從設(shè)備和材料兩個(gè)環(huán)節(jié),分析我國芯片供應(yīng)鏈的發(fā)展水平
28nm技術(shù),這是當(dāng)下成熟制程與先進(jìn)制程的分界點(diǎn)。完全掌握了28nm技術(shù),就意味著市場(chǎng)上絕大部分的芯片需求,目前的芯片種類里,除了對(duì)功耗要求比較高的CPU,GPU,AI芯片外,其余的工業(yè)級(jí)芯片其實(shí)都是用的28nm以上的技術(shù)。比如電視、空調(diào)、汽車、高鐵、火箭、衛(wèi)星、工業(yè)機(jī)器人、電梯、醫(yī)療設(shè)備、智能手環(huán)、無人機(jī)等等,這些驅(qū)動(dòng)芯片的工藝,都是28nm以上的技術(shù)。
目前不僅中芯國際已經(jīng)掌握了28nm的量產(chǎn)能力,華虹半導(dǎo)體也在2018年實(shí)現(xiàn)了28nm芯片的量產(chǎn),就量產(chǎn)運(yùn)營能力而言,我國是有足夠儲(chǔ)備的。
從設(shè)備和材料兩個(gè)環(huán)節(jié),跟大家分析一下我國芯片供應(yīng)鏈的發(fā)展水平。
一、PART ONE 設(shè)備端
1)硅片設(shè)備
制作硅片,是芯片生產(chǎn)的第一道環(huán)節(jié),硅單晶爐是制作硅片的主要裝置。
晶盛機(jī)電是該領(lǐng)域龍頭,承擔(dān)過2項(xiàng)國家科技重大專項(xiàng),硅單晶爐技術(shù)領(lǐng)先,國內(nèi)高端市場(chǎng)占有率第一。
2019 年公司實(shí)現(xiàn)營收 31.09 億元,其中單晶爐實(shí)現(xiàn)營收21.73 億元,占比近 70%,毛利 8.29 億元,占比 74.93%。中環(huán)股份、滬硅產(chǎn)業(yè)、有研硅股等硅片企業(yè)都是其客戶。
今年上半年,公司完成了8英寸硬軸直拉硅單晶爐、6 英寸碳化硅單晶爐外延設(shè)備的開發(fā)。其中碳化硅單晶爐已經(jīng)交付客戶使用,外延設(shè)備、拋光設(shè)備完成技術(shù)驗(yàn)證,12英寸半導(dǎo)體單晶爐已經(jīng)在國內(nèi)知名客戶中產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
此外,公司增加了半導(dǎo)體拋光液、閥門、磁流體部件、16-32 英寸坩堝等新產(chǎn)品的研發(fā)和市場(chǎng)開拓力度,產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢(shì)逐步顯現(xiàn)。晶盛機(jī)電早年從光伏設(shè)備行業(yè)起步,逐步進(jìn)入半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,如今又從單一的硅單晶爐設(shè)備,向切片、拋光、外延設(shè)備等拓展,甚至研發(fā)出了第三代碳化硅半導(dǎo)體設(shè)備。
2)熱處理設(shè)備
熱處理設(shè)備包括臥式爐、立式爐和快速升溫爐(RTP)等,主要是對(duì)硅片進(jìn)行氧化、擴(kuò)散、退火等工藝處理。
北方華創(chuàng)是該領(lǐng)域龍頭,在熱處理設(shè)備的各個(gè)細(xì)分領(lǐng)域均有成熟的產(chǎn)品線。
今年上半年,公司在長江存儲(chǔ)獲得 3 臺(tái)硅刻蝕、3 臺(tái) PVD、2 臺(tái)爐管及 5 臺(tái)退火設(shè)備訂單,其中硅刻蝕設(shè)備市占率達(dá) 27%。同時(shí)在華虹系獲得 3 臺(tái)硅刻蝕、1 臺(tái) PVD 及 2 臺(tái)退火設(shè)備訂單;在積塔半導(dǎo)體獲得 2 臺(tái)刻蝕、4 臺(tái)氧化設(shè)備及 1 臺(tái)退火設(shè)備訂單。
北方華創(chuàng)不僅是熱處理設(shè)備的龍頭,還是光伏、鋰電、半導(dǎo)體的硅刻蝕、薄膜沉積、清洗設(shè)備,甚至第三代碳化硅半導(dǎo)體設(shè)備的龍頭之一。今年上半年,公司的碳化硅(SiC)長晶爐、刻蝕機(jī)、PVD、PECVD 等第三代半導(dǎo)體設(shè)備開始批量供應(yīng)市場(chǎng);
