英特爾驚增資本支出尬臺積電

時間：2013-01-22 14:38:52

關鍵字：臺積電英特爾先進制程 ASML

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[導讀]半導體龍頭英特爾公布今年資本支出規(guī)模將達130億美元，年增18%，超乎市場原先預期的100美元水準，英特爾資本支出的擴增將用于18寸晶圓的布局，旗下14奈米廠房建置也將完成，并將開始布局10奈米制程的建置，鞏固其技術

半導體龍頭英特爾公布今年資本支出規(guī)模將達130億美元，年增18%，超乎市場原先預期的100美元水準，英特爾資本支出的擴增將用于18寸晶圓的布局，旗下14奈米廠房建置也將完成，并將開始布局10奈米制程的建置，鞏固其技術領先地位，今年將繼續(xù)與臺積電(2330)先進制程布局腳步一較高下。
英特爾宣布今年資本支出規(guī)模130億美元，令市場驚呼訝異。

臺積電上周法說會中一展技術布局藍圖，預估明年20奈米首年的生產量就將超越先前28奈米首年表現(xiàn)，并且宣布今年將資本支出拉高的原因也正是為了布局先進制程，除了20奈米之外，臺積電在16奈米甚至是10奈米的藍圖都已有規(guī)劃，而與ASML的合作計劃也持續(xù)進行，顯示其18寸晶圓布局也都在進度內。

英特爾宣布今年資本支出規(guī)模130億美元令市場驚呼訝異，英特爾鞏固技術領先，尬臺積電先進制成腳步的意味濃厚，繼臺積電給予20奈米明確進度后，英特爾也宣布14奈米的廠房建置完成，并且將開始布局10奈米制程，摩根大通證券則認為，英特爾資本支出規(guī)模大幅增加，是著眼于18寸晶圓廠房的建置，增強在平板電腦與變形平板等產品線的技術能力，對于晶圓代工產業(yè)沖擊應有限。