探索前沿技術 推動產(chǎn)業(yè)發(fā)展，東方晶源受邀參加第七屆國際先進光刻技術研討會

10月25日，第七屆國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)在浙江麗水盛大開幕。在為期兩天的會議中，數(shù)十家機構的嘉賓分別圍繞計算光刻、DTCO、EUV、工藝、量測、Deep Learning、設備、材料、新型光刻技術等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰(zhàn)。自2017年以來，IWAPS已經(jīng)在全國各地成功舉辦六屆。會議投稿、會議報告與參會人數(shù)逐年增加，行業(yè)反響熱烈，已成為國內高端光刻技術領域的重要會議。

作為國內計算光刻及電子束量測檢測領域的先行者、領導者、探索者，東方晶源受邀參會，通過兩場重磅演講與大家分享在應對產(chǎn)業(yè)發(fā)展瓶頸方面的新思路、新努力和新成果，展現(xiàn)出其所在領域的先進水平。

在第一天的會議中，東方晶源董事長兼CTO俞宗強博士帶來題為《HPOTM EDA-Plus Enables An Ultimate DTCO》的演講。設計制造一體化良率提升解決方案HPOTM由俞宗強博士在2014年創(chuàng)建東方晶源伊始首次提出。經(jīng)過近十年的不懈努力，該理念已在電子束圖像系統(tǒng)(SEM)、計算光刻(OPC)和布局布線技術(P&R)等核心技術取得實際突破，為設計到制造環(huán)節(jié)雙向數(shù)據(jù)交流進而構建全局優(yōu)化解決方案奠定了堅實的基礎。演講中，俞宗強博士展現(xiàn)了HPOTM 核心理念和關鍵技術，并通過實例演示該解決方案在提高良品率和芯片性能方面取得的顯著成效。俞宗強博士表示：東方晶源是唯一一家能夠全面提供P&R、OPC、量測、檢驗和良率管理系統(tǒng)和工具的公司，這種獨特性使我們能夠提供與眾不同的設計制造協(xié)同優(yōu)化解決新方案。

在第二天的專題報告中，東方晶源的技術專家?guī)眍}為《Extending DR-SEM Inspection Capacities and Applications with the Introduction of D2DB Technology》的分享。隨著半導體工藝技術的快速發(fā)展，使用D2D等傳統(tǒng)算法的DR-SEM在對復雜區(qū)域、更細微缺陷進行復檢時面臨挑戰(zhàn)。D2DB將設計版圖信息作為缺陷檢測的參考，在檢測systematic defects, hard defects, soft defects和pattern drift等方面具有顯著優(yōu)勢，克服了傳統(tǒng)算法在檢測重復缺陷和系統(tǒng)缺陷的局限性。本次報告分享了東方晶源基于D2DB技術進行缺陷檢測的具體實施過程，通過實驗及晶圓廠驗證，展現(xiàn)出東方晶源D2DB方法在缺陷檢測、OPC熱點驗證、長期CD監(jiān)控及DTCO優(yōu)化等方面的有效性和優(yōu)勢。值得一提的是，該論文已被全球最大的非盈利性專業(yè)技術學會IEEE所收錄。

東方晶源成立至今，一直致力于解決集成電路制造良率管理問題，在計算光刻軟件及電子束量測檢測領域成績斐然。通過本次大會的技術分享，不僅展現(xiàn)出東方晶源在上述領域的絕對領先性，更體現(xiàn)出不斷優(yōu)化、不斷探索、不斷創(chuàng)新的企業(yè)精神。正如俞宗強博士所言：未來，東方晶源將繼續(xù)在HPOTM系統(tǒng)中添加更多工具，最終建立一個創(chuàng)新的平臺以提高芯片制造良率并降低成本，為國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻更多“晶源力量”。