功率MOSFET并聯(lián)均流問題研究
關(guān)鍵詞:功率MOSFETS;多管并聯(lián);高頻;Q軌跡
引言
隨著電力電子技術(shù)的迅速發(fā)展,功率MOSFET以其高頻性能好、開關(guān)損耗小、輸入阻抗高、驅(qū)動功率小、驅(qū)動電路簡單等優(yōu)點在高頻感應(yīng)加熱電源中得到了廣泛的應(yīng)用。但是,功率MOSFET容量的有限也成了亟待解決的問題。從理論上講,功率MOSFET的擴容可以通過串聯(lián)和并聯(lián)兩種方法來實現(xiàn),實際使用中考慮到其導通電阻RDS(on)具有正溫度系數(shù)的特點,多采用多管并聯(lián)來增加其功率傳導能力。
1 影響功率MOSFET并聯(lián)均流的因素
在功率MOSFET多管并聯(lián)時,器件內(nèi)部參數(shù)的微小差異就會引起并聯(lián)各支路電流的不平衡而導致單管過流損壞,嚴重情況下會破壞整個逆變裝置。影響并聯(lián)均流的因素包括內(nèi)部參數(shù)和外圍線路參數(shù)。
1.1 內(nèi)部參數(shù)對并聯(lián)均流的影響
影響功率MOSFET并聯(lián)均流的內(nèi)部參數(shù)主要有閾值電壓VTH、導通電阻RDS(on)、極間電容、跨導gm等。內(nèi)部參數(shù)差異會引起動態(tài)和靜態(tài)不均流。因此,要盡量選取同型號、同批次并且內(nèi)部參數(shù)分散性較小的MOSFET加以并聯(lián)。
1.2 外圍線路參數(shù)對并聯(lián)特性的影響
MOSFET并聯(lián)應(yīng)用時,除內(nèi)部參數(shù)外,電路布局也是一個關(guān)鍵性的問題。在頻率高達MHz級情況下,線路雜散電感的影響不容忽視,引線所處電路位置的不同以及長度的很小變化都會影響并聯(lián)開關(guān)器件的性能。影響功率MOSFET并聯(lián)均流的外電路[2]參數(shù)主要包括:柵極去耦電阻Rg、柵極引線電感Lg、源極引線電感Ls、漏極引線電感Ld等。在多管并聯(lián)時一定要盡量使并聯(lián)各支路的Rg及對應(yīng)的各引線長度相同。
圖2
2 Q值對并聯(lián)均流的影響
在此引入Q軌跡[3]把器件內(nèi)部參數(shù)同其外圍線路聯(lián)系起來,分析線路中各種寄生因素對并聯(lián)均流的影響。當N個功率MOSFET并聯(lián)工作時,假設(shè)各支路的Rg完全相同,柵漏源極連線長度也各自相同。定義Q值如式(1)。
Q=IGLx (1)
式中:IG為工作區(qū)內(nèi)的平均柵極電流;
Lx=Lss1+Lss2+Ld/N其中Lss1及Lss2為外圍線路電感。
2.1 Q值對器件工作狀態(tài)的影響
不同Q值下IRF150開通和關(guān)斷時漏電流iD和漏源電壓vDS曲線如圖1中實線所示。而在Q=Q2,Ls/Lx不同時,器件開關(guān)時iD與vDS波形如圖1中虛線所示。
從圖1中實線可以看出,Q值越大,換向時間越短,開通損耗越低但關(guān)斷損耗增大;從圖1中虛線可以看出在線路中引入源極電感,器件的開關(guān)軌跡發(fā)生很大變化,開通損耗增加而關(guān)斷損耗減小。在高頻情況下,器件的開關(guān)時間和開關(guān)損耗對整個系統(tǒng)效率的提高至關(guān)重要。從上面的分析可知器件理想的工作條件應(yīng)該是在相對較高的Q值下。以下基于不同Q值,通過仿真軟件PSPICE分析外圍線路中各種寄生參數(shù)對并聯(lián)均流的影響。
圖3
2.2 Q值對雙管并聯(lián)均流影響的仿真分析
雙管并聯(lián)電路如圖2所示。選用APT公司生產(chǎn)的APT6013LLL做為開關(guān)器件,其最高耐壓為600V,最大連續(xù)漏電流為43A,輸入電容Ciss=5696pF,td(on)=11ns,tr=14ns,td(off)=27ns,tf=8ns,閾值電壓平均值為4V;驅(qū)動信號vgs是幅值為15V頻率為1MHz,占空比為50%的方波信號;外接直流電源VDD=100V;負載R為2Ω的無感電阻;D為續(xù)流二極管;Lg1=Lg2=Lg,Ld1=Ld2=Ld,Ls1=Ls2=Ls,分別為柵漏源極引線電感,Rg1=Rg2=Rg是柵極去耦電阻??紤]到實驗中多用短而粗的雙股絞線來減小線路寄生電感,所以,仿真時定義電路中的寄生電感Ld=Lg=Ls=10nH,負載寄生電感L=100nH。
