美國(guó)芯片大廠或?qū)⒉捎眉{米壓印光刻機(jī)!
業(yè)內(nèi)消息,近日美國(guó)存儲(chǔ)芯片大廠美光計(jì)劃首先采用日本佳能的納米壓?。∟IL)光刻機(jī),旨在通過(guò)佳能的納米壓印光刻機(jī)設(shè)備來(lái)進(jìn)一步降低生產(chǎn)DRAM存儲(chǔ)器的成本。
由于光學(xué)系統(tǒng)特性,DRAM層圖案很難用光學(xué)曝光圖案,納米壓印可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的圖案,且成本是浸潤(rùn)式光刻的20%,成為較佳的解決方案。但納米壓印并不能在存儲(chǔ)器生產(chǎn)所有階段取代傳統(tǒng)光刻,兩者并非純粹競(jìng)爭(zhēng)關(guān)系,但至少可以降低部分技術(shù)操作成本。
此前美光科技舉辦講會(huì),介紹納米壓印技術(shù)用于DRAM生產(chǎn)的細(xì)節(jié)。美光闡述了DRAM制程和浸潤(rùn)式曝光解析度的問(wèn)題,通過(guò)Chop層數(shù)不斷增加,必須增加更多曝光步驟,以取出密集存儲(chǔ)陣列周?chē)奶撝媒Y(jié)構(gòu)。
佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機(jī),可將電路圖案直接印在晶圓上,佳能強(qiáng)調(diào)了該設(shè)備的低成本和低功耗,號(hào)稱(chēng)通過(guò)納米壓印光刻(NIL)技術(shù)實(shí)現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝,使該設(shè)備的前景成為行業(yè)爭(zhēng)論的話(huà)題。
佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)部長(zhǎng)Iwamoto Kazunori在解釋納米壓印技術(shù)時(shí)表示,納米壓印技術(shù)就是把刻有半導(dǎo)體電路圖的掩模壓印到晶圓上。在晶圓上只壓印一次,就可以在合適的位置形成復(fù)雜的2D或3D電路。如果改進(jìn)掩模,甚至可以生產(chǎn)電路線寬達(dá)到2nm節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品。目前,佳能的納米壓印技術(shù)使圖案的最小線寬對(duì)應(yīng)5nm節(jié)點(diǎn)邏輯半導(dǎo)體。