Gartner：2012年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出減少16%

根據(jù)國際研究暨顧問機(jī)構(gòu)Gartner統(tǒng)計(jì)，2012年全球半導(dǎo)體資本設(shè)備支出總額為378億美元，較2011年減少16.1%;由于沈積及制程控制方面的相對優(yōu)勢，應(yīng)用材料公司(AppliedMaterials)去年?duì)I收55.13億美元，市占14.4%，重新登上第一名寶座。

Gartner統(tǒng)計(jì)，受DRAM產(chǎn)能需求下降、2012下半年整體半導(dǎo)體裝置需求減緩和庫存暴增的影響，制造設(shè)備的銷售量從第2季至年底為止呈現(xiàn)逐季下滑。晶圓級制造受到微影(lithography)與沈積(deposition)領(lǐng)域疲弱的影響，在2012年表現(xiàn)低于整體市場。在主要領(lǐng)域中，即主要受到邏輯制造影響的領(lǐng)域，以28/20奈米制程和良率改善的表現(xiàn)較佳。

Gartner副總裁Klaus-DieterRinnen表示，「DRAM長期供過于求及轉(zhuǎn)進(jìn)NAND后又造成供過于求，導(dǎo)致產(chǎn)能需求下降。內(nèi)存制造相關(guān)的采購大幅減少。邏輯相關(guān)的支出也僅能稍微抵銷一點(diǎn)下降力道，因?yàn)槭艿?012下半年整體半導(dǎo)體裝置需求減緩和庫存暴增的影響。因此，制造設(shè)備的銷售量從第2季至年底為止呈現(xiàn)逐季下滑」。

由于沈積及制程控制方面的相對優(yōu)勢，應(yīng)用材料公司(AppliedMaterials)重新登上第一名寶座。艾司摩爾(ASML)則因微影市場疲弱與極紫外光(EUV)銷售不佳的影響，造成營收下滑28%，去年?duì)I收48.87億美元，市占12.88%，居第二名。

東京威力科創(chuàng)(TokyoElectronLtd.,TEL)同樣受惠于在非微影市場的相對優(yōu)勢，去年?duì)I收42.19億美元，市占11.1%，排名第三;LamResearch在購并諾發(fā)系統(tǒng)(NovellusSystems)后晉升至第四名，去年?duì)I收28.35億美元，市占7.4%。

Gartner分析師表示，2012年前十大半導(dǎo)體制造設(shè)備廠廠商的銷售額所占全球比例進(jìn)一步攀升至近70%，顯示設(shè)備市場日益仰賴少數(shù)幾家供應(yīng)廠商。

Rinnen表示，「值得注意的是前十大廠商的銷售額所占全球比例進(jìn)一步攀升，現(xiàn)已將近70%，2008年只有61%。這些大型廠商的成長代表小型廠商輸?shù)暨@場競賽，凸顯設(shè)備市場日益仰賴少數(shù)幾家供應(yīng)廠商」。

GartnerInc(紐約證交所上市編號︰IT)為全球領(lǐng)先信息科技研究及顧問機(jī)構(gòu)，致力提供與科技相關(guān)的真知灼見，協(xié)助客戶每天作出明智決策。該機(jī)構(gòu)對1萬2000家機(jī)構(gòu)而言是不可或缺的合作伙伴，其中包含企業(yè)及政府機(jī)關(guān)、科技公司及投資機(jī)構(gòu)等的進(jìn)階信息科技行政人員。

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