上海微電子攜SMEE 300系列光刻機(jī)進(jìn)軍LED產(chǎn)業(yè)

LED半導(dǎo)體照明網(wǎng)訊 致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment；SMEE)，日前在臺(tái)參加半導(dǎo)體展，展出了用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機(jī)設(shè)備。

此次半導(dǎo)體展，上海微電子裝備有限公司展出SSB500系列步進(jìn)投影光刻機(jī)，基于先進(jìn)的步進(jìn)光刻機(jī)平臺(tái)技術(shù)，提供覆蓋IC后道封裝、MEMS/NEMS制造的步進(jìn)投影光刻機(jī)。該系列光刻機(jī)采用ghi線的高功率汞燈作為曝光光源，其先進(jìn)的逐場(chǎng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)對(duì)薄膠和厚膠工藝，以及3D-TSV結(jié)構(gòu)等具有良好的自動(dòng)適應(yīng)性，并通過采用自主專利的圖像智能識(shí)別技術(shù)，無需專門設(shè)計(jì)特殊對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。該系列設(shè)備具有高分辨率、高套刻精度和高生產(chǎn)率等一系列優(yōu)點(diǎn)，可滿足用戶對(duì)設(shè)備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產(chǎn)需求。

上海微電子SSB300/10A步進(jìn)投影光刻機(jī)，適用于2-6英吋基底LED的PSS和電極的光刻工藝。

另外，也展出SSB300系列步進(jìn)投影光刻機(jī)，該系列機(jī)臺(tái)適用于2~6英吋基底LED的PSS和電極的光刻工藝?？梢詰?yīng)對(duì)大翹曲藍(lán)寶石基底的曝光，能夠?qū)崿F(xiàn)2~6英吋基底的自動(dòng)切換，能夠在生產(chǎn)中實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)基底面型，保證客戶在使用過程中不再受吸盤污染的困擾。采用高性能縮減式物鏡確保亞微米分辨率和高曝光均勻性、精密特制運(yùn)動(dòng)臺(tái)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高精度的圖形拼接與精確的套刻。具有低使用成本、高曝光均勻性、高產(chǎn)能等特點(diǎn)，可滿足LED生產(chǎn)線的各種使用要求。除此之外，該系列機(jī)臺(tái)還能夠適應(yīng)硅和SiC等多種基底的曝光、可選背面對(duì)準(zhǔn)配置，將機(jī)臺(tái)的應(yīng)用擴(kuò)展至MEMS領(lǐng)域。