[導(dǎo)讀]臺積電昨（5）日宣布，將投資芯片設(shè)備商艾司摩爾（ASML）11.14億歐元（約新臺幣410億元），加速下一世代關(guān)鍵技術(shù)極紫外光（EUV）與18寸晶圓微影設(shè)備開發(fā)及量產(chǎn)，成為繼英特爾之后，第2家加入投資ASML的半導(dǎo)體大廠。
臺積電昨（5）日宣布，將投資芯片設(shè)備商艾司摩爾（ASML）11.14億歐元（約新臺幣410億元），加速下一世代關(guān)鍵技術(shù)極紫外光（EUV）與18寸晶圓微影設(shè)備開發(fā)及量產(chǎn)，成為繼英特爾之后，第2家加入投資ASML的半導(dǎo)體大廠。
臺積電將斥資 8.38億歐元（約新臺幣308億元），取得ASML 5%股權(quán)，并承諾未來5年共投入2.76億歐元（約新臺幣102億元），支持ASML的研發(fā)計畫。臺積電截至第2季底，手中現(xiàn)金及約當(dāng)現(xiàn)金約1,784億元，投資ASML資金不虞匱乏，但這項投資案的總金額也高達(dá)手上現(xiàn)金約25%。
這是臺積電繼投資從事電子光束研發(fā)的美商Mapper后，第2宗大手筆投資設(shè)備商且資助其先進(jìn)設(shè)備研發(fā)的行動，宣示臺積電跨入18寸晶圓生產(chǎn)的決心。臺積電上周五收盤價79.8元，小跌0.2元。
ASML發(fā)出的投資邀約對象中，已獲得英特爾、臺積電正面回應(yīng)，以英特爾出資33億歐元（約新臺幣1,214.4億元），取得ASML 15%股權(quán)，并協(xié)助ASML研發(fā)，手筆最大；臺積電投資的規(guī)模，僅約英特爾的33%。同樣收到ASML投資邀約的三星，尚未表態(tài)。
臺積電董事長張忠謀先前曾表示，「臺積電沒有投資ASML的急迫性」，讓市場一度以為臺積電可能不考慮參股ASML。據(jù)了解，臺積電近1個月突然加速與ASML會商，昨天正式達(dá)成協(xié)議并簽約，臺積電也立即對外宣布這項合作案，但并未透露何時完成入股ASML。
圖／經(jīng)濟(jì)日報提供
這項合作案是由臺積電執(zhí)行副總經(jīng)理暨共同營運(yùn)長蔣尚義，與ASML執(zhí)行長艾瑞克（Eric Meurice）簽訂。 蔣尚義表示，臺積電挹注ASML研發(fā)經(jīng)費(fèi)，將確保并加快EUV 微影技術(shù)的開發(fā)，同時也能提高既有光學(xué)微影工具的效能，促進(jìn)18寸晶圓制造技術(shù)的快速發(fā)展。
臺積電預(yù)期，與ASML合作開發(fā)下一世代關(guān)鍵設(shè)備，將有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)控制晶圓成本，突破縮小IC尺寸所面臨的挑戰(zhàn)，保障摩爾定律持續(xù)演進(jìn)可帶來的經(jīng)濟(jì)效益。這也是臺積電與ASML先前共同開發(fā)193微米浸潤式微影技術(shù)之后，雙方長期合作關(guān)系的延伸。
臺積電將斥資 8.38億歐元（約新臺幣308億元），取得ASML 5%股權(quán)，并承諾未來5年共投入2.76億歐元（約新臺幣102億元），支持ASML的研發(fā)計畫。臺積電截至第2季底，手中現(xiàn)金及約當(dāng)現(xiàn)金約1,784億元，投資ASML資金不虞匱乏，但這項投資案的總金額也高達(dá)手上現(xiàn)金約25%。
這是臺積電繼投資從事電子光束研發(fā)的美商Mapper后，第2宗大手筆投資設(shè)備商且資助其先進(jìn)設(shè)備研發(fā)的行動，宣示臺積電跨入18寸晶圓生產(chǎn)的決心。臺積電上周五收盤價79.8元，小跌0.2元。
ASML發(fā)出的投資邀約對象中，已獲得英特爾、臺積電正面回應(yīng)，以英特爾出資33億歐元（約新臺幣1,214.4億元），取得ASML 15%股權(quán)，并協(xié)助ASML研發(fā)，手筆最大；臺積電投資的規(guī)模，僅約英特爾的33%。同樣收到ASML投資邀約的三星，尚未表態(tài)。
臺積電董事長張忠謀先前曾表示，「臺積電沒有投資ASML的急迫性」，讓市場一度以為臺積電可能不考慮參股ASML。據(jù)了解，臺積電近1個月突然加速與ASML會商，昨天正式達(dá)成協(xié)議并簽約，臺積電也立即對外宣布這項合作案，但并未透露何時完成入股ASML。
圖／經(jīng)濟(jì)日報提供
這項合作案是由臺積電執(zhí)行副總經(jīng)理暨共同營運(yùn)長蔣尚義，與ASML執(zhí)行長艾瑞克（Eric Meurice）簽訂。 蔣尚義表示，臺積電挹注ASML研發(fā)經(jīng)費(fèi)，將確保并加快EUV 微影技術(shù)的開發(fā)，同時也能提高既有光學(xué)微影工具的效能，促進(jìn)18寸晶圓制造技術(shù)的快速發(fā)展。
臺積電預(yù)期，與ASML合作開發(fā)下一世代關(guān)鍵設(shè)備，將有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)控制晶圓成本，突破縮小IC尺寸所面臨的挑戰(zhàn)，保障摩爾定律持續(xù)演進(jìn)可帶來的經(jīng)濟(jì)效益。這也是臺積電與ASML先前共同開發(fā)193微米浸潤式微影技術(shù)之后，雙方長期合作關(guān)系的延伸。
下載文檔
