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[導(dǎo)讀]1、Additive Process 加成法指非導(dǎo)體的基板表面,在另加阻劑的協(xié)助下,以化學(xué)銅層進(jìn)行局部導(dǎo)體線路的直接生長(zhǎng)制程(詳見(jiàn)電路板信息雜志第 47 期 P.62)。電路板所用的加成法又可分為全加成、半加成及部份加成等不同方式

1、Additive Process 加成法

指非導(dǎo)體的基板表面,在另加阻劑的協(xié)助下,以化學(xué)銅層進(jìn)行局部導(dǎo)體線路的直接生長(zhǎng)制程(詳見(jiàn)電路板信息雜志第 47 期 P.62)。電路板所用的加成法又可分為全加成、半加成及部份加成等不同方式。

2、Backpanels,Backplanes 支撐板

是一種厚度較厚(如 0.093",0.125")的電路板,專(zhuān)門(mén)用以插接聯(lián)絡(luò)其它的板子。其做法是先插入多腳連接器(Connector)在緊迫的通孔中,但并不焊錫,而在連接器穿過(guò)板子的各導(dǎo)針上,再以繞線方式逐一接線。連接器上又可另行插入一般的電路板。由于這種特殊的板子,其通孔不能焊錫,而是讓孔壁與導(dǎo)針直接卡緊使用,故其品質(zhì)及孔徑要求都特別嚴(yán)格,其訂單量又不是很多,一般電路板廠都不愿也不易接這種訂單,在美國(guó)幾乎成了一種高品級(jí)的專(zhuān)門(mén)行業(yè)。

3、Build Up Process 增層法制程

這是一種全新領(lǐng)域的薄形多層板做法,最早啟蒙是源自 IBM 的SLC 制程,系于其日本的 Yasu 工廠 1989 年開(kāi)始試產(chǎn)的,該法是以傳統(tǒng)雙面板為基礎(chǔ),自?xún)赏獍迕嫦热嫱坎家簯B(tài)感光前質(zhì)如Probmer 52,經(jīng)半硬化與感光解像后,做出與下一底層相通的淺形"感光導(dǎo)孔"(Photo-Via) ,再進(jìn)行化學(xué)銅與電鍍銅的全面增加導(dǎo)體層,又經(jīng)線路成像與蝕刻后,可得到新式導(dǎo)線及與底層互連的埋孔或盲孔。如此反復(fù)加層將可得到所需層數(shù)的多層板。此法不但可免除成本昂貴的機(jī)械鉆孔費(fèi)用,而且其孔徑更可縮小至10mil以下。過(guò)去5~6年間,各類(lèi)打破傳統(tǒng)改采逐次增層的多層板技術(shù),在美日歐業(yè)者不斷推動(dòng)之下,使得此等 Build Up Process 聲名大噪,已有產(chǎn)品上市者亦達(dá)十余種之多。除上述"感光成孔"外;尚有去除孔位銅皮后,針對(duì)有機(jī)板材的堿性化學(xué)品咬孔、雷射燒孔 ( Laser Ablation ) 、以及電漿蝕孔 ( Plasma Etching )等不同"成孔"途徑。而且也可另采半硬化樹(shù)脂涂布的新式"背膠銅箔" (Resin Coated Copper Foil ) ,利用逐次壓合方式 ( Sequential Lamination ) 做成更細(xì)更密又小又薄的多層板。日后多樣化的個(gè)人電子產(chǎn)品,將成為這種真正輕薄短小多層板的天下。

4、Cermet 陶金

將陶瓷粉末與金屬粉末混合,再加入黏接劑做為種涂料,可在電路板面(或內(nèi)層上)以厚膜或薄膜的印刷方式,做為"電阻器"的布著安置,以代替組裝時(shí)的外加電阻器。

5、Co-Firing 共燒

是瓷質(zhì)混成電路板(Hybrid)的一個(gè)制程,將小型板面上已印刷各式貴金屬厚膜糊(Thick Film Paste)的線路,置于高溫中燒制。使厚膜糊中的各種有機(jī)載體被燒掉,而留下貴金屬導(dǎo)體的線路,以做為互連的導(dǎo)線。

6、Crossover越交,搭交

板面縱橫兩條導(dǎo)線之立體交叉,交點(diǎn)落差之間填充有絕緣介質(zhì)者稱(chēng)之。一般單面板綠漆表面另加碳膜跳線,或增層法之上下面布線均屬此等"越交"。

7、Discreate Wiring Board散線電路板,復(fù)線板

即Multi-Wiring Board的另一說(shuō)法,是以圓形的漆包線在板面貼附并加通孔而成。此種復(fù)線板在高頻傳輸線方面的性能,比一般PCB經(jīng)蝕刻而成的扁方形線路更好。

