Mentor擴展版流程出爐，助力客戶迎接更多設(shè)計挑戰(zhàn)

Mentor Graphics公司近日宣布，公司已對臺積電 Reference Flow 10.0中的工具和技術(shù)進行擴展。擴展的Mentor流程支持復雜的集成電路高級功能驗證、28nm 集成電路 netlist-to-GDSII實現(xiàn)、與無處不在的Calibre物理驗證和DFM平臺更加緊密的集成和版圖感知測試故障診斷工具。此外，新推出的Mentor流程還以Mentor工具解決功能驗證、集成電路實現(xiàn)和集成電路測試中的低功耗設(shè)計問題。

“Mentor Graphics繼續(xù)擴大Reference Flow系列產(chǎn)品的范圍，從系統(tǒng)級到功能驗證、布局布線、物理驗證和硅片測試，再到提供新的解決方案，如低功耗、工藝多變性和硅片良品率分析，力爭使其覆蓋整個集成電路設(shè)計周期”，臺積電設(shè)計架構(gòu)市場部高級總監(jiān)莊少特表示。

Reference Flow 10.0 Mentor流程新增添了許多功能，包括臺積電Reference Flow中的首個Mentor實現(xiàn)解決方案，即 Olympus-SoC布局布線系統(tǒng)。對于高級的集成電路實現(xiàn)，Olympus-SoC系統(tǒng)的新功能成功解決了片上變異、28nm布線和低功耗設(shè)計問題：

高級階段OCV分析和優(yōu)化——設(shè)置不同階段的OCV數(shù)值，幫助減少失敗率，實現(xiàn)更快的設(shè)計收斂。

N28布線規(guī)則——為整個netlist-to-GDSII流程提供28nm支持，包括支持28nm transparent half-node。

分離式Power Domain——支持在同一電壓域設(shè)多個floor plan，以最大程度減少擁擠程度和層次化修改。

UPF層次化低功耗自動化——為基于UPF的低功耗設(shè)計提供top-down和自bottom-up的支持，賦予設(shè)計師更多靈活性。

對Olympus-SoC和Calibre平臺內(nèi)的DFM功能進一步擴展和集成，以解決28nm級或更高級別的工藝多變性問題

光刻熱點修復——利用Olympus-SoC布局布線工具自動修復Calibre LFD檢測到的光刻熱點來提高良品率。

快速收斂解決金屬填充時序和ECO——Olympus-SoC系統(tǒng)調(diào)用Calibre CMPAnalyzer工具（配合臺積電的VCMP仿真器工作）來分析厚度變異對時序的影響。

Olympus-SoC工具還支持層次化、遞增和時序驅(qū)動金屬填充流程，極大地提高了良品率，降低了失敗率。

Cell-index感知布局——為管腳難以處理的模塊分配更多空間，降低擁擠程度，加速布線。

電氣DFM——集成Calibre xRC和Calibre CMPAnalyzer產(chǎn)品，允許將仿真厚度信息合并到寄生參數(shù)提取結(jié)果中，以驅(qū)動精確的電路仿真。它還將統(tǒng)計性寄生參數(shù)信息發(fā)送給Mentor Eldo電路仿真器，為更高效的邊角仿真和統(tǒng)計分析提供解決方案。

此外，Calibre nmDRC和Calibre nmLVS產(chǎn)品還支持Reference Flow 10.0封裝（SIP）設(shè)計中的2D和3D系統(tǒng)sign-off物理驗證。

Reference Flow 10.0加入了TestKompress?和YieldAssist產(chǎn)品的新特性，用于更好的缺陷檢測、功耗感知測試和故障診斷：

嵌入式多檢測ATPG——提高橋接缺陷檢測，而不增加樣式大小或測試時間。

版圖感知診斷——減少錯誤的橋接/開路疑點，提高診斷精度，為有效的良品率分析建立基礎(chǔ)。

低功率ATPG——利用恒定解壓器和現(xiàn)有時鐘門控功耗感知控制，降低掃描測試所有階段的功耗。

Reference Flow 10.0還包括了Questa和0-In平臺的高級功能驗證特性，用于復雜IC設(shè)計的增強型驗證。

基于標準的解決方案，支持IEEE標準、1801-2009 UPF和IEEE標準、1800-2005 SystemVerilog。

集成低功耗仿真和形式化功能，在設(shè)計流程早期驗證高級功耗管理電路。

跨電路復雜時鐘域靜態(tài)和動態(tài)驗證，保證標準和低功耗模式下能正常工作。

“臺積電Reference Flow 10.0中完整的Mentor設(shè)計到硅片流程允許我們一起幫助共同的客戶解決在28nm所面臨的最大挑戰(zhàn)，包括低功耗設(shè)計和驗證、大規(guī)模SoC實施、工藝多變性、經(jīng)濟型測試和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines說?！靶袠I(yè)在向28nm工藝過渡時也提出了新的技術(shù)挑戰(zhàn)，Mentor為此有自己獨到的解決方案。我們與臺積電密切合作，利用工具消除設(shè)計師和代工廠間的距離，并同時幫助客戶在提高產(chǎn)品性能和可靠性的同時縮短產(chǎn)品的上市時間?！?/FONT>