Cadence和TSMC為16納米FinFET開發(fā)設(shè)計架構(gòu)
在16納米及以下工藝技術(shù)下設(shè)計開發(fā)系統(tǒng)級芯片設(shè)計(SoC),只有FinFET 技術(shù)才具備功率、性能和面積上(PPA)的獨特優(yōu)勢。與平面FET不同,F(xiàn)inFET采用從襯底上生長出垂直的鰭狀結(jié)構(gòu),并在其周圍形成環(huán)繞柵極,從而提高晶體管速度同時能有效控制漏電。此次,Cadence與TSMC擴大合作范圍,為芯片設(shè)計師提供卓越的設(shè)計架構(gòu)以及準確的電氣特性和寄生模型,以促進先進FinFET技術(shù)在移動及各應(yīng)有領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。
“在從分析到簽收的過程中,F(xiàn)inFET器件的精確度要求更高,這就是TSMC與Cadence合作完成此項目的原因,”TSMC設(shè)計架構(gòu)營銷部高級主管Suk Lee說道。“通過此次合作,設(shè)計師將能夠更加放心地使用這項新的工藝技術(shù),從而讓我們的共同客戶實現(xiàn)功率、性能和市場投放時間方面的目標?!?
“若要開發(fā)適用于這種復雜、新穎工藝的設(shè)計架構(gòu),代工廠(Foundries)必須與EDA技術(shù)創(chuàng)新者緊密合作,”Cadence芯片實現(xiàn)產(chǎn)品集團(Silicon Realization Group)高級副總裁徐季平說道。“通過與FinFET技術(shù)領(lǐng)導者TSMC合作,Cadence將利用獨一無二的技術(shù)創(chuàng)新和專業(yè)知識,為設(shè)計師們提供卓越的 FinFET設(shè)計能力,將高性能、低功耗產(chǎn)品投放于市場。”