到的“功率元器件”,具體來說是基于什么定義來分類的呢?恐怕是沒有一個明確的分類的,但是,可按以高電壓大功率的AC/DC轉(zhuǎn)換和功率轉(zhuǎn)換為目的的二極管和MOSFET,以及作為電源輸出段的功率模塊等來分類等等。
SiC(碳化硅)是一種由硅(Si)和碳(C)構(gòu)成的化合物半導(dǎo)體材料。表 1-1 列出了各種半導(dǎo)體材料的電氣特征,SiC 的優(yōu)點(diǎn)不 僅在于其絕緣擊穿場強(qiáng)(Breakdown Field)是 Si 的 10 倍,帶隙(Energy Gap)是 Si 的 3 倍,而且在器件制造時可以在較寬的范 圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)必要的 P 型、N 型控制,所以被認(rèn)為是一種超越 Si 極限的用于制造功率器件的材料。SiC 存在各種多型體(結(jié)晶多系), 它們的物性值也各不相同。最適合于制造功率器件的是 4H-SiC,現(xiàn)在 4inch~6inch 的單晶晶圓已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)。
為什么要發(fā)展碳化硅?
第一代元素半導(dǎo)體材料:如硅(Si)和鍺(Ge);
第二代化合物半導(dǎo)體材料:如砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等;
第三代寬禁帶材料:如碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氮化鋁(ALN)、氧化鎵(Ga2O3)等。
第三代半導(dǎo)體材料又稱寬禁帶半導(dǎo)體材料,和傳統(tǒng)硅材料的主要區(qū)別在禁帶寬度上。具體來說,禁帶寬度是判斷一種半導(dǎo)體材料擊穿電壓高低的重要標(biāo)志,禁帶寬度值越大,則這種材料做成器件耐高壓的能力越強(qiáng)。除了更耐高壓,碳化硅基功率器件在開關(guān)頻率、散熱能力和損耗 等指標(biāo)上也遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于硅基器件。此外碳化硅材料能夠把器件體積做的越來越小,能量密度越來越大,這也是全球主要的半導(dǎo)體巨頭都在不斷研發(fā)碳化硅器件的重要原因。
②彎道超車已有先例:在傳統(tǒng) IGBT 領(lǐng)域,英飛凌占據(jù)了絕對優(yōu)勢。但由于英飛凌未向上游布局碳化硅襯底生產(chǎn)環(huán)節(jié)布局,其碳化硅 MOSFET 開發(fā)進(jìn)度明顯落后于科銳、羅姆公司,在碳化硅器件需求大增背景下,科銳彎道超車成了碳化硅功率器件第一,且碳化硅器件有取代IGBT的趨勢,有些專家紀(jì)要提出新能源汽車高續(xù)航需800V必須用碳化硅,充電效率可翻倍,目前400V還可用IGBT。國內(nèi)企業(yè)也是抓緊了布局碳化硅襯底,上市公司已計劃真金白銀砸了數(shù)百億。
碳化硅的特性
SiC 的絕緣擊穿場強(qiáng)是 Si 的 10 倍,因此與 Si 器件相比,能夠以更高的摻雜濃度并且膜厚更薄的漂移層制作出 600V~數(shù)千 V 的
高壓功率器件。高壓功率器件的電阻成分主要由該漂移層的電阻所組成,因此使用 SiC 材料可以實(shí)現(xiàn)單位面積導(dǎo)通電阻非常低的
高壓器件。理論上當(dāng)耐壓相等時,SiC 在單位面積下的漂移層電阻可以降低到 Si 的 1/300。對于 Si 材料來說,為了改善由于器件
高壓化所帶來的導(dǎo)通電阻增大的問題,主要使用例如 IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor:絕緣柵極雙極型晶體管)等少數(shù)載
流子器件(雙極型器件),但是卻存在開關(guān)損耗較大的問題,其結(jié)果是所產(chǎn)生的發(fā)熱問題限制了 IGBT 的高頻驅(qū)動應(yīng)用。SiC 材料
能夠以具有快速器件結(jié)構(gòu)特征的多數(shù)載流子器件(肖特基勢壘二極管和 MOSFET)實(shí)現(xiàn)高壓化,因此可以同時實(shí)現(xiàn)“高耐壓”、
“低導(dǎo)通電阻”、“高頻”這三個特性。
另外,SiC 的帶隙較寬、大約是 Si 的 3 倍,因此能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫條件下也可以穩(wěn)定工作的功率器件(目前由于受到封裝的耐熱
可靠性的制約,只保證到 150℃~175℃,但是隨著封裝技術(shù)的發(fā)展,將來也可能達(dá)到 200℃以上的保證溫度)。