聯(lián)電第二季度恢復(fù)盈利 凈利潤4700萬美元

聯(lián)電日前公布2009年第二季財務(wù)報告，營業(yè)收入為新臺幣226.3億元，與上季的新臺幣108.4億元相比大幅成長108.8%，較去年同期的新臺幣252.4億元衰退約10.3%。本季毛利率為23.8%，營業(yè)凈利率為11.9%，2009年第二季凈利新臺幣15.5億元（約4700萬美元），每股普通股獲利為新臺幣0.12元。

聯(lián)電執(zhí)行長孫世偉博士表示，“2009年第二季客戶需求強勁，接單狀況良好，出貨量大幅成長至約當八吋晶圓89萬8千片，產(chǎn)能利用率上升至79%，六月營收已超越去年同期數(shù)字，回到金融風(fēng)暴前的營運水平。本公司相當樂觀看待第三季，營收可望持續(xù)成長。本公司也將密切注意未來幾季景氣的發(fā)展并審慎因應(yīng)?！?/p>

孫執(zhí)行長繼續(xù)表示，“本公司在 Customer-Driven Foundry Solutions 經(jīng)營理念下，提供客戶最適切之晶圓專工解決方案。65/55 納米新產(chǎn)品數(shù)量如預(yù)期成長，第二季來自65/55納米的營收也顯著增加，較上季成長約120%，將可提升未來高階制程營業(yè)額和市占率。本公司獨立研發(fā)的40納米高效能(High Performance)邏輯制程包括SiGe、Laser Anneal、Ultra Low-K等先進技術(shù)，已有許多客戶產(chǎn)品進入量產(chǎn)，而45/40納米低功率(Low Power)技術(shù)的良率最佳化也順利進展中。在先進28納米 HK/MG 制程的發(fā)展，本公司采取 Gate-Last 為主之技術(shù)，以同時滿足未來客戶高效能及低功率高階技術(shù)之需求。為追求持續(xù)成長，本公司將調(diào)升今年資本支出至5億美金，投資于包括65/55納米，45/40納米，及28納米等高階制程產(chǎn)能布建和先進技術(shù)的研發(fā)設(shè)備?！?/p>

“過去一年雖然歷經(jīng)艱困的全球金融危機和經(jīng)濟衰退，聯(lián)電仍能穩(wěn)健地渡過此次全球景氣調(diào)整期?！保瑢O執(zhí)行長強調(diào)，“公司經(jīng)營團隊與全體同仁同心協(xié)力，平順完成組織重整與人力精實，透過團隊合作與優(yōu)異的執(zhí)行力，營運效率與成本結(jié)構(gòu)均獲得大幅改善。今后本公司將在提升產(chǎn)能利用率與營收的基礎(chǔ)上努力控管成本，并經(jīng)由適時的資本支出，積極投資在先進技術(shù)開發(fā)與支持客戶產(chǎn)能需求，以追求長期穩(wěn)健之成長，同時提高獲利和股東權(quán)益報酬率?！?/p>

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