12 寸硅刻蝕機(jī)、金屬 PVD、立式氧化/退火爐、濕法清洗機(jī)等多款高端半導(dǎo)體設(shè)備也相繼進(jìn)入量產(chǎn)階段,研發(fā)成果有種下餃子的感覺。
3)光刻設(shè)備
光刻是晶圓生產(chǎn)的核心環(huán)節(jié),包括光刻機(jī)和涂膠顯影機(jī)。
我國的光刻機(jī)技術(shù)比較落后,最先進(jìn)的上海微電子也只能量產(chǎn)90nm的沉浸式光刻機(jī)。
據(jù)報(bào)道,上海微電子將在2021年完成首臺(tái)28nm國產(chǎn)光刻機(jī)的交付。為了加快我國光刻機(jī)技術(shù)的進(jìn)步,各方群策群力。
據(jù)悉,張江高科參與了上海微電子的A輪融資,投資成本為2.23億元。業(yè)內(nèi)預(yù)測(cè),考慮在不同市值和不同IPO攤薄比例的情景下,張江高科有望獲得26.6億元到54.9億元之間的稅后投資收益(所得稅率按25%)。
對(duì)我國光刻機(jī)技術(shù)形成瓶頸制約的,主要是光學(xué)精密元器件的落后。該領(lǐng)域的龍頭是茂萊光學(xué),目前已獲科創(chuàng)板IPO受理,主要產(chǎn)品包括精密光學(xué)器件、高端光學(xué)鏡頭和先進(jìn)光學(xué)系統(tǒng)三大類業(yè)務(wù),覆蓋深紫外DUV、可見光到遠(yuǎn)紅外全譜段。
茂萊光學(xué)是上海微電子的核心供應(yīng)商之一,2017-2019年,茂萊光學(xué)實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入分別為1.52億元、1.84億元及2.22億元,復(fù)合增長率達(dá)20.82%。根據(jù)招股書,2019年公司實(shí)現(xiàn)了大視場(chǎng)大數(shù)值孔徑顯微物鏡系列產(chǎn)品、高精度快速半導(dǎo)體制造工藝缺陷檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)的量產(chǎn)。
同時(shí),也在不斷突破紫外光學(xué)的加工和鍍膜、大口徑高精度透鏡加工等各類技術(shù),推進(jìn)大口徑干涉系統(tǒng)、光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)、車載激光雷達(dá)等高端鏡頭和系統(tǒng)的國產(chǎn)化研發(fā)。
除了在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的開拓,公司在AR/VR、自動(dòng)駕駛等領(lǐng)域,也成功進(jìn)入了微軟、臉譜、谷歌旗下自動(dòng)駕駛平臺(tái)的供應(yīng)鏈體系。
在涂膠顯影機(jī)領(lǐng)域,芯源微是行業(yè)龍頭。
在國內(nèi)的涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)上,日本東京電子壟斷了90%的份額,芯源微的市占率為5%左右,是我國唯一能突破28nm技術(shù)的公司。光刻機(jī)是主要瓶頸,茂萊光學(xué)的深紫外DUV光學(xué)技術(shù)正在研發(fā)中。
4)刻蝕設(shè)備
刻蝕是硅片進(jìn)行光刻之后最重要的流程,包括硅刻蝕、金屬刻蝕和介質(zhì)刻蝕設(shè)備等。
目前,我國的刻蝕設(shè)備是比較先進(jìn)的,中微公司的第二代電介質(zhì)刻蝕設(shè)備已廣泛應(yīng)用于28到7nm后段制程以及10nm前段制程,北方華創(chuàng)的硅刻蝕機(jī)也在14nm工藝上取得了重大進(jìn)展。
中微公司是該領(lǐng)域的龍頭,2020 年上半年公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入 9.78 億元,同比增 22.14%,實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤 1.19 億元,同比增 291.98%。
