Cadence和TSMC為16納米FinFET開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)架構(gòu)
掃描二維碼
隨時(shí)隨地手機(jī)看文章
在16納米及以下工藝技術(shù)下設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)系統(tǒng)級(jí)芯片設(shè)計(jì)(SoC),只有FinFET 技術(shù)才具備功率、性能和面積上(PPA)的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。與平面FET不同,F(xiàn)inFET采用從襯底上生長(zhǎng)出垂直的鰭狀結(jié)構(gòu),并在其周?chē)纬森h(huán)繞柵極,從而提高晶體管速度同時(shí)能有效控制漏電。此次,Cadence與TSMC擴(kuò)大合作范圍,為芯片設(shè)計(jì)師提供卓越的設(shè)計(jì)架構(gòu)以及準(zhǔn)確的電氣特性和寄生模型,以促進(jìn)先進(jìn)FinFET技術(shù)在移動(dòng)及各應(yīng)有領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。
“在從分析到簽收的過(guò)程中,F(xiàn)inFET器件的精確度要求更高,這就是TSMC與Cadence合作完成此項(xiàng)目的原因,”TSMC設(shè)計(jì)架構(gòu)營(yíng)銷(xiāo)部高級(jí)主管Suk Lee說(shuō)道?!巴ㄟ^(guò)此次合作,設(shè)計(jì)師將能夠更加放心地使用這項(xiàng)新的工藝技術(shù),從而讓我們的共同客戶(hù)實(shí)現(xiàn)功率、性能和市場(chǎng)投放時(shí)間方面的目標(biāo)?!?
“若要開(kāi)發(fā)適用于這種復(fù)雜、新穎工藝的設(shè)計(jì)架構(gòu),代工廠(Foundries)必須與EDA技術(shù)創(chuàng)新者緊密合作,”Cadence芯片實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品集團(tuán)(Silicon Realization Group)高級(jí)副總裁徐季平說(shuō)道。“通過(guò)與FinFET技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者TSMC合作,Cadence將利用獨(dú)一無(wú)二的技術(shù)創(chuàng)新和專(zhuān)業(yè)知識(shí),為設(shè)計(jì)師們提供卓越的 FinFET設(shè)計(jì)能力,將高性能、低功耗產(chǎn)品投放于市場(chǎng)。”