續(xù)居領(lǐng)先地位，臺積電推20納米制程

臺積電(2330)持續(xù)在先進(jìn)制程居于領(lǐng)先地位，今(9)日宣布領(lǐng)先業(yè)界，推出支持20納米制程與CoWoS（Chip on Wafer on Substrate）技術(shù)的設(shè)計參考流程，展現(xiàn)該公司在開放創(chuàng)新平臺（Open Innovation Platform,OIP）架構(gòu)中，支持20納米與CoWoS技術(shù)的設(shè)計環(huán)境已準(zhǔn)備就緒。

臺積公司20納米參考流程，采用現(xiàn)行經(jīng)過驗證的設(shè)計流程協(xié)助客戶實現(xiàn)雙重曝影技術(shù)（Double Patterning Technology, DPT），藉由雙重曝影技術(shù)所需知識的布局與配線（Place and Route）、時序（Timing）、實體驗證（Physical Verification）及可制造性設(shè)計（Design for Manufacturing, DFM），電子設(shè)計自動化（EDA）領(lǐng)導(dǎo)廠商通過驗證的設(shè)計工具能夠支持臺積公司20納米制程；通過矽芯片驗證的CoWoS參考流程，則能夠集成多芯片以支持高帶寬與低功耗應(yīng)用，加速三維集成電路（3D IC）設(shè)計產(chǎn)品的上市時間，芯片設(shè)計業(yè)者亦受惠于能使用電子設(shè)計自動化廠商現(xiàn)有的成熟設(shè)計工具進(jìn)行設(shè)計。
臺積電董事長張忠謀于今年7月時第二季法說會中即表示，將鞏固該公司在技術(shù)制程的領(lǐng)先地位，預(yù)計在第四季可開始試產(chǎn)20納米制程、并提供給客戶設(shè)計；由于臺積電持續(xù)積極發(fā)展先進(jìn)制程，外資法人預(yù)計臺積電明年資本支出將超越100億美元創(chuàng)新高，明、后年起20納米正式量產(chǎn)，預(yù)計將成為帶動臺積電業(yè)績持續(xù)攀高的動能。