ASML公司EUV(Extreme ultraviolet)系統(tǒng)產品開發(fā)經理Hans Meiling透露,其公司采用EUV alpha演示工具印制出了亞40納米光阻圖像。 Meiling在提交給SPIE微光刻大會的一篇論文中匯報了EUV領域的進展,包括EUV掩膜、可工
不知道為什么自己一直不能做到樂觀一點,所以還是有感而發(fā),想寫點東西。
投資者和分析師已經一致認為,今年半導體業(yè)步入了第三 個不景氣的年份。為了渡過低迷時期,歐洲的半導體巨頭們已經進行了許多艱難的努力。但投資者 認為它們要走上復蘇之路,所要做的事情還有很多。 降低