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[導(dǎo)讀] 半導(dǎo)體代工企業(yè)間的競(jìng)爭(zhēng)越演越烈,臺(tái)積電與三星電子也爭(zhēng)先恐后地加強(qiáng)開發(fā)速度,EUV(極紫外線)技術(shù)將成為決勝關(guān)鍵。 據(jù)韓媒報(bào)道, 三星電子和臺(tái)積電接連購(gòu)買10臺(tái)以上的EUV設(shè)備。該設(shè)備由荷蘭ASML獨(dú)

半導(dǎo)體代工企業(yè)間的競(jìng)爭(zhēng)越演越烈,臺(tái)積電與三星電子也爭(zhēng)先恐后地加強(qiáng)開發(fā)速度,EUV(極紫外線)技術(shù)將成為決勝關(guān)鍵。

據(jù)韓媒報(bào)道, 三星電子和臺(tái)積電接連購(gòu)買10臺(tái)以上的EUV設(shè)備。該設(shè)備由荷蘭ASML獨(dú)家生產(chǎn),年產(chǎn)量只有30~40臺(tái),每臺(tái)要價(jià)2000億韓元。

從實(shí)力來(lái)看,三星的硬件設(shè)計(jì)目前是全球最尖端的,而且其財(cái)力也相對(duì)比臺(tái)積電雄厚,在代工廠紛紛進(jìn)入7納米時(shí)代時(shí),三星電子首先選擇采用EUV制程,并于上個(gè)月?lián)屜葮I(yè)界量產(chǎn)EUV制程的7納米產(chǎn)品。 芯片代工步驟極其復(fù)雜,光刻只是13個(gè)步驟中的一個(gè),臺(tái)積電以現(xiàn)有技術(shù)優(yōu)勢(shì)搶占7納米市場(chǎng),在訂單競(jìng)爭(zhēng)中占據(jù)優(yōu)勢(shì)。在日前的半導(dǎo)體大會(huì)上,臺(tái)積電表示 邏輯器件微縮將成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的一大趨勢(shì), 臺(tái)積電預(yù)計(jì)在5納米制程引入EUV技術(shù)。

部分分析指出,三星電子將在EUV時(shí)代重掌主導(dǎo)權(quán)。三星電子將提前準(zhǔn)備的效果將在5納米制程發(fā)酵,并追擊臺(tái)積電。但是臺(tái)積電的霸主地位并非容易撼動(dòng),臺(tái)積電表示 5nm進(jìn)入市場(chǎng)階段 ,明年將會(huì)大規(guī)模量產(chǎn)。 Trendforce數(shù)據(jù)指出,臺(tái)積電在今年第一季的代工市場(chǎng)市占率為48.1%。

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