7nm時代來臨，明年臺積電將代工100多款7nm芯片

來自外媒的消息報道說，預(yù)計到2018年底，臺積電用7nm工藝完成流片的芯片設(shè)計將超過50款，而到2019年底會有100多款芯片采用其7nm和增強版7nm EUV極紫外光刻技術(shù)。

作為代工行業(yè)的執(zhí)牛耳者，臺積電的7nm工藝正如火如荼。即便有中美貿(mào)易戰(zhàn)、挖礦需求衰退、智能手機銷量低迷等因素影響，7nm也將幫助臺積電在第三季度達(dá)成創(chuàng)紀(jì)錄的收入之后，第四季度繼續(xù)創(chuàng)造新高。

同時，盡管傳聞蘋果砍掉了一部分A12處理器訂單，臺積電仍然預(yù)計到明年會有100多款基于7nm、7nm EUV極紫外光刻工藝的芯片完成流片，在今年50款的基礎(chǔ)上翻一番還多，其中不乏華為麒麟、高通、AMD、NVIDIA、Xillinx這樣的大客戶。

因此，臺積電對于7nm工藝未來幾年的前景非常樂觀，預(yù)計相關(guān)年收入可以穩(wěn)定達(dá)到100-120億美元。

極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)，常稱作EUV光刻，極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。業(yè)界有人曾提到，EUV 光刻的技術(shù)能夠拯救摩爾定律。

在此之前，臺積典曾宣布，7nm EVU已經(jīng)完成芯片流片，魏哲家則透露，臺積電計劃在2020年大規(guī)模量產(chǎn)7nm EUV。

7nm EVU相比于7nm DUV晶體管密度提升20%，同等頻率下功耗可降低6-12%。

臺積電7nm目前正在全速開工，將在今年第四季度為臺積電貢獻(xiàn)晶圓收入的20%以上，全年比例則可接近10%，明年全年則能超過20%。