[導(dǎo)讀]上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實現(xiàn)了目前最先進的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。
上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實現(xiàn)了目前最先進的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。
據(jù)悉，納米壓印技術(shù)采用與傳統(tǒng)投影曝光技術(shù)不同的方法形成電路圖案，該設(shè)備不僅功耗更低、更環(huán)保，而且成本遠低于現(xiàn)階段 ASML 的 EUV 光刻機，佳能表示未來要擴大該類半導(dǎo)體設(shè)備的陣容來覆蓋廣泛的市場需求。
佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在最新的采訪中表示，這項新的納米壓印技術(shù)將為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進芯片開辟一條道路。盡管目前佳能尚未做出最終定價決定，但是三井藤夫表示其價格將比 ASML 的 EUV 光刻機低一個數(shù)量級。
佳能在推動納米技術(shù)量產(chǎn) NAND 的同時將納米壓印量產(chǎn)技術(shù)應(yīng)用于制造 DRAM 及PC 用的CPU 等邏輯芯片的設(shè)備上，目前在日本東京北部的宇都宮建造設(shè)備廠。佳能未來希望將其應(yīng)用于先進制程的手機處理器以供應(yīng)更多的芯片代工廠，進一步蠶食 ASML 的市場份額。
佳能CEO三井藤夫也在最新的采訪中表示，佳能可能無法將這些（基于納米壓印技術(shù)的）芯片制造設(shè)備出口到中國：“我的理解是，任何超過14nm技術(shù)的出口都是被禁止的，所以我認為我們無法銷售?！?
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