挺進20nm：臺積電將在Fab12工廠裝用ASML產(chǎn)EUV光刻設備

時間：2010-06-29 09:32:34

關鍵字： ASML 臺積電光刻 FAB

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[導讀]據(jù)臺積電公司負責技術研發(fā)的副總裁蔣尚義表示，2011年臺積電從荷蘭ASML公司訂購的極紫外(EUV，波長13.5nm)光刻設備將運抵廠內，這批訂購的設備將為臺積電公司2013年將公司制程能力升級到20nm級別鋪平道路。蔣尚義是在

據(jù)臺積電公司負責技術研發(fā)的副總裁蔣尚義表示，2011年臺積電從荷蘭ASML公司訂購的極紫外(EUV，波長13.5nm)光刻設備將運抵廠內，這批訂購的設備將為臺積電公司2013年將公司制程能力升級到20nm級別鋪平道路。蔣尚義是在本月24日舉辦的臺積電技術論壇會議上說出這番話的，他同時還指出EUV光刻技術要想投入商用還需要更加成熟，另外他還透露這批訂購的EUV光刻工具每小時能刻制100片晶圓。

臺積電首批EUV光刻設備將被安裝在300mmFab12工廠內，而臺積電未來的研發(fā)重點則將放在28nm及更高級別制程技術的研發(fā)方面。

臺積電早些時候曾宣布他們會跳過22nm制程節(jié)點，直接從28nm節(jié)點跳至20nm制程，這家公司透露將于2012年下半年開始20nm制程芯片的試產(chǎn)。

EUV(極紫外光：波長13.5nm)是目前比較流行的DUV(深紫外光：波長193nm)光刻技術的下一代技術，與眼下流行的沉浸式光刻193nm波長技術這種增加光刻系統(tǒng)數(shù)值孔徑的方案相比，EUV從另外一個方面即直接縮短光波的波長入手來提升制程的等級。不過目前EUV光刻技術由于需要重新開發(fā)光掩膜技術，提升光源功率，因此這項技術要想走向主流仍有較多困難需要克服。