受惠于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍處于循環(huán)周期高檔的因素,市場調(diào)查機構(gòu) IC insight 調(diào)查報告指出,2018 年全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的資本支出將首次突破千億美元大關(guān)。
報告中表示,之前在 2018 年 3 月份,IC insight 曾經(jīng)預(yù)期 2018 年全年半導(dǎo)體的資本支出將成長 8%。如今,才不到一季的時間,IC insigh 就把預(yù)估值由原本的 8% 上調(diào)至 14%。這樣看來,2018 年全年的半導(dǎo)體支出將首次破千億美元大關(guān),而且金額將比 2016 年足足成長 53%。
報告中進(jìn)一步指出,近兩年來始終位居半導(dǎo)體資本支出龍頭的韓國三星,雖然 2018 年還未公布全年的資本支出金額,但是一般相信,將不會超出 2017 年 242 億美元的數(shù)字。不過,就目前的觀察,三星仍在上緊發(fā)條不放松。
事實上,三星在 2018 年第 1 季的半導(dǎo)體資本支出達(dá)到 67.2 億美元,較之前 3 季水平略高。但是,若相較 2016 年同期,則已經(jīng)成長近 4 倍的規(guī)模。累計過去 4 季以來,三星半導(dǎo)體部門的資本支出已經(jīng)達(dá)到 266 億美元的金額。
IC insight 預(yù)期,2018 年三星半導(dǎo)體的資本支出將在 200 億元上下,略低于 2017 年 242 億美元。不過,因為 2018 年首季就有較之前略高的成長。因此,最后的結(jié)果很 可能將比預(yù)期的 200 億美元來的高。
另外,因為 NAND Flash 及 DRAM 的市場需求強勁,韓國存儲器大廠 SK 海力士預(yù)期也將在 2018 年增加資本支出至 115 億美元,較 2017 年的 81 億美元成長 42%。
而 SK 海力士在 2018 年增加的資本支出,將主用于在韓國清州兩家大型存儲器工廠的建置工作上。另外,還要擴大中國無錫的 DRAM 工廠。清州工廠在 2018 年年底前將開始興建,而中國無錫 DRAM 廠的擴建,也計劃在2018年年底前動工,這時間將比原計劃的 2019 年初開工要早幾個月。