其中,刻蝕設(shè)備營收約 6.13 億元,同比增長約72.53%,在整體營收中占比超過一半。
公司是國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)投入強(qiáng)度最大的公司之一,最新定增融資約100億元,用于研發(fā)7nm 以下制程的 CCP 刻蝕設(shè)備、介質(zhì)刻蝕設(shè)備、高端 MEMS 等離子體刻蝕設(shè)備、先進(jìn)3nm技術(shù)的多晶硅刻蝕、3D NAND 多層臺(tái)階刻蝕、ALE 原子層刻蝕設(shè)備、CVD 設(shè)備等。
5)離子注入設(shè)備
硅片刻蝕后,需要將一些特殊的雜質(zhì)離子注入到硅襯底去,這就是離子注入機(jī)。
離子注入機(jī)是半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備中,難度和單價(jià)僅次于光刻機(jī)的關(guān)鍵設(shè)備,此前由美國AMAT 和 Axcelis 兩大公司壟斷約 70%份額。
我國該領(lǐng)域的龍頭是萬業(yè)企業(yè)旗下的凱世通,背后大股東是上海浦東科技投資公司,我國頂級(jí)的科技創(chuàng)投勢(shì)力之一。
凱世通2009年成立,早期主要從事光伏行業(yè)的離子注入設(shè)備研發(fā),出貨量排名世界第一。近兩年,公司開始切入半導(dǎo)體領(lǐng)域,全力推進(jìn)“高能離子注入機(jī)關(guān)鍵技術(shù)研究及樣機(jī)驗(yàn)證”的研發(fā)工作。
2019年,凱世通的晶圓離子注入機(jī)已獲得國內(nèi)12英寸晶圓廠和主流存儲(chǔ)器芯片廠的產(chǎn)線驗(yàn)證,產(chǎn)品在束流強(qiáng)度指標(biāo)上表現(xiàn)優(yōu)秀。另外,中國電子科技集團(tuán)旗下的電科裝備也已經(jīng)研制出了大束流28nm高能離子注入機(jī),并在中芯國際12英寸生產(chǎn)線現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行使用。
6)薄膜沉積設(shè)備
薄膜沉積工藝,分為物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和外延三大類。
北方華創(chuàng)的PVD設(shè)備已經(jīng)用于28nm生產(chǎn)線中,14nm工藝設(shè)備也已實(shí)現(xiàn)重大進(jìn)展。沈陽拓荊的PECVD設(shè)備已在中芯國際40-28nm產(chǎn)線使用,ALD設(shè)備也在14nm工藝產(chǎn)線通過驗(yàn)證。
7)拋光設(shè)備
晶圓制造的后期,需要對(duì)硅片表面進(jìn)行平坦化處理,這就用到了拋光機(jī)。
該領(lǐng)域的龍頭是華海清科,目前處于科創(chuàng)板上市輔導(dǎo)中。
華海清科成立于2013年,實(shí)際控制人為清華大學(xué),核心團(tuán)隊(duì)成員來自清華大學(xué)摩擦學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。
根據(jù)中國國際招標(biāo)網(wǎng)的信息,今年上半年,華海清科在華虹半導(dǎo)體(無錫)項(xiàng)目獲得3臺(tái)CMP,累計(jì)獲得5臺(tái)CMP訂單,在該產(chǎn)線的CMP 市占率是38%。此外,華海清科還中標(biāo)上海新昇1臺(tái)CMP設(shè)備,在長江存儲(chǔ)的CMP設(shè)備份額為14.9%。
華海清科還參與了國家02專項(xiàng)項(xiàng)目——“28-14nm拋光設(shè)備及工藝、配套材料產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目,是我國在拋光設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)。
8)清洗設(shè)備
幾乎所有工藝流程都需要清洗環(huán)節(jié),這就用到了清洗設(shè)備。
盛美半導(dǎo)體是該領(lǐng)域的龍頭,目前科創(chuàng)板上市申請(qǐng)已獲受理,并已在2017年美國納斯達(dá)克上市。
