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[導(dǎo)讀]標(biāo)簽:射頻集成 RFIC文章主要介紹了當(dāng)前射頻集成電路研究中的半導(dǎo)體技術(shù)和CAD技術(shù),并比較和討論了硅器件和砷化鎵器件、射頻集成電路CAD和傳統(tǒng)電路CAD的各自特點。近年來,無線通信市場的蓬勃發(fā)展,特別是移動電話、

標(biāo)簽:射頻集成  RFIC

文章主要介紹了當(dāng)前射頻集成電路研究中的半導(dǎo)體技術(shù)和CAD技術(shù),并比較和討論了硅器件和砷化鎵器件、射頻集成電路CAD和傳統(tǒng)電路CAD的各自特點。

近年來,無線通信市場的蓬勃發(fā)展,特別是移動電話、無線因特網(wǎng)接入業(yè)務(wù)的興起使人們對無線通信技術(shù)提出了更高的要求。體積小、重量輕、低功耗和低成本是無線通信終端發(fā)展的方向,射頻集成電路技術(shù)(RFIC)在其中扮演著關(guān)鍵角色。RFIC的出現(xiàn)和發(fā)展對半導(dǎo)體器件、射頻電路分析方法,乃至接收機系統(tǒng)結(jié)構(gòu)都提出了新的要求。

半導(dǎo)體器件技術(shù)

在RF領(lǐng)域中, 性能、工藝的要求要比數(shù)字集成電路本身復(fù)雜得多。其中,功耗、速度、成品率是最主要的參數(shù)。同時,RF IC還要考慮到噪聲(寬帶和窄帶)、線性度、增益和功效。這樣, 應(yīng)用于RF IC中的優(yōu)化器件一直在不斷完善和發(fā)展。不同的RF功能部分將在不同的半導(dǎo)體器件工藝上實現(xiàn)。目前,RFIC中使用的半導(dǎo)體工藝主要有Si、SiGe、 GaAs和InP。

● 硅器件:硅集成電路計有硅雙極晶體管(Si-Bipolar Transistor)、硅-互補式金氧半導(dǎo)體(Si-CMOS)、硅雙極互補式金氧半導(dǎo)體(Bi-CMOS)或硅鍺異質(zhì)接面雙極晶體管(SiGe HBT)。

目前通信的頻率大抵在2 GHz以下,除功率放大器外,硅集成電路在射頻/中頻模塊較占優(yōu)勢,硅工藝因具有大量的產(chǎn)能,可以由射頻/中頻/基頻組成單芯片混合模式集成電路 (single chip mixed mode IC),并且可以單電源操作,在價格、積體化程度上遠(yuǎn)超過砷化鎵器件,砷化鎵與硅集成電路,因為材料特性的不同,設(shè)計的方法也大不相同,硅材料由于沒有半絕緣基板(Semi-insulation substrate),等于在一個高損耗的基板上做電路設(shè)計,再加上器件本身的增益較低,若要達到與砷化鎵相當(dāng)?shù)母哳l電性,硅RFIC全系于晶體管微小化 (如次微米RF CMOS)或材料結(jié)構(gòu)的改善(如SiGe異質(zhì)接面晶體管),來提高器件的特征頻率fT。也必須借助溝槽隔離(trench isolation)等工藝,提高電路間的隔離度與Q值,工藝繁復(fù)、光罩?jǐn)?shù)眾多,不良率與成本也大幅提高,高頻模型也因為雜散效應(yīng)明顯,不易掌握。目前硅工藝已可勝任超過5 GHz以上的RFIC,但對具低噪聲放大器、高功率放大器與開關(guān)器等射頻前端仍有不足,故硅工藝的器件,將被定位于中頻模塊或低層(low tier)的射頻模塊。

