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臺積電三星爭霸 EUV技術成決勝關鍵
半導體代工企業(yè)間的競爭越演越烈，臺積電與三星電子也爭先恐后地加強開發(fā)速度，EUV（極紫外線）技術將成為決勝關鍵。 據(jù)韓媒報道， 三星電子和臺積電接連購買10臺以上的EUV設備。該設備由荷蘭ASML獨
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挑戰(zhàn)臺積電！三星今年將完成6納米量產(chǎn)
在7納米工藝的競爭中，臺積電以EUV技術拔得頭籌。三星作為臺積電最大的對手，近來做法也是非常激進：三星官方最近給出的時間表，6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn)，5nm 5LPE今年內(nèi)完成流片、
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EUV技術的首款7+納米芯片明年量產(chǎn)，臺積電將成全球首家
臺積電采用EUV技術的首款7+納米芯片已經(jīng)完成設計定案，明年第二季后將可順利進入量產(chǎn)，屆時臺積電將成為產(chǎn)全球首家采用EUV技術量產(chǎn)的晶圓代工廠，5納米制程預計明年4月可開始進行風險試產(chǎn)，將在2020年上半年進入量產(chǎn)
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7納米EUV之前最NB技術!三星完成8 納米LPP制程技術驗證
近日消息，據(jù)韓國媒體報道，三星官方正式宣布已完成了 8 納米 LPP 制程技術的驗證，不久之后可量產(chǎn)。三星表示，相較 10 納米制程技術，新推出的 8 納米 LPP 制程技術可使芯片能效提升 10%，芯片面積降低 10%。三星表
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7、11納米LPP工藝齊上陣，三星能否搶回蘋果訂單
日前三星電子正式宣布，其將11nm FinFET制程技術(11nm LPP，Low Power Plus)提上研發(fā)日程，預計將于明年推出首款采用該工藝的芯片。
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EUV技術仍不成熟 Intel、三星7nm遇阻
雖然工藝狂魔臺積電口口聲聲7nm/5nm/3nm，但是一個現(xiàn)實問題是，用于10nm以下芯片生產(chǎn)的關鍵技術或者說設備EUV(極紫外光刻)光刻機仍面臨不少商用難題。
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三星7nm工藝將采用EUV技術
三星電子在近日該公司與美國新思科技(Synopsys)聯(lián)合舉辦的會議上公開了該公司代工業(yè)務的工藝路線圖。此次會議與第53屆設計自動化大會(53rd Design Automation Conference，DAC2016，2016年6月5日～10日舉行)同在美國奧斯汀舉行......
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