中芯國際和新思科技擴展40nm Reference Flow 5.0
21ic訊 新思科技公司(Synopsys, Inc.),與中芯國際集成電路制造有限公司(“SMIC”)日前宣布:從即日起推出其40納米RTL-to-GDSII參考設計流程的5.0版本。此款經(jīng)過生產(chǎn)驗證的流程借助Synopsys的完整工具套件,將多樣化的自動化低功耗和高性能功能整合在其中,給中芯國際的客戶帶來了目前芯片設計所需要的差異化性能和功耗結(jié)果。
此參考流程是中芯國際與Synopsys專業(yè)服務部共同合作的成果,它充分運用Synopsys在先進芯片設計方法學領域的經(jīng)驗和專業(yè)知識。該參考流程具有新的高性能設計技術(shù),包括用以提高一款系統(tǒng)級芯片(SoC)性能和響應能力的自動時鐘網(wǎng)狀綜合,以及一個可使設計師快速實現(xiàn)設計收斂而不必對重新設計從頭做起的門陣列工程更改指令(ECO)。該參考流程還包括對低功耗技術(shù)的支持,這些技術(shù)諸如能感知功率的時鐘樹型綜合、功率選通與物理優(yōu)化、以及由IEEE 1801驅(qū)動的低功耗設計意圖標準等。
“設計師渴求一種能夠同時滿足高性能和低功耗要求的參考流程,”SMIC公司設計服務副總裁湯天申說道。“隨著SMIC-Synopsys參考流程5.0的發(fā)布,我們將使IC設計師能夠通過將中芯國際的40納米工藝技術(shù)和Synopsys的技術(shù)領先的設計解決方案相結(jié)合,而加速他們的設計通向制造的過程。”
“客戶們正在尋找使他們能夠提供滿足其特有性能目標與需求的設計工具與方法,” Synopsys公司企業(yè)營銷和戰(zhàn)略聯(lián)盟副總裁Rich Goldman說道。“通過我們與SMIC的攜手合作,我們能夠為共同的客戶提供一個經(jīng)過認證的參考流程,以及直接通向高性能和低功耗的、專為中芯國際的 40納米低功耗工藝量身訂做的設計解決方案。”