需要特別指出的是,在無線收發(fā)器中,數(shù)字信號處理部分使用標(biāo)準(zhǔn)Si-CMOS工藝,通常占到芯片面積的75%以上,集成度及功耗等指標(biāo)的要求使得他不可能用CMOS以外的其他工藝實現(xiàn),所以只有實現(xiàn)CMOS集成射頻前端,才能實現(xiàn)單片集成的收發(fā)器并最終實現(xiàn)單片集成的移動通信產(chǎn)品。目前隨著CMOS 工藝的發(fā)展,它的單位增益截止頻率已經(jīng)接近GaAs水平,同時出現(xiàn)了一些采用CMOS工藝實現(xiàn)的射頻前端的單元電路及收發(fā)器。這也使得采用CMOS工藝實現(xiàn)移動通信產(chǎn)品的單芯片集成成為可能。此外,CMOS工藝與其它工藝相比,集成度更高,成本低,功耗低,使得對它成為RFIC發(fā)展的主流方向。

● 砷化鎵器件:砷化鎵器件在高頻、高功率、高效率、低噪聲指數(shù)的電氣特性均遠(yuǎn)超過硅器件,空乏型砷化鎵場效晶體管(MESFET)或高電子遷移率晶體管 (HEMT/PHEMT),在3 V電壓操作下可以有80 %的功率增加效率(PAE: power added efficiency),非常適用于高層(high tier)的無線通信中長距離、長通信時間的需求,然而二者皆需要負(fù)電源,將增加產(chǎn)品使用的成本,HEMT器件繁復(fù)的長晶與閘級寬度的控制,也影響工藝之一致性及易產(chǎn)性。增進型(enhancement mode) E-mode MESFET/ HEMT,因為無需負(fù)電源,同時可維持其功率放大器之優(yōu)良特性,惟其輸出功率將被限制。異質(zhì)雙極晶體管(HBT)是另外一無需負(fù)電源的砷化鎵器件,其功率密度(power density)、電流推動能力(current drive capability)與線性度(linearity)均超過FET,適合設(shè)計高功率、高效率、高線性度的微波放大器,HBT為最佳器件的選擇。而HBT 器件在相位噪聲,高gm、高功率密度、崩潰電壓與線性度上占優(yōu)勢,另外它可以單電源操作,因而簡化電路設(shè)計及次系統(tǒng)實現(xiàn)的難度,十分適合于射頻及中頻收發(fā)模塊的研制,特別是微波信號源與高線性放大器等電路。

電路CAD技術(shù)

對集成電路設(shè)計來說,設(shè)計方法和高水平的計算機輔助設(shè)計工具是成功的關(guān)鍵。對于通常的VLSI,有包括從綜合、模擬、版圖設(shè)計、驗證、測試生成等在內(nèi)的一系列工具來支持整個設(shè)計過程。但對RFIC,目前尚不具備一整套完善的CAD工具,主要的前端設(shè)計工具是電路級的模擬或仿真。

SPICE仿真的不足e#●SPICE仿真的不足

通常的電路模擬使用的是以SPICE為代表的模擬技術(shù),它支持多種仿真。但由于RFIC的特點,用這類電路模擬技術(shù)存在很多困難。

首先,RFIC的設(shè)計指標(biāo)大多是電路處于穩(wěn)態(tài)時的指標(biāo),如功率增益、交調(diào)與畸變等,用SPICE的時域模擬必須經(jīng)過一個瞬態(tài)過程才能到達穩(wěn)態(tài),對有較長瞬態(tài)過程的電路,要耗費大量的計算。

其次RFIC通常存在兩個或多個頻率或變化速度相差懸殊的信號。典型的情況是混頻器,載頻與信號頻率往往相差幾個數(shù)量級。其它如PLL的捕捉過程,振蕩器的起振過程等,用SPICE來模擬這些情況效率都很低,因模擬所需時間取決于最慢分量,而時間步長取決于最快分量。

另外RFIC中存在互連、封裝等分布的寄生元件,SPICE也無法處理。這些元件準(zhǔn)確的特性要由電磁場分析給出,一般適宜在頻域中描述,不能直接用于時域中的分析。

