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[導讀]可程序邏輯閘陣列(FPGA)大廠賽靈思(Xilinx)及晶圓代工龍頭臺積電(2330)昨(29)日宣布16納米鰭式場效晶體管(FinFET)技術(shù)合作計劃。采用臺積電先進16納米FinFET技術(shù)打造的賽靈思「FinFast」計劃測試芯片,預計

可程序邏輯閘陣列(FPGA)大廠賽靈思(Xilinx)及晶圓代工龍頭臺積電(2330)昨(29)日宣布16納米鰭式場效晶體管(FinFET)技術(shù)合作計劃。采用臺積電先進16納米FinFET技術(shù)打造的賽靈思「FinFast」計劃測試芯片,預計會在今年推出,首款產(chǎn)品明年問市,這也代表臺積電16納米投片將再度提前到今年底展開。

臺積電已宣布調(diào)升今年資本支出到95~100億美元規(guī)模,為了在技術(shù)研發(fā)上能夠追上英特爾,同時擺脫三星、格羅方德(GlobalFoundries)等競爭同業(yè),臺積電3D晶體管架構(gòu)的16納米FinFET制程將提前量產(chǎn),首家采用的大客戶就是FPGA大廠賽靈思。而賽靈思及臺積電的合作,當然是要跟另一FPGA大廠阿爾特拉(Altera)及英特爾的合作案一較高下。

原本臺積電規(guī)畫在20納米量產(chǎn)的2年后,也就是2016年才會進入16納米FinFET制程量產(chǎn),但現(xiàn)在16納米量產(chǎn)時間點提前到2015年。而根據(jù)賽靈思及臺積電的規(guī)畫,雙方投入所需資源組成一支專屬團隊,針對FinFET制程與賽靈思的UltraScale架構(gòu)共同進行最佳化,基于此項計劃,16FinFET測試芯片預計今年稍后推出,而首款產(chǎn)品將于2014年問市,代表臺積電今年底就會開始試產(chǎn)16納米,進度再度超前。

此外,兩家公司亦共同合作藉助臺積電的CoWoS三維集成電路(3D IC)制造流程,以實現(xiàn)最高層級的3D IC系統(tǒng)集成及系統(tǒng)級效能,雙方在此領(lǐng)域合作的相關(guān)產(chǎn)品將稍后擇期另行宣布。

UltraScale為賽靈思全新的特殊應(yīng)用芯片(ASIC)等級架構(gòu),能針對從20納米平面式制程到16納米以及更先進的FinFET制程進行微縮,亦可透過3D IC技術(shù)進行系統(tǒng)單芯片的微縮。

臺積電表示,最近已宣布將16納米FinFET制程技術(shù)的生產(chǎn)時程,提前到2013年展開,賽靈思與臺積電的合作,除了可受惠于該制程生產(chǎn)進度加快之外,亦享有臺積電16納米FinFET技術(shù)所帶來的高效能與省電優(yōu)勢。



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