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[導(dǎo)讀]4月28日,杭州廣立微電子股份有限公司發(fā)布了DATAEXP-YMS、DATAEXP-DMS及DATAEXP-General等多款產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)了公司大數(shù)據(jù)平臺DATAEXP的全線升級。

4月28日,杭州廣立微電子股份有限公司(簡稱“廣立微”)在上海成功舉辦了“Semitronix DATAEXP User Forum暨新品發(fā)布會”。會上,廣立微重磅發(fā)布了DATAEXP-YMS、DATAEXP-DMS及DATAEXP-General等多款產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)了公司大數(shù)據(jù)平臺DATAEXP的全線升級。發(fā)布會現(xiàn)場,開發(fā)團(tuán)隊(duì)的人員還詳細(xì)展示了DATAEXP全新升級后的功能亮點(diǎn)和適配場景,為在場的業(yè)內(nèi)人士帶來了一場精彩的技術(shù)分享。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

成品率管理系統(tǒng)(YMS,Yield Management System)屬于半導(dǎo)體工業(yè)軟件中重要的一部分,被IDM、Fab、Fabless和OEM企業(yè)所廣泛使用,市場需求廣泛。在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,工藝缺陷的檢測分析對良率(Yield)有著重大影響,目前不少晶圓制造企業(yè)所使用的相關(guān)產(chǎn)品存在著兼容性低、難以擴(kuò)展和定制化、大數(shù)據(jù)分析能力缺失以及服務(wù)響應(yīng)慢等諸多問題。

針對半導(dǎo)體數(shù)據(jù)分析的市場痛點(diǎn),廣立微經(jīng)過多年的潛心研究,開發(fā)出包括DATAEXP-General、YMS、DMS、FDC等多款大數(shù)據(jù)分析工具,這些產(chǎn)品具備強(qiáng)大的數(shù)據(jù)底座及前沿的機(jī)器學(xué)習(xí)和算法能力,投入市場后獲得了良好的用戶反饋,打破了海外廠商的壟斷,在技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了國際領(lǐng)先。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

升級后的新版DATAEXP -General軟件UI交互進(jìn)行了全新設(shè)計(jì),結(jié)合運(yùn)行速度的提升,為用戶提供了更加優(yōu)越的使用體驗(yàn)。在優(yōu)化功能的同時,新版DATAEXP-General新增了多種數(shù)據(jù)可視化方法以及統(tǒng)計(jì)分析模塊,為用戶提供了更加強(qiáng)大并且靈活的數(shù)據(jù)分析平臺。與此同時,DATAEXP-General重磅發(fā)布了BS架構(gòu)的云端版本,在客戶端版本的基礎(chǔ)上,額外提供了數(shù)字分析資產(chǎn)集中管理能力,數(shù)字報(bào)告自動生成能力以及YMS-Lite數(shù)據(jù)分析平臺低代碼搭建能力。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

廣立微開發(fā)的DATAEXP-YMS系統(tǒng)具有芯片全生命周期的數(shù)據(jù)管理、分析和追溯的功能,支持集成電路生產(chǎn)制造過程中的CP、FT、WAT、INLINE、DEFECT、封裝測試等多類型數(shù)據(jù)的智能化分析。依托公司在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的深厚積累,該系統(tǒng)具有強(qiáng)大的算法支撐和數(shù)據(jù)處理能力,能夠一鍵式排查良率的影響因素,并快速完成底層數(shù)據(jù)清洗、連接、整合工作,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)線數(shù)據(jù)的高效分析,可顯著加快客戶提升良率、完成工藝開發(fā)的進(jìn)度。在本次發(fā)布會還首次推出了DATAEXP-YMS Lite版軟硬件一體機(jī)。該產(chǎn)品支持國產(chǎn)ARM服務(wù)器底座,能夠并與合作伙伴相互配合形成Lite-YMS解決方案,為客戶提供軟硬件一站式部署,在更低成本,更易維護(hù)的基礎(chǔ)上,提供更安全更可靠更高效的數(shù)據(jù)管理分析方案。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

