光譜儀器專題篇(三),光譜分析儀之光纖分析儀介紹
光譜儀器是進(jìn)行光譜測量的儀器,通過光譜儀器,我們能夠很方便的光的波長等加以測量。為增進(jìn)大家對光譜儀器的認(rèn)識,本文將對光譜儀器中的光譜儀進(jìn)行介紹。如果你對光譜儀器具有興趣,不妨繼續(xù)往下閱讀哦。因?yàn)樵谶@篇文章中,您將對光纖光譜儀的原理、特點(diǎn)和用途有所認(rèn)識。
一、光纖光譜儀原理
光纖光譜儀屬于光譜儀一種常用類型,具有靈敏度高、操作簡便、使用靈活、穩(wěn)定性好、度高等優(yōu)點(diǎn)。
光纖光譜儀結(jié)構(gòu)緊湊,包括入射狹縫、準(zhǔn)直物鏡、光柵、成像反射鏡、濾色片和陣列探測器,還包括數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。光信號經(jīng)入射狹縫投射到準(zhǔn)直物鏡上,將發(fā)散光變成準(zhǔn)平行光反射到光柵上,色散后經(jīng)成像反射鏡將光譜呈在陣列接收器的接收面上,形成光譜譜面。光譜譜面既是單色光的序列排布(有次光譜影響),讓整個光譜中任一個微小譜帶照射到相對應(yīng)探測器的像元上,在此將光信號轉(zhuǎn)換成電子信號后,經(jīng)模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換,A/D放大,zui后由電器系統(tǒng)控制終端顯示輸出。從而完成各種光譜信號測量分析。
二、光纖光譜儀特點(diǎn)
(1)光纖光譜儀是光纖技術(shù)的引入,使待測物脫離了樣品池的限制,采樣方式變得更為靈活,利用光纖探頭把遠(yuǎn)離光譜儀器的樣品光譜源引到光譜儀器,以適應(yīng)被測樣品的復(fù)雜形狀和位置。由光纖引入光信號還可使儀器內(nèi)部與外界環(huán)境隔絕,可增強(qiáng)對惡劣環(huán)境(潮濕氣候、強(qiáng)電場干擾、腐蝕性氣體)的抵抗能力,保證了光譜儀的長期可靠運(yùn)行,延長使用壽命。
(2)光纖光譜儀以電荷耦合器件(CCD)陣列作為檢測器,對光譜的掃描不必移動光柵,可進(jìn)行瞬態(tài)采集,響應(yīng)速度極快(測量時間為13~15ms),并通過計(jì)算機(jī)實(shí)時輸出。
(3)光纖光譜儀采用全息光柵作為分光器件,雜散光低,提高了測量精度。
(4)光纖光譜儀應(yīng)用計(jì)算機(jī)技術(shù),極大地提高了光譜儀的智能化處理能力。
三、光纖光譜儀的用途
光纖光譜儀以其檢測精度高、速度快等優(yōu)點(diǎn),已成為光譜測量學(xué)中使用的重要測量儀器,被廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)、生物、化學(xué)、地質(zhì)、食品安全、色度計(jì)算、環(huán)境檢測、醫(yī)藥衛(wèi)生、LED檢測、半導(dǎo)體工業(yè)、石油化工等領(lǐng)域。
光纖光譜儀應(yīng)用的詳細(xì)介紹:
1、發(fā)射光譜測量
發(fā)射光譜測量可以用不同的實(shí)驗(yàn)布局和波長范圍來實(shí)現(xiàn),還要用到余弦校正器或積分球。發(fā)射光譜測量可以在紫外/可見和可見/近紅外波長范圍內(nèi)測量。
對于發(fā)射光譜的絕對測量,光譜儀可以配置成波長范圍從200-400nm或350-1100nm,或組合起來實(shí)現(xiàn)紫外/可見200-1100nm,并可以在美國海洋光學(xué)公司的定標(biāo)實(shí)驗(yàn)室里進(jìn)行輻射定標(biāo)。定標(biāo)后的實(shí)驗(yàn)布局不能改變,如光纖和勻光器都不能更改。
2、LED測量
最簡單而且迅速地測量LED的整個光通量的方法就是使用一個積分球,并把它連接到一個美國海洋光學(xué)公司的光譜儀上。該系統(tǒng)可以用鹵素?zé)暨M(jìn)行定標(biāo)(LS-1-CAL-INT),然后用廣州標(biāo)旗軟件從測量到的光譜分布計(jì)算出相關(guān)參數(shù),并實(shí)現(xiàn)輻射量的絕對測量。所測光源的光譜發(fā)光強(qiáng)度還可以用μW/cm2/nm來計(jì)算、顯示并存儲。另外的窗口還可以顯示大約10個參數(shù):輻射量μW/cm2,μJ/cm2,μW或μJ;光通量lux或lumen,色軸X,Y,Z,x,y,z,u,v和色溫。
3、薄膜厚度測量
光學(xué)的膜厚測量系統(tǒng)基于白光干涉測量原理,可以測量的膜層厚度10nm-50μm,分辨率為1nm。薄膜測量在半導(dǎo)體晶片生長過程中經(jīng)常被用到,因?yàn)榈入x子體刻蝕和淀積過程需要監(jiān)控;其它應(yīng)用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學(xué)膜層也需要測量膜層厚度。
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