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    從國(guó)外媒體處獲悉:美國(guó)IBM公司和日本TDK公司日前宣布,將發(fā)起一項(xiàng)聯(lián)合研發(fā)計(jì)劃,推動(dòng)磁阻內(nèi)存(MRAM)的量產(chǎn)和市場(chǎng)推廣。 

  傳統(tǒng)內(nèi)存使用電荷存儲(chǔ)數(shù)據(jù),磁阻內(nèi)存使用電磁性能存儲(chǔ)數(shù)據(jù),它沒有讀寫次數(shù)限制,功耗更低,速度比目前的閃存還要快,被認(rèn)為是內(nèi)存技術(shù)的未來。不過,目前磁阻內(nèi)存的生產(chǎn)成本還比較高。 

  IBM公司和TDK公司宣布,聯(lián)合研發(fā)計(jì)劃的重點(diǎn)是開發(fā)高容量、高密度的磁阻內(nèi)存電路,可以當(dāng)作單獨(dú)的內(nèi)存芯片,或是集成到其他芯片上。 

  專家表示,將來如果磁阻內(nèi)存獲得推廣,人們?cè)趲酌腌娭畠?nèi)啟動(dòng)系統(tǒng)將不是夢(mèng)想。因?yàn)榇抛鑳?nèi)存的數(shù)據(jù)斷電也可自行保存,無須再?gòu)挠脖P上拷入。 

  聯(lián)合研發(fā)計(jì)劃為期四年,將在IBM公司和TDK公司的多個(gè)研究機(jī)構(gòu)內(nèi)進(jìn)行,其中包括TDK公司在美國(guó)加州Milpitas市的研發(fā)中心。 

  值得一提的是,今年三月份,中國(guó)科學(xué)院物理所宣布,已經(jīng)研發(fā)出了一種全新的磁阻內(nèi)存,比其他廠商的成果相比,功耗更低、芯片面積更小。
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