在國內(nèi)的國產(chǎn)清洗設(shè)備市場(chǎng)中,盛美占據(jù)80%左右的市場(chǎng)份額,其余20%則由北方華創(chuàng)、芯源微和至純科技三家公司瓜分。
除了盛美,北方華創(chuàng)的清洗設(shè)備也能滿足28nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的需求。
作為行業(yè)龍頭,盛美半導(dǎo)體在2009年就研發(fā)出了第一款兆聲波清洗技術(shù)SAPS,并進(jìn)入到SK海力士的無錫生產(chǎn)線。此后,陸續(xù)研發(fā)出了TEBO、Tahoe等全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體清洗技術(shù),技術(shù)節(jié)點(diǎn)正向5nm、3nm等先進(jìn)制程工藝不斷突破。
9)檢測(cè)設(shè)備
測(cè)試設(shè)備包括工藝檢測(cè)設(shè)備、硅片測(cè)試設(shè)備和晶圓中測(cè)設(shè)備等,晶圓中測(cè)設(shè)備又包括探針卡、探針臺(tái)和測(cè)試機(jī)等,種類繁多。
該領(lǐng)域的龍頭是賽騰股份,公司通過收購日本Optima進(jìn)入半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備領(lǐng)域,客戶包括了三星、SK 海力士、臺(tái)積電等頂級(jí)大廠。
目前世界芯片檢測(cè)設(shè)備由美國科磊、應(yīng)用材料、日本日立三家公司壟斷,合計(jì)市占率高達(dá)75%。我國的國產(chǎn)化率在5%以下,賽騰股份瞅準(zhǔn)機(jī)會(huì),2019年9月以1.6億元收購了日本Optima株式會(huì)社67.53%股份。
Optima的規(guī)模雖然不大,2018年實(shí)現(xiàn)收入1.79億元、凈利潤3070.55萬元。
但由于發(fā)展時(shí)間較早,在晶圓邊緣檢測(cè)、晶圓正面/背面檢測(cè)、宏觀檢測(cè)、針孔檢測(cè)等晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備上有成熟的產(chǎn)品線,技術(shù)儲(chǔ)備對(duì)國內(nèi)來說是稀缺的。通過母公司的穿針引線,目前其設(shè)備正陸續(xù)進(jìn)入到國內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)線中。截至2020年上半年,Optima的主要國內(nèi)客戶包括上海新昇、中環(huán)半導(dǎo)體、西安奕斯偉硅片等。
二、PART TWO 材料端
1)硅片
硅片是制作芯片的基底,也是占半導(dǎo)體材料市場(chǎng)比重最大的環(huán)節(jié)。
在國際市場(chǎng)上,日本的信越化學(xué)、住友勝高、德國的世創(chuàng)、臺(tái)灣的環(huán)球晶圓為全球四大龍頭,市場(chǎng)合計(jì)占比80%以上。我國的龍頭是滬硅產(chǎn)業(yè)、中環(huán)股份,雖然規(guī)模尚小,但12英寸大硅片已完全能滿足28nm技術(shù)需求。
其中以滬硅產(chǎn)業(yè)規(guī)模最大,目前已完成了上海新晟、新傲科技、Okmetic三大子公司布局,產(chǎn)品覆蓋中芯國際、臺(tái)積電等知名企業(yè),預(yù)計(jì)2021-2022年12英寸大硅片產(chǎn)能可達(dá)60萬片\月。
在新產(chǎn)品的研發(fā)方面,目前公司已開展“20-14nm”的國家02 專項(xiàng)研發(fā)進(jìn)度,正在認(rèn)證或研發(fā)過程中的產(chǎn)品規(guī)格超過 30 種,包括應(yīng)用于 14nm 邏輯芯片、19nm DRAM 芯片及 128 層 3D NAND 產(chǎn)品等。
2)電子特種氣體
半導(dǎo)體生產(chǎn)中幾乎每個(gè)環(huán)節(jié)都要用到電子特氣,因此被稱為半導(dǎo)體制造的“血液”和“糧食”。