廣立微DataExp-YMS系統(tǒng)智能化分析數(shù)據(jù)的類型

會上,廣立微還首次展示了DATAEXP-DMS缺陷數(shù)據(jù)管理與分析系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過MPP數(shù)據(jù)庫和微服務(wù)技術(shù),分別在數(shù)據(jù)層和應(yīng)用層提供高穩(wěn)定性、高可用性和高擴(kuò)展性。依靠分布式系統(tǒng)的強(qiáng)大計(jì)算能力,結(jié)合簡潔易用的界面,用戶可以輕松高效地檢索、查驗(yàn)、分類缺陷數(shù)據(jù),在跨module分析方面,提供了全新的用戶體驗(yàn),可快速、全面、系統(tǒng)地查找缺陷來源,并預(yù)測良率殺傷率(Kill Ratio & Yield Impact)?;谇把氐娜斯ぶ悄芤曈X技術(shù),自主研發(fā)的缺陷自動分類系統(tǒng)(ADC - Auto Defect Classification),具備defect高識別精度和快速部署能力,已在多家半導(dǎo)體廠中使用。其分類的平均準(zhǔn)確度和平均召回率均99.5%以上,關(guān)鍵缺陷漏檢率和誤檢率均小于0.3%,節(jié)約人工檢測成本高達(dá)95%,提高問題定位效率25倍以上?;谶@些優(yōu)勢,廣立微DE-DMS系統(tǒng)已在國內(nèi)多個大型晶圓廠中得到應(yīng)用,取得了良好的實(shí)際效果。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

廣立微的DataExp-DMS一鍵批量完成缺陷數(shù)據(jù)與良率關(guān)聯(lián)性分析,為低良率問題提供快速溯源性分析

廣立微新發(fā)布的DATAEXP-FDC系統(tǒng)在工廠中收集各種設(shè)備傳感器、Event Report和機(jī)臺Alarm數(shù)據(jù)。具備高可用、高并發(fā)、可擴(kuò)展的特性并保障實(shí)時數(shù)據(jù)流穩(wěn)定的分析計(jì)算。一站式的解決方案提供了豐富的數(shù)據(jù)采集計(jì)劃和靈活的數(shù)據(jù)分析計(jì)算模型,融合AI助力實(shí)現(xiàn)Feature AutoSpec變更以及Raw Trace動態(tài)的Spec的控制。系統(tǒng)打造了專業(yè)的數(shù)據(jù)管理平臺支持高級圖表分析、Tool Matching、Auto Report,幫助用戶實(shí)現(xiàn)機(jī)臺問題的根因查找、追溯、預(yù)防和預(yù)測。

廣立微大數(shù)據(jù)平臺全線升級 為芯片全生命周期保駕護(hù)航

廣立微DataExp-FDC系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)Alarm -> Feature -> RawTrace的分析

以上四大產(chǎn)品各司其職,相互配合,形成功能完整的工具鏈,覆蓋了良率相關(guān)的各個環(huán)節(jié)的數(shù)據(jù)分析、診斷、監(jiān)控及預(yù)警,能夠?qū)A繑?shù)據(jù)進(jìn)行高效的關(guān)聯(lián)解析,快速準(zhǔn)確地識別定位良率問題,從而幫助用戶及時采取措施,提前應(yīng)對潛在風(fēng)險(xiǎn),加速良率提升,保障產(chǎn)品良率的穩(wěn)定性。同時,DATAEXP系列產(chǎn)品還能夠與公司的EDA產(chǎn)品、WAT測試設(shè)備之間相互賦能,提供完整先進(jìn)的良率提升解決方案。這些方案已廣泛進(jìn)入了國內(nèi)外一流的集成電路設(shè)計(jì)、制造、封裝企業(yè),正逐步幫助客戶實(shí)現(xiàn)晶圓制造全流程數(shù)據(jù)分析控制,助力行業(yè)整體技術(shù)和工藝水平的提升。

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