佳能 CEO：納米壓印“光刻機(jī)”無法出口中國！

上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。

據(jù)悉，納米壓印技術(shù)采用與傳統(tǒng)投影曝光技術(shù)不同的方法形成電路圖案，該設(shè)備不僅功耗更低、更環(huán)保，而且成本遠(yuǎn)低于現(xiàn)階段 ASML 的 EUV 光刻機(jī)，佳能表示未來要擴(kuò)大該類半導(dǎo)體設(shè)備的陣容來覆蓋廣泛的市場需求。

佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在最新的采訪中表示，這項新的納米壓印技術(shù)將為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開辟一條道路。盡管目前佳能尚未做出最終定價決定，但是三井藤夫表示其價格將比 ASML 的 EUV 光刻機(jī)低一個數(shù)量級。

佳能在推動納米技術(shù)量產(chǎn) NAND 的同時將納米壓印量產(chǎn)技術(shù)應(yīng)用于制造 DRAM 及PC 用的CPU 等邏輯芯片的設(shè)備上，目前在日本東京北部的宇都宮建造設(shè)備廠。佳能未來希望將其應(yīng)用于先進(jìn)制程的手機(jī)處理器以供應(yīng)更多的芯片代工廠，進(jìn)一步蠶食 ASML 的市場份額。

佳能CEO三井藤夫也在最新的采訪中表示，佳能可能無法將這些（基于納米壓印技術(shù)的）芯片制造設(shè)備出口到中國：“我的理解是，任何超過14nm技術(shù)的出口都是被禁止的，所以我認(rèn)為我們無法銷售。”