ASMl

關(guān)注人關(guān)注

我要報(bào)錯(cuò)

2011年半導(dǎo)體設(shè)備市場十大預(yù)測

2011年半導(dǎo)體設(shè)備市場將會(huì)出現(xiàn)哪些情況？以下是投資銀行Barclays Capital 分析師C.J. Muse收集業(yè)界各方信息所列出的十項(xiàng)預(yù)測。1. 半導(dǎo)體設(shè)備市場景氣向上？ Muse表示，半導(dǎo)體廠商資本支出趨勢，有從持平朝增加5~1

電源-LED驅(qū)動(dòng)
2010-12-22

半導(dǎo)體設(shè)備 BSP ASML API
VLSI Research公布第三季度半導(dǎo)體設(shè)備廠商排名

VLSIResearch預(yù)測稱2010第四季度半導(dǎo)體設(shè)備市場有所降溫，全年半導(dǎo)體設(shè)備銷售額預(yù)計(jì)增長96%，達(dá)到474億美元。TokyoElectron和Advantest在排名前十的設(shè)備廠商中獲得最大的增長幅度。AppliedMaterials和ASML繼續(xù)保持領(lǐng)

模擬
2010-12-16

LSI RESEARCH 半導(dǎo)體設(shè)備 ASML
VLSI Research公布第三季度半導(dǎo)體設(shè)備廠商前十名單

VLSI Research預(yù)測稱2010第四季度半導(dǎo)體設(shè)備市場有所降溫，全年半導(dǎo)體設(shè)備銷售額預(yù)計(jì)增長96%，達(dá)到474億美元。Tokyo Electron和Advantest在排名前十的設(shè)備廠商中獲得最大的增長幅度。Applied Materials和ASML繼續(xù)保持

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-12-16

LSI RESEARCH 半導(dǎo)體設(shè)備 ASML
光罩、光阻問題大　EUV機(jī)臺(tái)量產(chǎn)路途遙

微影設(shè)備大廠艾司摩爾(ASML)首臺(tái)深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)已正式送到客戶端進(jìn)行裝機(jī)，日前，ASML也用EUV機(jī)臺(tái)試產(chǎn)出首片27奈米半間距(half pitch)的芯片。不過，目前EUV除成本高昂外，光罩檢測與光阻為目前EUV進(jìn)入量產(chǎn)的兩大

模擬
2010-12-10

檢測設(shè)備 EUV ROUGH ASML
晶圓廠資本支出明年估增23%

國際半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（SEMI）昨（9）日發(fā)布最新全球晶圓廠預(yù)測報(bào)告指出，2011年全球包括三星、英特爾、臺(tái)積電（2330）等晶圓廠在制程相關(guān)設(shè)備的投資金額，預(yù)估將提高23%達(dá)到400億美元，超越2007年，創(chuàng)下19年來

模擬
2010-12-10

PCB 晶圓廠半導(dǎo)體設(shè)備 ASML
EUV機(jī)臺(tái)　

深紫外光(EUV)技術(shù)是次世代微影技術(shù)之一，其他還還包括無光罩多重電子束、浸潤式微影多重曝光技術(shù)等，EUV技術(shù)主要的開發(fā)商是設(shè)備大廠愛司摩爾(ASML)，當(dāng)半導(dǎo)體制程技術(shù)走入20奈米或是10奈米以下，現(xiàn)有的浸潤式曝光(I

模擬
2010-12-07

臺(tái)積電晶圓廠 EUV ASML
ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑

ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機(jī)的芯片制造商實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)新紀(jì)錄，即在24小時(shí)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個(gè)里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實(shí)現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設(shè)備幫助他們提高了300mm

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-12-03

晶圓 CAN WIN ASML
ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑每日處理晶圓超越4000片

ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機(jī)的芯片制造商實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)新紀(jì)錄，即在24小時(shí)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個(gè)里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實(shí)現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設(shè)備幫助他們提高了300mm

模擬
2010-12-03

晶圓 CAN WIN ASML
東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即或需要與雙圖案化技術(shù)并用

東芝在荷蘭阿斯麥（ASML）公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”會(huì)議上，展望了引進(jìn)EUV（超紫外線）曝光技術(shù)進(jìn)行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術(shù)開發(fā)的東木達(dá)彥表示“即

模擬
2010-11-26

東芝光刻膠 EUV ASML
東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即

東芝在荷蘭阿斯麥(ASML)公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”會(huì)議上，展望了引進(jìn)EUV(超紫外線)曝光技術(shù)進(jìn)行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術(shù)開發(fā)的東木達(dá)

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-11-26

東芝光刻膠 EUV ASML
ASML高層：看好明年半導(dǎo)體資本支出

道瓊社、ThomsonReuters報(bào)導(dǎo)，歐洲半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)龍頭ASMLHoldingNV財(cái)務(wù)長PeterWennink19日在摩根士丹利年度科技媒體電信(TMT)大會(huì)上表示，明年度半導(dǎo)體業(yè)的資本支出將增加，該公司客戶的需求強(qiáng)勁使得前置時(shí)間達(dá)10個(gè)月

