臺積電40/45納米制程傳出好消息,對岸的晶圓代工廠中芯國際也緊跟在后!中芯國際表示,45納米搭上IBM技術陣營的共通平臺 (Common Platform),進展也將愈追愈快,預計2009年底將正式投產(chǎn)(Tape-out),2010年放量生產(chǎn)。中芯國際認為在機器設備折舊攤提持續(xù)下降與高階制程加入雙重效果下,2010年期待實現(xiàn)獲利。
IBM陣營愈來愈壯大,除了三星電子(Samsung Electronics)、新加坡特許(Chartered)與全球晶圓(Global Foundries)以外,中芯國際也在45納米世代制程起加入,預料搭上這班技術的列車,將會促使中芯追趕先進制程的速度加快。目前中芯的45納米芯片已經(jīng)通過客戶驗證,預料2009年底前正式投產(chǎn)。
中芯在日前首次舉辦的國際分析師日中表示,退出存儲器市場的策略不變,將全速邏輯IC制程世代挺進,其中45納米年底投產(chǎn)是重頭戲,而預計到了2010年 45納米若順利量產(chǎn)將可望挹注中芯國際營收。目前90納米、0.13微米的先進制程已經(jīng)占中芯國際營收比重約45%,而0.18微米以下主流制程的比重約 55%。
中芯國際表示,來自北美客戶的訂單約60%,對于0.13微米先進制程的需求依舊強勁;而相當看好大陸本地客戶對于0.13微米先進制程的需求,甚至還有供不應求的狀況,在大陸內地市場,中芯國際不斷擴張市占率,目前來自大中華地區(qū)的客戶比重已經(jīng)占營收35%。
中芯國際24日也宣布,采用Virage Logic嵌入式一項多次可程序設(MTP)的非揮發(fā)性存儲器 (NVM) 解決方案,應用于射頻識別(RFID)芯片之中。中芯表示,目前此IP正在0.18微米低漏電(LL)制程技術開發(fā)中,能夠提供高性能射頻。
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