仿真情況如下。
1)閾值電壓Vth相差0.7V,Rg=5Ω和Rg=10Ω(即Q1<Q2),其它參數(shù)均一致情況下,并聯(lián)兩管的漏電流iD波形如圖3所示。
從圖3可以看出,并聯(lián)兩管的閾值電壓不同會引起兩管不均流,Q值較大時均流特性比較好。
2)閾值電壓Vth相差0.7V,Rg=5Ω,Ls分別為22.5nH和5nH,其它參數(shù)均一致情況下,漏電流iD波形如圖4所示。
從圖4可以看出,引入源極電感Ls,并聯(lián)不均流得到改善,但Ls越大器件關(guān)斷時間越長。在設(shè)計中,并聯(lián)器件源極電感保持一致是必須的,尋找最優(yōu)的Ls(即Ls/Lx)使得并聯(lián)均流特性最好。表1為閾值電壓Vth相差10%,其它參數(shù)均一致情況下,分別取不同Q和Ls/Lx,器件開通和關(guān)斷過程中電流不均衡的仿真分析結(jié)果。其中Δi=iD1-iD2,為并聯(lián)兩管漏電流相差最大處的差值。
由表1可以看出,當Ls/Lx=25%,Q=Q2時,開通和關(guān)斷過程器件的均流特性相對最好。
表1 內(nèi)部特性參數(shù)不一致下,Q和Ls/Lx不同對器件動態(tài)電流分布的影響
(Ls/Lx)/% |
導通期間Δi/A |
開通過程Δi/A |
關(guān)斷過程Δi/A | |||
Q1 |
Q2 |
Q1 |
Q2 |
Q1 |
Q2 | |
5 |
1.33 |
1.01 |
3.88 |
2.75 |
7.26 |
5.93 |
10 |
1.25 |
0.81 |
3.01 |
1.99 |
6.48 |
5.33 |
25 |
1.16 |
0.67 |
2.56 |
1.44 |
4.52 |
3.65 |
30 |
1.34 |
0.84 |
2.63 |
1.64 |
4.61 |
3.88 |
3 實驗驗證
實驗線路同圖2,線路布局完全對稱,實驗采用IRFP450做為開關(guān)管,其基本特性參數(shù):VDSS=500V,RDS(on)=0.4Ω,iD=14A,Crss=340pF,Ciss=2600pF,直流電壓是經(jīng)過三相整流輸出的VDD=95V,R1=50Ω,驅(qū)動電壓幅值為15V,占空比為65%頻率約為1MHz。
實驗情況如下。
1)Rg=8.5Ω,未采取任何均流措施情況下,隨機取兩個MOSFET并聯(lián)運行時,漏極電流iD波形如圖5所示。
從圖5可以看出,在同一驅(qū)動信號作用下,由于并聯(lián)兩管內(nèi)部參數(shù)存在差異,導致了電流的不均衡和開關(guān)時間的不同時,使兩管承受的通斷損耗也出現(xiàn)較大差異,極有可能會造成開關(guān)過程中單管負擔過重,以致電流過載而燒損。
2)使Rg=10.0Ω,其它條件不變,漏極電流iD波形如圖6所示。
調(diào)節(jié)柵極去耦電阻RG相當于調(diào)節(jié)柵極平均電流IG的大小。由圖6可知,增大RG引起功率MOSFET輸入電容的充、放電速度減慢,加劇了兩管并聯(lián)應(yīng)用時動態(tài)電流的不均衡。因此,在保證柵極去耦的前提下,Rg應(yīng)盡可能地小。
3)Rg=8.5Ω,適當增大Ls,且使Ls1=Ls2時,漏極電流iD波形如圖7所示。
由圖7可知,引入適當大小的源極電感,當電流突變時,在電感上會引起附加的di/dt,它能夠通過調(diào)整器件的柵極電壓阻止動態(tài)電流的進一步不均衡,大大改善了并聯(lián)兩管的動態(tài)均流特性。然而,這種方法增加了器件開關(guān)時的損耗,而且源極電感過大會引起器件的開關(guān)時間過長而不利于高頻使用。因此,多管并聯(lián)時可以引入適當?shù)脑礃O電感,又不宜太大。
4 結(jié)語
當功率MOSFET多管并聯(lián)時,最根本的方法是選用內(nèi)部參數(shù)完全一致的進行并聯(lián),通過緊密布局和器件的對稱布局來減少雜散電感,消除寄生振蕩。在實際使用中為了最大限度地獲得并聯(lián)均流,應(yīng)該從以下幾方面考慮:
1)選用同型號同批次的器件加以并聯(lián);
2)使用同一個驅(qū)動源和獨立的柵極電阻消除寄生振蕩;
3)電路布局對稱并盡可能緊湊,連線長度相同且減短加粗并使用雙股絞線;
4)適當增大Q值和選取適當大小的Ls/Lx,通過匹配外圍電路最大限度地獲得并聯(lián)均流結(jié)果。