臺積電準備啟動首臺EUV光刻機

時間：2011-09-11 09:01:54

關鍵字：臺積電 EUV光刻機 BSP 節(jié)點

手機看文章

掃描二維碼
隨時隨地手機看文章

[導讀]臺灣積體電路制造股份有限公司（“臺積電”）即將在兩周后啟動首臺EUV光刻機。這表示臺積電的下一步將是評估用于生產下一代芯片的三種光刻機。臺積電納米成像部副總裁林本堅表示：“臺積電是唯一一家

臺灣積體電路制造股份有限公司（“臺積電”）即將在兩周后啟動首臺EUV光刻機。這表示臺積電的下一步將是評估用于生產下一代芯片的三種光刻機。

臺積電納米成像部副總裁林本堅表示：“臺積電是唯一一家愿意冒險嘗試使用三種光刻機的企業(yè)。”

臺積電最近正在測試Mapper Lithography BV公司的電子束直寫系統(tǒng)的原型版并取得了不錯的結果。臺積電打算在明年安裝KLA Tencor公司的電子束曝光機，林本堅說。

最后，臺積電只從中采用一種機器，或將首次使用在14nm節(jié)點上。林本堅表示：“我們希望能在不到兩年的時間里決定出最好的一種。”

臺積電從ASML公司購買了型號為3100的EUV光刻系統(tǒng)，于兩周后首度啟用。

工程師們已經(jīng)在EUV光刻技術上苦研多年，但光刻設備的生產能力至今仍遠低于商業(yè)水平，而生產成本卻高于1.2億美元。林本堅表示，他對電子束光刻系統(tǒng)寄予很高的期望，因為這種系統(tǒng)不需要用到面罩，因而降低了復雜性和成本。

上周，GlobalFoundries公司表示已購買了ASML公司的3300系統(tǒng)，并于明年安裝。GlobalFoundries公司打算在20nm節(jié)點測試該系統(tǒng)，希望能用于14nm節(jié)點的商用芯片生產。

根據(jù)半導體貿易協(xié)會的數(shù)據(jù)顯示，臺灣是半導體資本設備的最大市場。臺灣今年的半導體設備市場規(guī)模有望達到106.2億美元，高于韓國的79.8億美元。（翻譯：Laven）

1 2

附原文：TSMC ready to flip the switch on EUV

TAIPEI – Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. will switch on its first extreme ultraviolet machine in two weeks. The milestone marks the next step in the foundry's goal of evaluating three competing lithography machines for making next-generation chips.