LED半導體照明網(wǎng)訊 Yole Développement預測, 經(jīng)過18-24個月的消化期,LED前端設備市場開始緩慢復蘇,并將在2014-2016年間經(jīng)歷另一輪投資,通用照明應用是主要需求動力。但第二輪投資價值有限,因為設備
Yole Développement預測, 經(jīng)過18-24個月的消化期,LED前端設備市場開始緩慢復蘇,并將在2014-2016年間經(jīng)歷另一輪投資,通用照明應用是主要需求動力。但第二輪投資價值有限,因為設備產(chǎn)能和良率有所改善,
IGZO技術是近來半導體顯示市場最熱門的技術,不過由于其在成膜過程中存在對氫氣敏感、膜質(zhì)均勻性要求高等特點,大規(guī)模生產(chǎn)過程中存在成品率較低的問題。近日,半導體設備大廠應用材料推出適用于IGZO金屬氧化物薄膜生
10月31日,應用材料顯示事業(yè)部(AKT)在日本橫濱的2012年國際平板顯示器展 (FPDI 2012)現(xiàn)場,通過視頻會議系統(tǒng)向北京媒體宣布,推出分別采用低溫多晶硅(LTPS)和金屬氧化物材料的PX PECVD(等離子體增強型化學氣相沉
應用材料公司宣布推出全新的PVD*和PECVD*技術,用于制造下一世代的超高分辨率(UHD)電視以及移動設備的高像素密度屏幕。實現(xiàn)這一重大變革的關鍵在于這兩項技術使用了全新的金屬氧化物和低溫多晶硅材料,從而生產(chǎn)出更快
應用材料顯示事業(yè)部(AKT)在日本橫濱的2012年國際平板顯示器展 (FPDI 2012)現(xiàn)場,通過視頻會議系統(tǒng)向北京媒體宣布,推出分別采用低溫多晶硅(LTPS)和金屬氧化物材料的PX PECVD(等離子體增強型化學氣相沉積)和PiV
應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)薄膜技術,用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應用材料公司業(yè)界領先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進絕緣薄膜,使得基于金屬氧化
自2011以來,行業(yè)持續(xù)低迷,很多光伏企業(yè)將主要精力都放在了提升產(chǎn)品效率,以便使自身更具競爭力。在提升效率過程中,之于每個工藝的控制就顯得格外重要。例如,對于晶體硅電池的核心工藝的PECVD,為了既獲得良好的鈍
眾所周知,以等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)法生長的非晶硅和微晶硅材料,一直是薄膜太陽能電池制備中很有前景的材料。 其中非晶硅電池具有極高的光吸收系數(shù),且容易大規(guī)模生產(chǎn),是目前較為普遍的硅基薄膜電池
近日,諾發(fā)公司宣布其已向旭瑞光電公司提供了一臺VECTOR(R)型等離子增強化學氣相沉積(PECVD)設備。旭瑞光電是一家位于佛山的合資公司,其股東之一是世界領先的高亮度LED生產(chǎn)企業(yè)——美國旭明公司(Semileds Corp
應用材料公司推出全新的Applied AKT-20K PX PECVD 系統(tǒng),用于制造最先進的智能手機和平板電腦中所采用的高性能有源矩陣OLED和TFT-LCD顯示屏。通過采用LTPS關鍵技術,該系統(tǒng)可將高度一致的薄膜沉積至1.95平方米的玻璃
半導體設備龍頭應用材料(Applied Material)11日舉行臺南制造中心擴建竣工典禮,將投入電漿強化化學氣相沉積(PECVD)與物理氣相沉積(PVD)等面板及薄膜太陽能電池最關鍵的制造設備生產(chǎn),成為臺灣面板廠西進中國大陸與跨
諾發(fā)系統(tǒng)日前發(fā)表VECTOR PECVD、INOVA PVD和GxT photoresist strip systems的新機型,這些新機型可以和諾發(fā)系統(tǒng)的先進金屬聯(lián)機技術相輔相成,并且展開晶圓級封裝技術(WLP)的需求及市場。這些機臺都整合了一些一般傳統(tǒng)