電子特氣的純度直接決定了產(chǎn)品的性能、集成度和成品率,這是僅次于硅片的第二大晶圓制造材料。
國際市場(chǎng)上,美國空氣化工、普萊克斯、德國林德、法國液化空氣、日本大陽日酸等五大公司控制著全球90%以上的市場(chǎng)份額,形成寡頭壟斷的局面。
在國內(nèi)市場(chǎng),雖然國產(chǎn)化率還不高,但國產(chǎn)替代速度是比較快的,本土具有競(jìng)爭力的企業(yè)包括華特氣體、南大光電、昊華科技、雅克科技、金宏氣體等。
目前,華特氣體的部分產(chǎn)品已批量供應(yīng)7nm、14nm等晶圓產(chǎn)線,部分氟碳類產(chǎn)品已被臺(tái)積電7nm以下工藝使用。
公司研發(fā)出的20種進(jìn)口替代產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn),其中Ar/F/Ne混合氣、Kr/Ne混合氣、Ar/Ne混合氣、Kr/F/Ne混合氣4種光刻氣產(chǎn)品2017年在國內(nèi)市場(chǎng)占有率位居第一,高達(dá)60%。
華特氣體也通過了全球最大光刻機(jī)供應(yīng)商ASML公司的產(chǎn)品認(rèn)證,并為中芯國際、華虹宏力等一線企業(yè)供貨。相對(duì)來說,南大光電的產(chǎn)品以磷烷、砷烷等混合氣體為主,市場(chǎng)集中在LED、面板等行業(yè),半導(dǎo)體特種氣體仍處于開拓階段。
昊華科技的產(chǎn)品以含氟電子氣體(三氟化氮、六氟化硫)為主,市場(chǎng)集中在電力、軍工、光伏領(lǐng)域,半導(dǎo)體特種氣體仍處于開拓階段。雅克科技通過收購成都科美特切入氟碳類氣體行業(yè),市場(chǎng)集中在電力行業(yè),并小規(guī)模為臺(tái)積電、美國intel、美國TI等企業(yè)供貨。
3)光刻膠
光刻膠是配套光刻機(jī)使用的特殊材料,市場(chǎng)規(guī)模不大,卻是摩爾定律得以不斷推進(jìn)的關(guān)鍵材料之一。
國際市場(chǎng)上,光刻膠由日本的TOK、JSR、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué),美國的陶氏化學(xué)等六大公司壟斷。
國內(nèi)的光刻膠企業(yè)包括北京科華、上海新陽、晶瑞股份、南大光電、蘇州瑞紅、恒坤股份等,目前技術(shù)進(jìn)步很快,處于你追我趕的階段。
本土龍頭是北京科華,這是國內(nèi)目前唯一能匹配荷蘭ASML光刻機(jī)產(chǎn)線供貨的光刻膠公司,彤程新材通過受讓北京科華 33.70%的股權(quán)為其第一大股東。
科華的光刻膠產(chǎn)品涵蓋KrF、I-line、G-line、紫外寬譜等各細(xì)分領(lǐng)域,客戶包括中芯國際、華潤上華、杭州士蘭、吉林華微電子、三安光電、華燦光電、德豪光電等。
另外,上海新陽也在 IC 制造用 ArF 干法、KrF 厚膜膠、I 線等高端光刻膠領(lǐng)域取得重大突破,在建的19000噸/年ArF(干法)光刻膠項(xiàng)目預(yù)計(jì)2022年達(dá)產(chǎn)。過1-2年將可實(shí)現(xiàn)28nm產(chǎn)線的落地。
4)CMP 拋光材料
拋光液和拋光墊是配合拋光設(shè)備使用的,是CMP拋光工藝的關(guān)鍵材料。
國際市場(chǎng)上,拋光墊由美國陶氏化學(xué)(約80%份額)、美國卡博特、日本東麗等三家公司壟斷,拋光液由美國的卡博特(約36%份額)、陶氏杜邦、VSM、日本日立、富士美等五家公司壟斷。
都是被美國、日本兩國的少數(shù)幾個(gè)企業(yè)把持,主要是由于市場(chǎng)規(guī)模不大,技術(shù)門檻高,并且晶圓廠為了生產(chǎn)質(zhì)量的穩(wěn)定,不愿意輕易更換供應(yīng)商。
結(jié)果就是行業(yè)格局的高度集中,新進(jìn)入者難以找到發(fā)展的機(jī)會(huì)。拋光液領(lǐng)域的龍頭是安集科技,產(chǎn)品已在14nm技術(shù)的芯片產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)規(guī)模化應(yīng)用,10-7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)正在研發(fā)中,中芯國際、長江存儲(chǔ)、臺(tái)積電、三安光電均為公司客戶。
