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[導(dǎo)讀]志圣工業(yè)創(chuàng)新的晶圓光阻制程技術(shù)來自IC SUBSTRATE產(chǎn)業(yè)的真空壓膜技術(shù),革命性的技術(shù)運(yùn)用在半導(dǎo)體制程上讓晶圓光阻制程有更佳良率,節(jié)省成本及減少三分之一以上生產(chǎn)時(shí)間。 志圣晶圓壓膜機(jī)除可讓干膜發(fā)揮最大能力外

志圣工業(yè)創(chuàng)新的晶圓光阻制程技術(shù)來自IC SUBSTRATE產(chǎn)業(yè)的真空壓膜技術(shù),革命性的技術(shù)運(yùn)用在半導(dǎo)體制程上讓晶圓光阻制程有更佳良率,節(jié)省成本及減少三分之一以上生產(chǎn)時(shí)間。
志圣晶圓壓膜機(jī)除可讓干膜發(fā)揮最大能力外,比現(xiàn)行濕式制程速度快3倍、光阻材料利用率高達(dá)60%、只需濕制程一半成本、可減少一個(gè) EBR(晶邊清洗)制程、完美的100%填覆性效果、更佳的良率及質(zhì)量,適用于各種干膜革命性機(jī)種。志圣指出干式光阻制程比濕制程快3倍,系在于干式壓膜 可將干膜裁切的比晶圓小,所以在壓膜后不必再做裁切邊緣制程,省卻EBR制程與時(shí)間,減少一個(gè)制程工序也減少產(chǎn)生不良品的機(jī)率。另志圣運(yùn)用高階吸真空后再 壓膜技術(shù)與流程,讓干膜與晶圓間完全沒空隙,不因滾輪壓膜產(chǎn)生空隙及氣泡的現(xiàn)象,亦解決使用WTW bonder的溢膠和較長(zhǎng)制程時(shí)間等問題,且其晶圓壓膜機(jī)對(duì)于光阻材料的利用率高達(dá)60%,與濕膜制程只有10%左右相比,讓成本極高的光阻材料成本節(jié)省 50%以上,大幅提高業(yè)者競(jìng)爭(zhēng)力。
志圣晶圓壓膜機(jī)亦可運(yùn)用于3D-IC制程,針對(duì)DRIE(深反應(yīng)式離子蝕刻)前之取代光罩(HARD MASK)制程,在PHOTO MASK前形成阻擋層,在執(zhí)行DRIE時(shí)可對(duì)不需蝕刻部份產(chǎn)生保護(hù)作用,讓制程良率更佳、生產(chǎn)速度更快。目前志圣生產(chǎn)的設(shè)備跨PCB、FPD、SEMI、 PV、PRINT等行業(yè),新開發(fā)的晶圓壓膜機(jī)就是使用志圣重要核心技術(shù)之一「壓膜技術(shù)」發(fā)展出來,志圣壓膜設(shè)備量產(chǎn)至今已銷售超過1,000臺(tái)以上,除獲 得國(guó)家精品獎(jiǎng)肯定,市場(chǎng)銷售占有率亦高達(dá)八成以上。
志圣訂于9月30日至10月2日參加臺(tái)北世貿(mào)國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備材料展(攤位:1119),展示「晶圓壓膜機(jī)」等機(jī)種,另將于30日在會(huì)場(chǎng)舉辦產(chǎn)品發(fā)表會(huì),歡迎各界參加。洽詢電話:(02)2601-7706轉(zhuǎn)519。



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