據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作,為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計平臺和未開發(fā)的未來機遇。
據(jù)業(yè)內(nèi)信息,近日全球光刻機巨頭ASML在今年的半導(dǎo)體EUV生態(tài)系統(tǒng)全球大會上表示,EUV設(shè)備出貨量這幾年來不斷上升,去年大約為42臺,而今年預(yù)測將超過50臺。2024年年底預(yù)計推出下一代High-NA EUV設(shè)備。