公司目前擁有拋光液總產(chǎn)能13314.34噸/年,在建產(chǎn)能16100噸/年,在拋光液中使用的CeO2磨料的專利數(shù)量位居全球第一。
公司 2020 年上半年?duì)I業(yè)收入為 1.92 億元,同比增長 48.56%,發(fā)展迅猛。
拋光墊領(lǐng)域的龍頭是鼎龍股份,2020年上半年拋光墊營收 0.21 億元,同比增加 2145.96%,開始進(jìn)入早期放量階段。
公司上半年在國內(nèi)多個(gè)晶圓廠長江存儲(chǔ)、武漢新芯、中芯國際、合肥長鑫等取得重大進(jìn)展,拋光墊產(chǎn)品已獲得大客戶的量產(chǎn)驗(yàn)證。
就技術(shù)而言,2020 年上半年推出了DH3110/DH3310 等應(yīng)用于先進(jìn)制程的產(chǎn)品,匹配于28nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的拋光墊產(chǎn)品已經(jīng)成熟,研發(fā)進(jìn)度已推進(jìn)到 14nm 階段。
5)高純濕電子化學(xué)品
超凈高純?cè)噭┦侵钢黧w成分純度高于99.99%的化學(xué)試劑,主要用于芯片的清洗、蝕刻等制造領(lǐng)域。
這個(gè)領(lǐng)域的集中度相對(duì)較低,歐美、日韓、臺(tái)灣、中國大陸都有企業(yè)能夠生產(chǎn),我國的主要廠家包括上海新陽、晶瑞股份、江化微、浙江凱圣和江陰潤瑪?shù)取F渲?,龍頭是上海新陽,其超純電鍍硫酸銅電鍍液已成功進(jìn)入中芯國際、海力士的28nm工藝制造過程。
晶瑞股份也是重要的供應(yīng)商,超純雙氧水、超純氨水及在建的高純硫酸等主導(dǎo)產(chǎn)品已達(dá)到G5等級(jí),其它高純化學(xué)品均普遍在G3、G4等級(jí)。
6)靶材
在晶圓制造和測(cè)試封裝兩個(gè)環(huán)節(jié)需要使用靶材,目前芯片工藝中,45-28nm主要使用純銅鋁和銅錳合金靶材。
當(dāng)芯片制程在20nm以下,尤其是小于7nm時(shí),鈷靶材在填滿能力、抗阻力和可靠度三方面優(yōu)勢(shì)明顯。
國際市場(chǎng)上,日本的日礦金屬、東曹和美國的霍尼韋爾、普萊克斯四家企業(yè)占據(jù)80%的份額。國內(nèi)企業(yè)主要有阿石創(chuàng)、隆華科技、有研新材和江豐電子等。
其中,阿石創(chuàng)、隆華科技產(chǎn)品主要用于面板、觸控,江豐電子產(chǎn)品在半導(dǎo)體、太陽能光伏和面板領(lǐng)域均有覆蓋,有研新材主要生產(chǎn)半導(dǎo)體靶材。
龍頭是江豐電子,目前已可量產(chǎn)用于90-7nm半導(dǎo)體芯片的鉭、銅、鈦、鋁靶材,其中鉭靶材在臺(tái)積電7nm芯片中已量產(chǎn),5nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品也已進(jìn)入驗(yàn)證階段。
有研新材的靶材營收規(guī)模不及江豐電子,但也能生產(chǎn)8-12英寸的鋁、鈦、銅、鈷、鉭半導(dǎo)體用靶材,客戶覆蓋中芯國際、臺(tái)積電、聯(lián)電等芯片企業(yè)。
三、總結(jié)
我國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于高速發(fā)展階段,每個(gè)細(xì)分領(lǐng)域都有龍頭企業(yè)在卡位研發(fā),技術(shù)的進(jìn)步日新月異。
許多環(huán)節(jié),雖然媒體上都表示技術(shù)難度很大,大部分市場(chǎng)被跨國巨頭壟斷,國產(chǎn)化率很低。
但實(shí)際上,就今年的業(yè)界推進(jìn)情況來看,幾乎所有環(huán)節(jié)(除了光刻機(jī)),都已經(jīng)有28nm技術(shù)的國產(chǎn)設(shè)備和材料處于生產(chǎn)線驗(yàn)證階段。目前的瓶頸,主要就在光刻機(jī)。