國產大型紫外3D直寫光刻設備下線，可用于大基板3D光刻

據蘇大維格官方透露，大型紫外3D直寫光刻設備iGrapher3000，在蘇大維格科技集團下線，并投入工業(yè)運行。iGrapher3000主要用于大基板上的微納結構形貌的3D光刻，是新穎材料、先進光電子器件的設計、研發(fā)和制造的全新平臺。

iGrapher3000此次安裝在維業(yè)達科技有限公司黃光車間，首個工業(yè)應用項目是大尺寸透明導電膜的深槽結構微電路模具，并將用于大面積平板成像、柔性導電器件和全息顯示與3D顯示研發(fā)和產業(yè)化應用。

蘇大維格主要從事微納關鍵技術、高端智能制造設備和功能材料的創(chuàng)新應用，是首批認證的國家高新技術企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設備MiScan200(8”~12”)、微納光學的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設備NanoCrystal(8”~32”)。

2020年1月10日，在國家科技獎勵大會上，蘇大維格承擔的“面向柔性光電子的微納制造關鍵技術與應用”成果，獲國家科技進步獎二等獎。