TSMC和Synopsys攜手將定制設計擴展到16納米節(jié)點

21ic訊 亮點：

• Laker定制設計解決方案已經通過TSMC 16-nm FinFET制程的設計規(guī)則手冊(DRM)第0.5版認證

• Laker支持TSMC 16-nm v0.5 iPDK的功能包括：復雜的FinFET橋接規(guī)則、雙重圖形曝光(double-pattern)、中間線端層(MEOL)和其他先進技術節(jié)點設計的要求

• TSMC和Synopsys將繼續(xù)合作支持iPDK，以孵化定制設計創(chuàng)新

新思科技公司(Synopsys, Inc.)日前宣布：Synopsys Laker®定制設計解決方案已經通過TSMC 16-nm FinFET制程的設計規(guī)則手冊(DRM)第0.5版的認證，同時從即刻起可以提供一套TSMC 16-nm可互通制程設計套件(iPDK)。憑借其對iPDK標準強大的支持，Synopsys的Laker定制解決方案為用戶提供了從180-nm到16-nm的多種TSMC工藝技術的全面對接。除了對TSMC 16-nm V0.5 iPDK的支持，Laker工具也已實現了增強，以確保能夠充分利用FinFET技術的優(yōu)勢。

Laker針對16-nm版圖的功能增強包括一整套多樣化的、面向FinFET器件的新功能，包括fin網格模式快速圖像描述、fin顯示以及交互式的FinFET規(guī)則檢測。Laker的內置雙重圖形曝光(double-pattern)檢查已得到增強，以支持預著色(pre-coloring)和顏色密度(color density)檢查。Laker支持中間端線層(MEOL)設計，包括無通孔的連接、單向層規(guī)則以及用以支持16-nm防護環(huán)的功能增強。Laker也已被增強以支持TSMC 16-nm V0.5 iPDK中所使用的連續(xù)有源區(qū)(CNOD)規(guī)則和有源區(qū)邊緣多晶硅覆蓋的(PODE)橋接規(guī)則。

“Synopsys是TSMC開放創(chuàng)新平臺的長期合作伙伴，”TSMC設計基礎架構市場部高級主管Suk Lee表示到。“Synopsys的 Laker定制設計解決方案獲得的認證展現了我們之間的服務協同，我們將一起支持雙方的共同客戶采用16-nm的FinFET技術。”

“Synopsys一直與TSMC密切合作去為16-nm節(jié)點的設計技術做好準備，”Synopsys負責產品市場營銷、設計和制造產品的副總裁Bijan Kiani表示。“借助早期的SPICE模型開發(fā)、與Synopsys IP團隊的密切合作、以及現在Laker定制解決方案的支持能力，我們已經為支持TSMC 16-nm技術和客戶做好了全面的準備。”