半導(dǎo)體
2010-11-24

半導(dǎo)體 RS 半導(dǎo)體設(shè)備 ASML
ASML高層看好明年半導(dǎo)體資本支出

道瓊社、Thomson Reuters報(bào)導(dǎo)，歐洲半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)龍頭ASML Holding NV財(cái)務(wù)長Peter Wennink 19日在摩根士丹利年度科技媒體電信(TMT)大會(huì)上表示，明年度半導(dǎo)體業(yè)的資本支出將增加，該公司客戶的需求強(qiáng)勁使得前置時(shí)間達(dá)1

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-11-23

半導(dǎo)體 RS 半導(dǎo)體設(shè)備 ASML
EUV光刻機(jī)價(jià)格暴漲至近億美元

多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預(yù)測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價(jià)有可能提升到1.25億美元的水平?！碑?dāng)時(shí)幾乎所有的人都認(rèn)為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種

模擬
2010-11-21

EUV光刻機(jī) ADT ALPHA ASML
次世代微影技術(shù)主流之爭　

目前次世代微影技術(shù)發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn)，而身為深紫外光 (EUV)陣營主要推手之一的比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出，EUV技術(shù)最快于2014年可望進(jìn)入量產(chǎn)，而應(yīng)用存儲(chǔ)器制程又將早于邏輯制程，他也

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-10-26

存儲(chǔ)器 EUV OV ASML
次世代微影技術(shù)主流之爭　EUV可望2014年進(jìn)入量產(chǎn)

目前次世代微影技術(shù)發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn)，而身為深紫外光(EUV)陣營主要推手之一的比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出，EUV技術(shù)最快于2014年可望進(jìn)入量產(chǎn)，而應(yīng)用內(nèi)存制程又將早于邏輯制程，他也指

模擬
2010-10-21

內(nèi)存 EUV OV ASML
ASML報(bào)喜晶圓廠好兆頭

先進(jìn)制程設(shè)備大廠艾斯摩爾（ASML）第三季財(cái)報(bào)優(yōu)于預(yù)期，并預(yù)估第四季營收比第三季成長一成，由于艾斯摩爾國內(nèi)大客戶為臺(tái)積電（2330），分析師認(rèn)為將替晶圓代工第四季業(yè)績表現(xiàn)再添好兆頭。艾斯摩爾主要提供12

模擬
2010-10-16

英特爾先進(jìn)制程晶圓廠 ASML
ASML公布其Q3業(yè)績

ASML公司于10月13日公布其未經(jīng)審計(jì)的Q3業(yè)績?nèi)缦?l 2010 Q3的銷售額為11.76億歐元，相比于Q2的銷售額為10.69億歐元。( 2009 Q3銷售額為5.55億歐元)。l 2010 Q3 的純利為2.69億歐元，或者是銷售額的22.8%，相比于2010

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-10-15

精度 CAN WIN ASML
沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺臺(tái)系芯片廠制程升級(jí)受阻

據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺，因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時(shí)間可能會(huì)再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對這些廠商轉(zhuǎn)移到38n

消費(fèi)電子
2010-09-26

芯片廠芯片廠商光刻機(jī) ASML
沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺臺(tái)系內(nèi)存芯片廠制程升級(jí)受阻

據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺，因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時(shí)間可能會(huì)再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對這些廠商轉(zhuǎn)移到38n

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2010-09-09

芯片廠內(nèi)存芯片光刻機(jī) ASML
DRAM廠拼制程微縮　ASML機(jī)臺(tái)交貨不及

隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)復(fù)蘇，原本財(cái)務(wù)結(jié)構(gòu)岌岌可危的DRAM廠營運(yùn)開始轉(zhuǎn)佳，因此積極投入技術(shù)制程微縮的工作，但面臨最大問題除了募資之外，還有ASML的浸潤式曝光機(jī)臺(tái)(Immersion Scanner)大缺貨，交期甚至長達(dá)12個(gè)月，目前

模擬
2010-09-08

DRAM 芯片爾必達(dá) ASML

首頁上一頁 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 下一頁尾頁

ASMl

2011年半導(dǎo)體設(shè)備市場十大預(yù)測

VLSI Research公布第三季度半導(dǎo)體設(shè)備廠商排名

VLSI Research公布第三季度半導(dǎo)體設(shè)備廠商前十名單

光罩、光阻問題大　EUV機(jī)臺(tái)量產(chǎn)路途遙

晶圓廠資本支出明年估增23%

EUV機(jī)臺(tái)

ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑

ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑每日處理晶圓超越4000片

東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即或需要與雙圖案化技術(shù)并用

東芝展望EUV曝光技術(shù)量產(chǎn)在即

ASML高層：看好明年半導(dǎo)體資本支出

ASML高層看好明年半導(dǎo)體資本支出

EUV光刻機(jī)價(jià)格暴漲至近億美元

次世代微影技術(shù)主流之爭

次世代微影技術(shù)主流之爭　EUV可望2014年進(jìn)入量產(chǎn)

ASML報(bào)喜晶圓廠好兆頭

ASML公布其Q3業(yè)績

沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺臺(tái)系芯片廠制程升級(jí)受阻

沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺臺(tái)系內(nèi)存芯片廠制程升級(jí)受阻

DRAM廠拼制程微縮　ASML機(jī)臺(tái)交貨不及

相關(guān)標(biāo)簽

關(guān)注此標(biāo)簽的用戶(人)

熱門活動(dòng)

課程視頻