[導讀]國際研究暨顧問機構Gartner發(fā)布最新預測指出，2012年全球晶圓設備(WFE)支出總計314億美元，較2011年的362億美元下滑了13.3%。盡管晶圓設備市場在2013年可望有所改善，但Gartner預期仍不會恢復正成長，預估當年的支出
國際研究暨顧問機構Gartner發(fā)布最新預測指出，2012年全球晶圓設備(WFE)支出總計314億美元，較2011年的362億美元下滑了13.3%。
盡管晶圓設備市場在2013年可望有所改善，但Gartner預期仍不會恢復正成長，預估當年的支出規(guī)模為312億美元，較2012年微減0.8%。全球晶圓設備市場直至2014年才有望重回正成長軌道，預估支出規(guī)?？赏?013年增加15.3%達359億美元。
Gartner研究副總裁BobJohnson表示：「半導體設備市場展望因總體經(jīng)濟情勢疲弱不振而衰退。由于晶圓和其他邏輯晶片制造廠增加30奈米以下的生產(chǎn)，全球晶圓設備市場在今年初始表現(xiàn)強勁；然而，新邏輯生產(chǎn)設備的需求會隨著良率提高而趨緩，導致接下來這段時間的出貨量減少。」
晶圓制造廠的產(chǎn)能利用率會在2012年底下滑到80%~83%，預計2013年底前可望緩步提升至約87%。先進制程的產(chǎn)能利用率則會在今年下半年回升到87%到89%，2013年將進一步增為90%~93%，可望提供廠商較為樂觀的資本投資環(huán)境。
Johnson進一步表示：「盡管導致產(chǎn)量降低的庫存調(diào)整期看似將告結(jié)束，整體市場疲乏不振仍持續(xù)抑制產(chǎn)能利用水準。增加的需求，加上先進制程發(fā)展臻至成熟前的低良率，使得先進邏輯IC供應短缺，但仍不足以帶動整體產(chǎn)能利用率回升至期望的水準。在記憶體市場部門，部份供應商甚至減少產(chǎn)量以圖支撐疲弱的市場基本面?！?BR>
Gartner認為，記憶體市場在整個2012年的表現(xiàn)會持續(xù)疲軟，由于DRAM的投資大幅衰退，加以NAND市場持平。展望2012年之后的市況，分析師預見溫和的成長格局，常態(tài)但相當良性的循環(huán)周期波動，隨著產(chǎn)業(yè)恢復裝置營收的中度個位數(shù)成長，以及資本投資相應增加。
由于稍早某些晶圓代工業(yè)者成功提高28奈米制程的良率，以及2012年第四季和2013年第一季存有較高的晶圓需求下滑的風險，2012年和2013年的晶圓代工資本支出已遭下修。然而，未來幾年的晶圓代工資本支出(capex)則獲上修，因為業(yè)者更積極投入深柴外光(EUV)微影技術和18吋晶圓的研發(fā)。
既然晶圓代工業(yè)者在2012年后期的晶圓廠產(chǎn)能利用率減少逾10%，Gartner認為他們很可能會緊縮短期的資本支出。晶圓的需求會下降好幾季，因為半導體裝置景氣下修，再加上盡管28奈米高介電常數(shù)金屬閘極(HKMG)制程的良率仍低，但某些晶圓代工大廠已成功提高28奈米低功耗PolySiON制程的良率。
盡管晶圓設備市場在2013年可望有所改善，但Gartner預期仍不會恢復正成長，預估當年的支出規(guī)模為312億美元，較2012年微減0.8%。全球晶圓設備市場直至2014年才有望重回正成長軌道，預估支出規(guī)?？赏?013年增加15.3%達359億美元。
Gartner研究副總裁BobJohnson表示：「半導體設備市場展望因總體經(jīng)濟情勢疲弱不振而衰退。由于晶圓和其他邏輯晶片制造廠增加30奈米以下的生產(chǎn)，全球晶圓設備市場在今年初始表現(xiàn)強勁；然而，新邏輯生產(chǎn)設備的需求會隨著良率提高而趨緩，導致接下來這段時間的出貨量減少。」
晶圓制造廠的產(chǎn)能利用率會在2012年底下滑到80%~83%，預計2013年底前可望緩步提升至約87%。先進制程的產(chǎn)能利用率則會在今年下半年回升到87%到89%，2013年將進一步增為90%~93%，可望提供廠商較為樂觀的資本投資環(huán)境。
Johnson進一步表示：「盡管導致產(chǎn)量降低的庫存調(diào)整期看似將告結(jié)束，整體市場疲乏不振仍持續(xù)抑制產(chǎn)能利用水準。增加的需求，加上先進制程發(fā)展臻至成熟前的低良率，使得先進邏輯IC供應短缺，但仍不足以帶動整體產(chǎn)能利用率回升至期望的水準。在記憶體市場部門，部份供應商甚至減少產(chǎn)量以圖支撐疲弱的市場基本面?！?BR>
Gartner認為，記憶體市場在整個2012年的表現(xiàn)會持續(xù)疲軟，由于DRAM的投資大幅衰退，加以NAND市場持平。展望2012年之后的市況，分析師預見溫和的成長格局，常態(tài)但相當良性的循環(huán)周期波動，隨著產(chǎn)業(yè)恢復裝置營收的中度個位數(shù)成長，以及資本投資相應增加。
由于稍早某些晶圓代工業(yè)者成功提高28奈米制程的良率，以及2012年第四季和2013年第一季存有較高的晶圓需求下滑的風險，2012年和2013年的晶圓代工資本支出已遭下修。然而，未來幾年的晶圓代工資本支出(capex)則獲上修，因為業(yè)者更積極投入深柴外光(EUV)微影技術和18吋晶圓的研發(fā)。
既然晶圓代工業(yè)者在2012年后期的晶圓廠產(chǎn)能利用率減少逾10%，Gartner認為他們很可能會緊縮短期的資本支出。晶圓的需求會下降好幾季，因為半導體裝置景氣下修，再加上盡管28奈米高介電常數(shù)金屬閘極(HKMG)制程的良率仍低，但某些晶圓代工大廠已成功提高28奈米低功耗PolySiON制程的良率。
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