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[導(dǎo)讀]過去臺(tái)灣在DRAM產(chǎn)業(yè)上的主要技術(shù)合作來源包括日本、美國(guó)、南韓和德國(guó),這幾大陣營(yíng)各自在制程技術(shù)上有很大差別,最大差別在于德系業(yè)者采用溝槽式(Trench)制程技術(shù),在這一波金融風(fēng)暴洗禮之下,成為被淘汰的陣營(yíng)。當(dāng)年

過去臺(tái)灣在DRAM產(chǎn)業(yè)上的主要技術(shù)合作來源包括日本、美國(guó)、南韓和德國(guó),這幾大陣營(yíng)各自在制程技術(shù)上有很大差別,最大差別在于德系業(yè)者采用溝槽式(Trench)制程技術(shù),在這一波金融風(fēng)暴洗禮之下,成為被淘汰的陣營(yíng)。

當(dāng)年各廠面臨溝槽式和堆棧式(Stack)技術(shù)的十字路口時(shí),日系東芝(Toshiba)、德系西門子(Siemens)和美系IBM都決定選擇發(fā)展溝槽式技術(shù),其它像是恩益禧(NEC)、三菱(Mitsubishi)、日立(Hitachi)、三星電子(Samsung Electronics)和海力士(Hynix)則是押寶堆棧式技術(shù)。

溝槽式技術(shù)瓶頸浮現(xiàn) 僅西門子繼續(xù)發(fā)展

隨著半導(dǎo)體技術(shù)制程微縮進(jìn)度到了90納米以下,東芝和IBM漸漸面臨技術(shù)瓶頸,因此這兩家公司率先決定退出DRAM產(chǎn)業(yè),唯一選擇繼續(xù)做下去的是西門子,之后西門子將半導(dǎo)體部門獨(dú)立為英飛凌(Infineon),最后是將內(nèi)存事業(yè)群獨(dú)立成為奇夢(mèng)達(dá)(Qimonda),當(dāng)時(shí)奇夢(mèng)達(dá)也感受到溝槽式制程的瓶頸壓力,但還是繼續(xù)往下微縮。

DRAM技術(shù)在90納米制程以下,最關(guān)鍵的分界點(diǎn)就是溝槽式和堆棧式的機(jī)器設(shè)備,必須采用不同的設(shè)計(jì)方式。奇夢(mèng)達(dá)知道設(shè)備商支持開發(fā)技術(shù)的重要性,因此就要求美商應(yīng)用材料(Applied Materials)等關(guān)鍵設(shè)備商,一定要持續(xù)開發(fā)溝槽式機(jī)器設(shè)備,以免設(shè)備端的資源全倒向堆棧式技術(shù)制程。

同時(shí),奇夢(mèng)達(dá)也積極拉攏臺(tái)系DRAM廠,包括臺(tái)塑集團(tuán)旗下的南亞科、華亞科和華邦等加入奇夢(mèng)達(dá)技術(shù),讓溝槽式技術(shù)的規(guī)模在全球有足夠的產(chǎn)能,以能說服設(shè)備廠商繼續(xù)生產(chǎn)。

半導(dǎo)體技術(shù)愈尖端 設(shè)備商支持與否成關(guān)鍵

在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,當(dāng)制程技術(shù)越走越尖端時(shí),材料設(shè)備就會(huì)有很大的不同,一旦更換技術(shù)陣營(yíng),機(jī)器設(shè)備幾乎都要重新更換,如果DRAM業(yè)者制程技術(shù)都是延續(xù)同一個(gè)陣營(yíng),在機(jī)器設(shè)備的沿用性上也較有優(yōu)勢(shì)。

像現(xiàn)在爾必達(dá)(Elpida)和力晶、瑞晶等,從68納米、65納米到63納米制程到下一世代的45納米,都是維持同一技術(shù)基礎(chǔ),機(jī)器設(shè)備也都可以沿用下去。

再者,爾必達(dá)過去在50納米研發(fā)上,曾經(jīng)導(dǎo)入銅制程,但在新一代45納米制程上,爾必達(dá)選擇放棄銅制程,持續(xù)使用鋁制程,這大概是全世界唯一在40納米世代還能持續(xù)用鋁制程的DRAM廠,爾必達(dá)甚至還想把銅制程繼續(xù)沿用到38納米制程,這對(duì)于成本結(jié)構(gòu)的降低有很大的幫助。

整體來看,如果導(dǎo)入50納米制程的業(yè)者,必須增加銅制程和浸潤(rùn)式微米曝光機(jī)臺(tái)的投資,成本將增加30~35%,但50納米相較63納米增加的顆粒數(shù)卻不到30%。

此外,像是在63納米制程世代上,良率最高可以拉升至80~90%,但到了50納米制程,即使是三星的良率要做到成本交叉點(diǎn)(Cross Over),頂多也只能拉到80%的良率,顯見半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制程技術(shù)越往下微縮,良率越來越難提升,投資與報(bào)酬率不如以往這么高。

簡(jiǎn)而言之,半導(dǎo)體業(yè)產(chǎn)業(yè)每一個(gè)世代制程越往下走,其投資金額卻是越來越高,但產(chǎn)生的效應(yīng)卻是越來越有限,這是物理上的限制,也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一大挑戰(zhàn),尤其是在30納米制程以下,此物理效應(yīng)會(huì)更為明顯。

