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[導(dǎo)讀]為了提高產(chǎn)品的生產(chǎn)率和利潤(rùn),近年來(lái)晶圓面積不斷擴(kuò)大,大約每10年升級(jí)一次。1991年業(yè)界開(kāi)始投產(chǎn)200mm晶圓,2001年起步向300mm晶圓過(guò)渡,依次類推,ITRS(國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖)和摩爾定律都認(rèn)為,2012年是向走向

為了提高產(chǎn)品的生產(chǎn)率和利潤(rùn),近年來(lái)晶圓面積不斷擴(kuò)大,大約每10年升級(jí)一次。1991年業(yè)界開(kāi)始投產(chǎn)200mm晶圓,2001年起步向300mm晶圓過(guò)渡,依次類推,ITRS(國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖)和摩爾定律都認(rèn)為,2012年是向走向450mm晶圓的元年。的確,少數(shù)巨型企業(yè)如Intel、三星和臺(tái)積電表示了肯定的態(tài)度,為2012年過(guò)渡到450mm而做著準(zhǔn)備,與制造設(shè)備、材料廠商開(kāi)展協(xié)商以便供應(yīng)設(shè)備和材料,同時(shí)進(jìn)行有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)化方面的工作。他們?cè)O(shè)想,向450mm過(guò)渡就像以往向300mm過(guò)渡一樣,可以增加向用戶提供的價(jià)值,生產(chǎn)率翻番。據(jù)說(shuō),三家公司間也開(kāi)展合作,打算2012年進(jìn)入試生產(chǎn)階段。與此同時(shí),三家公司倒也并未把話說(shuō)絕,存有保留,有表示要繼續(xù)評(píng)估之說(shuō)。

總體來(lái)說(shuō),今年業(yè)界對(duì)向450mm過(guò)渡采取了比去年慎重的態(tài)度,究竟風(fēng)險(xiǎn)太大,估算一條生產(chǎn)線的成本最多將超過(guò)250億美元,幾乎是300mm線的10倍。單憑期望值而不作客觀利益分析就貿(mào)然投資,今天怕沒(méi)有哪家半導(dǎo)體企業(yè)具有這樣雄厚的實(shí)力。其次,一些技術(shù)問(wèn)題尚不成熟,如92.5um的晶圓厚度等還有待繼續(xù)驗(yàn)證。今年7月在SEMICON West會(huì)議上,大多與會(huì)者均贊同第一個(gè)發(fā)言的日本Elpida公司社長(zhǎng)坂本幸雄所說(shuō):“雖然目前面臨著很多難題,但半導(dǎo)體的未來(lái)仍然值得我們?nèi)ヌ魬?zhàn)”,反映了大家的心態(tài)。SEMI(國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備和材料協(xié)會(huì))在8月的《SEMI Global Update》上發(fā)表了“向450mm晶圓過(guò)渡的5大誤區(qū)”一文,它的主要觀點(diǎn)稱:“目前并不是向450mm過(guò)渡的最佳時(shí)期,而且恐怕今后也不會(huì)來(lái)臨”,表示了一種頗為悲觀的態(tài)度。

SEMI 2005年發(fā)表的白皮書即說(shuō),半導(dǎo)體業(yè)界對(duì)于先端工藝的研發(fā)投資并未增加。電子產(chǎn)品和生產(chǎn)設(shè)備的研發(fā)費(fèi)用近年常感不足,企業(yè)為了能生存下去,對(duì)研發(fā)費(fèi)用不得不嚴(yán)加限制。又據(jù)IC Insights公司報(bào)道,世界半導(dǎo)體公司為追求技術(shù)工藝發(fā)展,1990~2007年期間研發(fā)費(fèi)的年均增加率為12.7%,達(dá)457億美元,而同期銷售值的增長(zhǎng)率為9.9%,17年間業(yè)界研發(fā)費(fèi)年平均占其銷售值高達(dá)15%,且其年增長(zhǎng)率高出銷售值2.8個(gè)百分點(diǎn),半導(dǎo)體業(yè)研發(fā)開(kāi)支難以為繼不言而喻。

針對(duì)這種情況,SEMI和ISMI(International SEMATECH Manufacturing Initiative—美國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)制造協(xié)會(huì))于2年半前設(shè)立了一個(gè)EPWG(Equipment Productivity Working Group)設(shè)備生產(chǎn)率工作組對(duì)過(guò)渡450mm晶圓問(wèn)題進(jìn)行了研究,得出的明確結(jié)論是:“此非其時(shí)”。它提出的5條理由或稱5個(gè)誤區(qū)如下:

1. 晶圓尺寸每10年擴(kuò)大1.5倍

隨著近年半導(dǎo)體業(yè)的增長(zhǎng)率逐漸趨緩,10年擴(kuò)大1.5倍事實(shí)上已做不到,今后會(huì)超過(guò)10年。從投資費(fèi)用/生產(chǎn)效果的分析來(lái)看,10年一變不過(guò)是神話罷了。

2. die增大要求走向450mm晶圓

一般認(rèn)為,由于die增大,晶圓將隨之?dāng)U大??蓳?jù)分析今天die尺寸已經(jīng)到頭,甚至還會(huì)縮小,晶圓已無(wú)擴(kuò)大必要。

3. 圓片增大將節(jié)減芯片成本

經(jīng)對(duì)現(xiàn)有器件成本的分析,450mm圓片估計(jì)占芯片成本的10%,而組裝、封裝和測(cè)試的成本正逐漸提升,成為業(yè)界無(wú)論技術(shù)還是經(jīng)濟(jì)上面臨的重大課題。

4. 晶圓尺寸擴(kuò)大會(huì)顯著提高生產(chǎn)率

據(jù)EPWG的成本研究,生產(chǎn)率的提高大多不是因?yàn)榫A尺寸的擴(kuò)大,而是由于使用的生產(chǎn)設(shè)備所致。以300mm晶圓為例,生產(chǎn)率的提高主要即來(lái)自生產(chǎn)手段,如前端開(kāi)放式統(tǒng)一槽和自動(dòng)材料處理系統(tǒng)等??蛇@些設(shè)備因受處理面積的限制,并不適用于450mm晶圓。

5. 晶圓尺寸變革是促進(jìn)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)展的唯一途徑

多少年來(lái)半導(dǎo)體業(yè)以遵循摩爾定律的技術(shù)發(fā)展為首要原動(dòng)力,實(shí)際上,當(dāng)今半導(dǎo)體業(yè)的投資選擇和經(jīng)營(yíng)決策須看產(chǎn)品的應(yīng)用和消費(fèi)變化,單一依靠技術(shù)進(jìn)步將帶來(lái)極大的風(fēng)險(xiǎn)?,F(xiàn)在已是消費(fèi)者主導(dǎo)時(shí)代,半導(dǎo)體業(yè)將以多品種、小批量生產(chǎn)為主以迅速適應(yīng)市場(chǎng)的變化。產(chǎn)品市場(chǎng)化的先后和量產(chǎn)時(shí)間的快慢將決定企業(yè)的成敗。

環(huán)顧當(dāng)前世界,半導(dǎo)體產(chǎn)能主要仍集中于200mm和300mm晶圓,我們看到了有出售200mm生產(chǎn)線的,但建設(shè)300mm的企業(yè)仍時(shí)有所聞,300mm正當(dāng)時(shí)。事物總是要發(fā)展的,鑒于當(dāng)前經(jīng)濟(jì)、技術(shù)種種形勢(shì),轉(zhuǎn)向450mm晶圓很有可能會(huì)延緩,但就此止步300mm恐怕是危言聳聽(tīng)。

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