最后,噪聲是決定IC系統(tǒng)性能,如信噪比,誤比特率的一個重要因素,但SPICE只能對線性放大器、且噪聲源為平穩(wěn)隨機過程的情形作噪聲分析,而對 RFIC系統(tǒng)中的非線性電路,如混頻器、振蕩器,因噪聲受到大信號的調(diào)制,統(tǒng)計特性不再是平穩(wěn)的,且混頻噪聲與振蕩器的相位噪聲特性不同,不能用 SPICE中線性電路的噪聲分析方法。

●RF電路仿真技術(shù)

由于上述原因,以SPICE為代表的傳統(tǒng)電路模擬無法滿足RFIC分析的需要。為此,在過去十幾年中發(fā)展了專門針對射頻與微波通信電路的模擬、仿真技術(shù)。

時域方法:時域仿真一般是在假設(shè)電路的穩(wěn)態(tài)相應(yīng)是周期的前提下求解電路時域微分方程組,即v(0)=v(T),其中,v是節(jié)點電壓向量,T是周期,v(0)是節(jié)點電壓零時刻的初始向量,v(T)是T時刻的節(jié)點電壓向量,然后找到使方程有周期解的初始狀態(tài)v(0)。對于激勵信號是周期信號的電路,周期T是已知量,但對于振蕩電路,它的周期一般是未知的,所以除了確定v(0)外,還要確定周期T。

解上述方程組最常用的方法是牛頓試射法。它的基本原理是:假設(shè)電路相應(yīng)的周期T已知,在某個初始狀態(tài)下,在周期T 內(nèi)對電路做傳統(tǒng)的電路瞬態(tài)分析,判斷v(0)=v(T)是否滿足,如不滿足,令v(0)=v(T),再做瞬態(tài)分析,如此迭代下去,直到找到滿足 v(0)=v(T)的初始狀態(tài)。

在上述過程中,要做大量的矩陣運算,因此這對電路的規(guī)模有限制,目前的仿真一般不超過300個節(jié)點。

試射法是時域中的方法,電路非線性的強弱或信號是否接近正弦不影響方程規(guī)模與內(nèi)存量,迭代的收斂性取決于v(T)與v(0)之間關(guān)系非線性的程度,而不是電路本身的非線性,因此對一些強非線性電路也能收斂。它的缺點是較難處理分立元件。在時域中,要想準(zhǔn)確地計算失真,需要選擇合適地仿真允差和算法。

諧波平衡法:諧波平衡是一種在頻域求電路穩(wěn)態(tài)響應(yīng)的方法。首先將信號表示成為傅立葉展開的形式,在節(jié)點處的各次諧波分量都列寫KCL方程組,把時域中的微分方程轉(zhuǎn)化為頻域中的代數(shù)方程,然后用牛頓迭代求解傅立葉系數(shù)。需要特別注意的是由于非線性元件的特性表示是在時域中的,因此它們的計算要先在時域中進行,再使用傅立葉變換將它們變換到頻域。而要計算時域的非線性電阻電流與非線性電容電荷,又要先用逆傅立葉變換將激勵信號V(ω)轉(zhuǎn)換到時域。

諧波平衡法實質(zhì)上是頻域中的非線性分析方法,適合于對非線性不強的電路做近似正弦的穩(wěn)態(tài)分析,如放大器的畸變與交調(diào)分析。當(dāng)電路的非線性較強時,就要取基波的很多次諧波分量來模擬失真的正弦信號,失真越大,取的諧波次數(shù)就越多,這樣就會使方程規(guī)模增大成非線性時的另一困難是迭代時更難收斂。

近年來為了加快分析速度,提高效率,以適RFIC的需要,在這兩種方法的基礎(chǔ)上有不少新的進展,如基于Krylov子空間迭代的方法、包絡(luò)分析法、多變量偏微分方程法等。有興趣的讀者可參考有關(guān)文獻。

結(jié)語

射頻集成電路的發(fā)展方向是更高的頻率應(yīng)用范圍和更寬的帶寬,這在實現(xiàn)上需要半導(dǎo)體技術(shù)新工藝的不斷發(fā)展,在設(shè)計中需要更加精確和可靠的CAD技術(shù)支持。

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