DRAM產(chǎn)業(yè)由盛到衰 2009年大衰退史無前例

回顧1999年以前,全球DRAM產(chǎn)業(yè)百花齊放,共計(jì)有14家DRAM廠,包括三星、美光(Micron)、IBM、現(xiàn)代、西門子、NEC、日立、三菱、東芝、力晶、茂德、南亞科、華邦、世界先進(jìn)等,之后全球DRAM產(chǎn)業(yè)共經(jīng)歷4次大整合,第1次是2001~2002年之間,IBM、東芝退出市場(chǎng),南韓的現(xiàn)代獨(dú)立半導(dǎo)體事業(yè)部門成立海力士,日系陣營(yíng)的NEC、日立、三菱也整合成爾必達(dá)等。

到了2003~2004年,全球DRAM產(chǎn)業(yè)更只剩下5大陣營(yíng),包括三星和海力士;茂德和爾必達(dá);力晶和奇夢(mèng)達(dá);南亞科、華亞科和華邦;最后則是美光;然到了2007年后的這一波整合潮,全球5大陣營(yíng)出現(xiàn)變化,南亞科和華亞科選擇和美光結(jié)盟,與奇夢(mèng)達(dá)同一陣營(yíng)的只剩下華邦,這時(shí)只有三星仍單打獨(dú)斗。

2009年這一波金融風(fēng)暴,原因可推回2004~2006年期間,全球資本市場(chǎng)資金借貸非常寬松,每家DRAM廠都大舉借貸來擴(kuò)充產(chǎn)能,導(dǎo)致2008~2009年這一波有史以來最嚴(yán)重的衰退潮。

DRAM價(jià)格從2006年第4季1顆6美元,一路跌到2009年第1季只剩下0.6美元,幾乎只剩10分之1的價(jià)格,也讓全球所有DRAM廠都面臨巨額虧損壓力,多數(shù)DRAM廠只好把晶圓廠暫時(shí)停產(chǎn),當(dāng)時(shí)力晶13萬片的12吋晶圓廠產(chǎn)能,減產(chǎn)到最低1個(gè)月只生產(chǎn)2萬片。

奇夢(mèng)達(dá)更在這次的衰退潮下宣布退出全球DRAM產(chǎn)業(yè),剩下的4大陣營(yíng)也出現(xiàn)轉(zhuǎn)變,茂德從海力士陣營(yíng)轉(zhuǎn)投爾必達(dá)陣營(yíng),全球剩下三星、海力士、爾必達(dá)結(jié)合力晶、瑞晶、茂德和華邦,以及美光結(jié)合南亞科和華亞科等4大陣營(yíng)鼎立。

以目前全球4大陣營(yíng)12吋晶圓廠產(chǎn)能來看,爾必達(dá)自己廠房有10萬片,加上力晶13萬片,加上瑞晶8萬片、茂德6萬片,總共有37萬片;而美光自己有8萬片產(chǎn)能,加上南亞科3萬片和華亞科13萬片產(chǎn)能,共有24萬片產(chǎn)能;三星、海力士則分別有32萬片和26萬片產(chǎn)能。

三星追求利潤(rùn)和ROE 殺價(jià)競(jìng)爭(zhēng)機(jī)率不高

受到金融風(fēng)暴重?fù)簦?010年全球DRAM產(chǎn)業(yè)是史上頭一遭沒有任何1座新廠產(chǎn)能加入生產(chǎn)行列,但日前三星宣布要蓋1座月產(chǎn)能20萬片的半導(dǎo)體晶圓廠,引發(fā)市場(chǎng)相當(dāng)大的疑慮和擔(dān)憂。

深入了解,這座月產(chǎn)能20萬片的晶圓廠涵蓋3大項(xiàng)產(chǎn)品,包括60納米以下的邏輯制程、NAND Flash和DRAM等,以三星目前市場(chǎng)規(guī)模和客戶需求,其實(shí)不用擔(dān)心新產(chǎn)房擴(kuò)充會(huì)造成供過于求的后果。

再者,三星現(xiàn)在的策略是追求獲利率和股東權(quán)益報(bào)酬率(ROE)為主,更不會(huì)希望把臺(tái)灣這些DRAM廠都趕盡殺絕,如果只剩下三星在DRAM產(chǎn)業(yè)的市占率獨(dú)大,未來恐面臨美國(guó)反壟斷訴訟。

面對(duì)未來臺(tái)灣DRAM產(chǎn)業(yè)的發(fā)展策略,最重要的就是不能再像過去一樣不斷舉債且盲目蓋廠,再投資個(gè)500億元讓DRAM價(jià)格又跌一半,然后大家又再一次面臨巨額虧損的磨難,這樣的游戲以前力晶也是其中一員,但不能再重來一次,否則一旦面臨景氣反轉(zhuǎn)直下時(shí),背負(fù)的巨額負(fù)債問題,將會(huì)再度威脅到公司生存地位。(黃崇仁口述,記者連于慧整理)

黃崇仁為力晶科技董事長(zhǎng)暨創(chuàng)辦人,畢業(yè)于臺(tái)大物理系、美國(guó)紐約市立大學(xué)西奈山醫(yī)學(xué)院醫(yī)學(xué)博士。
 

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