Gartner指出2010年全球半導(dǎo)體資本設(shè)備支出增長143%

21ic訊 根據(jù)全球技術(shù)研究和咨詢公司Gartner最新報告，隨著半導(dǎo)體行業(yè)從前兩年的衰退期逐漸恢復(fù)，2010年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場增長143%，收入將近410億美元。所有主要的市場領(lǐng)域在2010年均有顯著的增長：其中包括自動測試設(shè)備（ATE）銷售增長149%，晶圓制造設(shè)備（WFE）銷售增長145%，封裝設(shè)備銷售（PAE）增長127%。

Gartner管理副總裁Klaus Rinnen表示：“半導(dǎo)體設(shè)備市場在2010年出現(xiàn)強(qiáng)勁增長，主要是由2008年和2009年經(jīng)濟(jì)衰退抑制住的需求以及優(yōu)于預(yù)期的經(jīng)濟(jì)表現(xiàn)所推動的，2010年半導(dǎo)體市場也保持了持續(xù)好轉(zhuǎn)的狀態(tài)。盡管所有領(lǐng)域均顯著增長，但內(nèi)存和晶圓代工支出是主要的驅(qū)動力。”

Rinnen先生接著表示：“2010年以技術(shù)購買開始，產(chǎn)能購買緊隨其后，致使2010年成為半導(dǎo)體行業(yè)歷史上增長最為強(qiáng)勁的年份之一。我們也看到前十大半導(dǎo)體設(shè)備公司的一些變化，使用雙重曝光的部分公司比其他同業(yè)受益的程度更大。”

2010年，前十大半導(dǎo)體設(shè)備公司市場份額上升了將近2%，占半導(dǎo)體總收入的63.4%，高于2009年的61.6%（見表一）。

應(yīng)用材料（Applied Materials）公司在市場上仍舊占據(jù)第一的位置，但該公司由于沒有利用光刻技術(shù)（lithography）在2010年的強(qiáng)勁增長，市場份額未見提升。ASML是2010年前十大半導(dǎo)體資本設(shè)備廠商中增長最快的公司。由于在雙重曝光中使用沉浸式光刻（immersion lithography），ASML排名從第三位上升到第二位，市場份額增長到13%。盡管東京電子（Tokyo Electron）獲得了一些額外的市場份額，但其排名下降到第三位。東京電子在track方面占優(yōu)勢地位，其相關(guān)的增長不能抵消該公司關(guān)鍵客戶相對低的支出所帶來的負(fù)面影響。

日本最近發(fā)生的地震將對行業(yè)造成短期沖擊，2011年第二季度收入恐將下滑。然而，Gartner分析師表示，半導(dǎo)體設(shè)備制造商應(yīng)該能在下半年恢復(fù)增長。

Rinnen先生表示：“顯然地，半導(dǎo)體行業(yè)在日本地震事件后面臨著材料供應(yīng)方面的一些挑戰(zhàn)。最新消息指出硅和BT樹脂可望逃脫缺貨命運(yùn)，但半導(dǎo)體行業(yè)在未來的幾個月內(nèi)仍舊面臨挑戰(zhàn)。”