半導體設備大廠應用材料(AppliedMaterials,AMAT)宣布推出一組以金屬氧化物晶體管生產(chǎn)的全新技術系統(tǒng)，可用于生產(chǎn)包括4K2K電視面板在內(nèi)所需的薄膜晶體管(TFT)。應用材料指出，該款系統(tǒng)符合今日消費者對屏幕性能、清晰度、色彩和明亮度的更高規(guī)格需求，可生產(chǎn)高分辨率顯示器所需的更小、反應更快的薄膜晶體管。
應用材料指出，新的PVD和PECVD系統(tǒng)的材料工程能力，為未來量產(chǎn)以金屬氧化物為基礎的顯示器，提供最佳化、具成本效益的解決方案。該生產(chǎn)技術平臺主要可導入大尺寸、超高分辨率(UHD)液晶顯示和有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器的生產(chǎn)，不僅大幅提升應材在金屬氧化物(MO)薄膜和技術的領導地位。
金屬氧化物型薄膜晶體管為可制造低功率、高分辨率的智能型手機、平板計算機及有機發(fā)光二極管電視(OLEDTV)之先進技術。未來4K2K超高分辨率電視機預計也將采用金屬氧化物薄膜晶體管技術。應用材料的PVD和CVD系統(tǒng)均具備均勻度和微塵粒子控制技術，有助客戶提供高良率量產(chǎn)的全新顯示器。
應用材料公司資深副總裁AliSalehpour指出，應用材料的PVD和PECVD系統(tǒng)，能協(xié)助客戶轉換既有的金屬氧化物材料技術，加速顯示器產(chǎn)業(yè)的技術藍圖演進，同時符合客戶對均勻度、微塵粒子控制和穩(wěn)定度挑戰(zhàn)的嚴格要求。
應材指出，新的PVD系統(tǒng)可提升均勻度、同構型和低缺陷的金屬氧化物反應層沉積(例如氧化銦鎵鋅IGZO)，以及金屬導線和像素電極特性。應材說明，當薄膜晶體管愈來愈小，而基板愈來愈大時，均勻度和微塵粒子對良率就會產(chǎn)生更大的影響力；均勻的IGZOPiVot沉積膜可使薄膜晶體管達到高可靠度，是顯示器高質(zhì)量的重要因素，也是大小尺寸OLED使用金屬氧化物技術背板的關鍵所在。
另一方面，應用材料的新PECVD系統(tǒng)則提供領先市場的二氧化硅(SiO2)制程，可降低制程的氫含量、并為金屬氧化物晶體管沉積絕緣層界面，藉此增進晶體管的長期穩(wěn)定性并提升屏幕最佳化的性能。
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