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[導(dǎo)讀]半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和制造涉及多種高端精密技術(shù),堪稱(chēng)工業(yè)制造皇冠上的明珠。 尤其是其中的光刻機(jī),是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,目前核心技術(shù)仍然把持在國(guó)外僅有的幾家大公司手中??上驳氖?,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠(chǎng)商正在奮力崛起,在提升國(guó)產(chǎn)集成及自研替代方



半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和制造涉及多種高端精密技術(shù),堪稱(chēng)工業(yè)制造皇冠上的明珠。


尤其是其中的光刻機(jī),是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,目前核心技術(shù)仍然把持在國(guó)外僅有的幾家大公司手中。可喜的是,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠(chǎng)商正在奮力崛起,在提升國(guó)產(chǎn)集成及自研替代方面取得重大突破。


最近,福建安芯半導(dǎo)體公司先后交付了兩臺(tái)價(jià)值近千萬(wàn)元的光刻機(jī),客戶(hù)分別是海康威視和用于 CMOS 領(lǐng)域研究國(guó)內(nèi)某研究所。


據(jù)了解,光刻機(jī)分為接觸式、接近式、步進(jìn)式。目前國(guó)內(nèi)使用較多的為步進(jìn)式光刻機(jī)。光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠(chǎng)家掌握,如 ASML、尼康、佳能。因此光刻機(jī)價(jià)格昂貴。


福建安芯半導(dǎo)體是福建泉州芯谷南安分園區(qū)引進(jìn)的首家高科技半導(dǎo)體設(shè)備公司,主要經(jīng)營(yíng)黃光設(shè)備設(shè)備翻新、改造和安裝調(diào)試,自主研發(fā)新黃光和蝕刻設(shè)備的銷(xiāo)售及技術(shù)支持,并提供半導(dǎo)體整線(xiàn)解決方案,產(chǎn)品涉獵集成電路、LED、MEMS、顯示面板、光伏等黃光設(shè)備領(lǐng)域。除了向客戶(hù)提供半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)設(shè)備總體解決方案的同時(shí),也向客戶(hù)提供先進(jìn)半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)、制造等技術(shù)咨詢(xún)。福建安芯半導(dǎo)體總經(jīng)理張琪表示,目前我們尚不能完全自主研發(fā),但通過(guò)改造、提升,實(shí)現(xiàn)了 60%至 70%的國(guó)產(chǎn)化。


除了光刻機(jī),半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)中還需要各種其他設(shè)備,刻蝕設(shè)備就是不可或缺的一項(xiàng)。最近有報(bào)道顯示,國(guó)內(nèi)的中微半導(dǎo)體設(shè)備公司已經(jīng)能夠生產(chǎn)高端刻蝕設(shè)備,其5nm刻蝕機(jī)已經(jīng)批量生產(chǎn),用于臺(tái)積電的5nm生產(chǎn)線(xiàn)中。


據(jù)官網(wǎng)介紹,中微半導(dǎo)體是一家以中國(guó)為基地、面向全球的微觀加工高端設(shè)備公司,為集成電路和泛半導(dǎo)體行業(yè)提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的高端設(shè)備和高質(zhì)量的服務(wù)。中微開(kāi)發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和化學(xué)薄膜設(shè)備是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備,可加工微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件。


根據(jù)該公司年報(bào),中微公司開(kāi)發(fā)的高端刻蝕設(shè)備已運(yùn)用在國(guó)際知名客戶(hù)65納米到7納米的芯片生產(chǎn)線(xiàn)上。同時(shí),公司根據(jù)先進(jìn)集成電路廠(chǎng)商的需求,已開(kāi)發(fā)出5納米刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工,并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶(hù)的批量訂單。雖然中微沒(méi)有明說(shuō),但業(yè)界猜測(cè)這家客戶(hù)就是臺(tái)積電,因?yàn)橹挥?a href="/tags/臺(tái)積電" target="_blank">臺(tái)積電量產(chǎn)了5nm工藝。


據(jù)了解,中微半導(dǎo)體目前正在配合客戶(hù)需求,開(kāi)發(fā)新一代刻蝕設(shè)備和包括更先進(jìn)大馬士革在內(nèi)的刻蝕工藝,能夠涵蓋5納米以下刻蝕需求和更多不同關(guān)鍵應(yīng)用的設(shè)備。

國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠(chǎng)商在崛起:5nm設(shè)備已拿下臺(tái)積電訂單


來(lái)源:王麗英整理

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