SEMI：2013年全球光刻掩膜板市場預計可達33.5億美元規(guī)模

時間：2012-08-06 09:57:34

關鍵字：光刻 SEMI 節(jié)點 EUV

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[導讀]SEMI最新研究報告顯示，2011年全球半導體光刻掩膜板市場達到了31.2億美元規(guī)模，預估2013年這一數字可達33.5億美元。繼2010年達到高峰以后，光刻掩膜板市場2011年再次增長了3%，創(chuàng)下歷史新高。而未來兩年光刻掩膜板市

SEMI最新研究報告顯示，2011年全球半導體光刻掩膜板市場達到了31.2億美元規(guī)模，預估2013年這一數字可達33.5億美元。繼2010年達到高峰以后，光刻掩膜板市場2011年再次增長了3%，創(chuàng)下歷史新高。而未來兩年光刻掩膜板市場則預計將有4%和3%的成長。驅動z這一市場成長的關鍵主要來自于先進技術持續(xù)進行微縮(小于65納米)，以及亞太地區(qū)制造業(yè)的蓬勃發(fā)展。2010年，臺灣超過日本成為最大的光刻掩膜板市場，并預計將在未來預期內保持最大。
掩模制造市場正變得越來越資本密集型;據SEMI數據顯示，2011年是掩膜/光罩制造設備創(chuàng)紀錄的一年，比上一個歷史記錄高點2010年再增長了36%達到11.1億美元。隨著光刻掩膜板行業(yè)的資本密集度增強，專有光刻掩膜板(captive photomask)廠商的市場占有率也不斷擴大，與2006年的30%相比擴大到 40%。
針對sub 45納米制程節(jié)點，透過顯影光源優(yōu)化(Source Mask Optimization，SMO)的應用將可擴展單次曝光程序，而雙重曝光(double patterning)技術也被視為重要方案。為了協助將光學光刻技術延伸至22納米節(jié)點尺寸，除了雙重曝光和SMO之外，芯片制造商還打算利用運算光刻 (computational lithography)的技術。定向自裝作為延伸光學光刻到10nm節(jié)點的一個可能的方法近日獲得了大量的關注。
雖然EUV的光源和光阻已有所改善，但目前EUV已被推遲至少到14nm節(jié)點，但一些產業(yè)觀察人士認為EUV可能在10nm進入量產。然而，有關技術準備的擔憂依然存在，一些芯片制造商在14nm采用并行的光刻技術路線圖。何時或是否EUV會被廣泛采用，還得取決于成本考慮，以及能否為此革命性技術形成新的供應鏈。
而對于大批量光刻掩膜板(merchant photomask)供貨商來說，經濟方面的不確定性因素遠比技術問題更讓人頭痛，隨著線寬必須不斷縮小的趨勢下，廠商面臨諸多艱巨的挑戰(zhàn)，更多先進的光刻掩膜板工具和材料必須應運而生，但卻僅有部份的客戶會轉移至更小尺寸的產品，而且似乎對于專有光刻掩膜板廠商的依賴也日益加深，因此批發(fā)式光刻掩膜板產業(yè)必須在一個正在萎縮的市場上找到它的平衡點，既能進行技術升級發(fā)展也能兼顧資本成本。
SEMI最近發(fā)表了《Photomask Characterization Summary》，對2011年的光刻掩膜板市場提供詳細的分析，并以全球七個主要地區(qū)，包括北美、日本、歐洲、臺灣、韓國、中國、以及其它地區(qū)進行市場分析，該報告還囊括每一地區(qū)從2006至2013年間的相關數據。