8、DYCOstrate電漿蝕孔增層法

是位于瑞士蘇黎士的一家Dyconex公司所開(kāi)發(fā)的Build up Process。系將板面各孔位處的銅箔先行蝕除,再置于密閉真空環(huán)境中,并充入CF4、N2、O2,使在高電壓下進(jìn)行電離形成活性極高的電漿(Plasma),用以蝕穿孔位之基材,而出現(xiàn)微小導(dǎo)孔 (10mil以下) 的專(zhuān)利方法,其商業(yè)制程稱(chēng)為DYCOstrate。

9、Electro-Deposited Photoresist電著光阻,電泳光阻

是一種新式的"感光阻劑"施工法,原用于外形復(fù)雜金屬物品的"電著漆"方面,最近才引進(jìn)到"光阻"的應(yīng)用上。系采電鍍方式將感旋光性帶電樹(shù)脂帶電膠體粒子,均勻的鍍?cè)陔娐钒邈~面上,當(dāng)成抗蝕刻的阻劑。目前已在內(nèi)層板直接蝕銅制程中開(kāi)始量產(chǎn)使用。此種ED光阻按操作方法不同,可分別放置在陽(yáng)極或陰極的施工法,稱(chēng)為"陽(yáng)極式電著光阻"及"陰極式電著光阻"。又可按其感光原理不同而有"感光聚合"(負(fù)性工作Negative Working )及"感光分解"(正性工作Positive Working)等兩型。目前負(fù)型工作的ED光阻已經(jīng)商業(yè)化,但只能當(dāng)做平面性阻劑,通孔中因感光因難故尚無(wú)法用于外層板的影像轉(zhuǎn)移。至于能夠用做外層板光阻劑的"正型ED"(因?qū)俑泄夥纸庵つ?,故孔壁上雖感光不足但并無(wú)影響),目前日本業(yè)者仍正在加緊努力,希望能夠展開(kāi)商業(yè)化量產(chǎn)用途,使細(xì)線路的制作比較容易達(dá)成。此詞亦稱(chēng)為"電泳光阻"(Electrothoretic Photoresist)。

10、Flush Conductor 嵌入式線路,貼平式導(dǎo)體

是一外表全面平坦,而將所有導(dǎo)體線路都?jí)喝氚宀闹械奶厥怆娐钒?。其單面板的做法是在半硬?Semi Cured)的基材板上,先以影像轉(zhuǎn)移法把板面部份銅箔蝕去而得到線路。再以高溫高壓方式將板面線路壓入半硬化的板材之中,同時(shí)可完成板材樹(shù)脂的硬化作業(yè),成為線路縮入表面內(nèi)而呈全部平坦的電路板。通常這種板子已縮入的線路表面上,還需要再微蝕掉一層薄銅層,以便另鍍0.3mil的鎳層,及20微吋的銠層,或10微吋的金層,使在執(zhí)行滑動(dòng)接觸時(shí),其接觸電阻得以更低,也更容易滑動(dòng)。但此法郄不宜做PTH,以防壓入時(shí)將通孔擠破,且這種板子要達(dá)到表面完全平滑并不容易,也不能在高溫中使用,以防樹(shù)脂膨脹后再將線路頂出表面來(lái)。此種技術(shù)又稱(chēng)為Etch and Push法,其完工的板子稱(chēng)為Flush-Bonded Board,可用于RotarySwitch及Wiping Contacts等特殊用途。

11、Frit玻璃熔料

在厚膜糊 (Poly Thick Film, PTF)印膏中,除貴金屬化學(xué)品外,尚需加入玻璃粉類(lèi),以便在高溫焚熔中發(fā)揮凝聚與附著效果,使空白陶瓷基板上的印膏,能形成牢固的貴金屬電路系統(tǒng)。

12、Fully-Additive Process 全加成法

是在完全絕緣的板材面上,以無(wú)電沉積金屬法(絕大多數(shù)是化學(xué)銅),生長(zhǎng)出選擇性電路的做法,稱(chēng)之為"全加成法"。另有一種不太正確的說(shuō)法是"Fully Electroless"法。

13、Hybrid Integrated Circuit 混成電路

是一種在小型瓷質(zhì)薄基板上,以印刷方式施加貴金屬導(dǎo)電油墨之線路,再經(jīng)高溫將油墨中的有機(jī)物燒走,而在板面留下導(dǎo)體線路,并可進(jìn)行表面黏裝零件的焊接。是一種介乎印刷電路板與半導(dǎo)體集成電路器之間,屬于厚膜技術(shù)的電路載體。早期曾用于軍事或高頻用途,近年來(lái)由于價(jià)格甚貴且軍用日減,且不易自動(dòng)化生產(chǎn),再加上電路板的日趨小型化精密化之下,已使得此種 Hybrid 的成長(zhǎng)大大不如早年。

14、Interposer互連導(dǎo)電物

指絕緣物體所承載之任何兩層導(dǎo)體間,其待導(dǎo)通處經(jīng)加填某些導(dǎo)電類(lèi)填充物而得以導(dǎo)通者,均稱(chēng)為Interposer。如多層板之裸孔中,若填充銀膏或銅膏等代替正統(tǒng)銅孔壁者,或垂直單向?qū)щ娔z層等物料,均屬此類(lèi)Interposer。

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