分位數(shù)控制在高科技行業(yè)的應(yīng)用
統(tǒng)計過程控制在20世紀(jì)90年代,隨著新的工藝和新材料的應(yīng)用,電子元器件產(chǎn)品呈現(xiàn)高集成,高智能,高技術(shù)綜合化的特點,同時產(chǎn)品的質(zhì)量水平迅速提高。目前國際上高質(zhì)量電子元器件生產(chǎn)線工藝不合格率已經(jīng)降至百萬分之幾的水平,電子元器件失效率降至非特數(shù)量級(平均失效時間109小時,即失效率10非特)。在這種情況下,統(tǒng)計過程控制(StatisticalProcessControl簡稱SPC)得到了越來越廣泛的運用。統(tǒng)計過程的發(fā)展可以追溯到十九世紀(jì)三十年代。1924年,美國貝爾實驗室的沃爾特.休哈特博士根據(jù)數(shù)理統(tǒng)計的原理提出了基于控制圖的統(tǒng)計過程控制理論,其主要作用是判斷生產(chǎn)過程是否處于穩(wěn)定狀態(tài)并分析受控狀態(tài),以便發(fā)現(xiàn)異常情況,從而及時采取有效的措施,起到防患與未然的作用。
常規(guī)控制圖在實際生產(chǎn)中,引起產(chǎn)品質(zhì)量波動的偶然因素和異常因素總是交織在一起的,如何加以區(qū)分并非易事。統(tǒng)計過程技術(shù)中的過程受控狀態(tài)分析的主要目的就是利用控制圖作為手段,從起伏變化的工藝參數(shù)數(shù)據(jù)中確定生產(chǎn)過程中是否存在異常因素,以便更好地控制和穩(wěn)定產(chǎn)品質(zhì)量。控制圖成為實施統(tǒng)計過程控制的核心。工藝參數(shù)數(shù)據(jù)可分為計量型和計數(shù)型兩種,這兩種數(shù)據(jù)繪制控制圖的理論基礎(chǔ)相同,只是計量型數(shù)據(jù)的控制圖以正態(tài)分布為基礎(chǔ),計數(shù)型數(shù)據(jù)的控制圖一般以二項分布或泊松分布為基礎(chǔ)。對計量型工藝參數(shù)采用的常規(guī)控制圖理論是由一定條件的。要求被分析的數(shù)據(jù)一定要服從IIND(IndependentlyandIdenticallyNormallyDistributed)條件。即獨立的且服從正態(tài)分布。
非參數(shù)工藝參數(shù)隨著統(tǒng)計控制在各行業(yè)運用的越來越廣泛,同時也發(fā)現(xiàn)在很多高科技企業(yè)實際業(yè)務(wù)中也存在著大量非參數(shù)過程,不再滿足休哈特控制圖的假設(shè)前提,甚至無法找到適合的分布。如果還是采用常規(guī)控制圖將會產(chǎn)生對工藝過程的“誤判”。這將引發(fā)多方面的問題:系統(tǒng)產(chǎn)生的大量“報警”無法找到原因,導(dǎo)致用戶對控制系統(tǒng)失去信心,最終被唾棄;亦或為減少“報警”而控制限為被放寬,當(dāng)制成出現(xiàn)問題根本無法預(yù)警,系統(tǒng)形同虛設(shè)。在此情況下,數(shù)據(jù)的正態(tài)轉(zhuǎn)換也常常發(fā)揮不了作用。
分位數(shù)控制非參數(shù)工藝控制的主要挑戰(zhàn)是如何設(shè)定合理的控制限,既能不被相對“難以捉摸”工藝波動所干擾,又能在工藝出現(xiàn)異常時準(zhǔn)確的預(yù)警?;仡檪鹘y(tǒng)控制限計算的方法,其實是定義±3σ的區(qū)間的界限,其中涵蓋99.73%的分布。由此如果可以通過非參數(shù)分布的99.73%的分位數(shù),反推控制限的數(shù)值,從而達(dá)成對非參數(shù)過程的統(tǒng)計控制。
傳統(tǒng)正態(tài)分布統(tǒng)計過程控制限的推算
但是如何實現(xiàn)仍是非常挑戰(zhàn)的任務(wù),因為這種方法需要大量的數(shù)據(jù)來確保得到精確的控制限。借助JMP(全球最大的統(tǒng)計學(xué)軟件公司SAS的產(chǎn)品)的數(shù)據(jù)計算能力與過程控制模塊便能實現(xiàn)這一復(fù)雜的過程控制。以一個單邊非參數(shù)分布為例,利用JMP可以方便地得到99.73%,95.45%,68.27%(相當(dāng)于6σ,4σ,2σ)的控制限,將其運用于控
基于JMP的定制分位數(shù)功能
基于JMP的非參數(shù)分布過程控制圖
制圖就完成了非參數(shù)分布的統(tǒng)計過程控制。此方法使用了未經(jīng)變動的原始數(shù)據(jù),使得過程信息完整可靠,同時根據(jù)分布的特點,具有良好的覆蓋能力,又對過程起到了科學(xué)的監(jiān)控作用。