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[導(dǎo)讀]截至目前,華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片,臺積電7nm EUV工藝制造,而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。 EUV技術(shù)能夠落地商用,背

截至目前,華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片,臺積電7nm EUV工藝制造,而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。

EUV技術(shù)能夠落地商用,背后離不開荷蘭巨頭ASML(阿斯麥),整個EUV光刻機市場已經(jīng)被他家壟斷,現(xiàn)在的7nm工藝節(jié)點如此,未來的5nm、3mm節(jié)點也會如此。

近日,ASML公布了一些有關(guān)EUV的有趣數(shù)據(jù)。

其實早在2013年,ASML EUV光刻機就投用了,但頭幾年一直都是試驗、試產(chǎn)性質(zhì),累計300毫米晶圓產(chǎn)量直到2017年才達到110萬塊,2018年又生產(chǎn)了90萬塊,2019年至今累計已達450萬塊,算下來從2016年到現(xiàn)在年復(fù)合增長率高達95%。

其實,全球已部署投產(chǎn)的EUV光刻機也沒多少,直到2016才不過區(qū)區(qū)10臺,2018年增加了17臺,2019年上半年增加了11臺,目前總共38臺。

目前投產(chǎn)的EUV光刻機型號都是NXE:3400B,下半年將迎來新的升級版NXE:3400C,每小時可生產(chǎn)最多175塊300毫米晶圓—;—;2014年的時候可是每小時智能生產(chǎn)10塊左右。

NXE:3400C最大變化是模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm

ASML的下一代EUV光刻機將是EXE:5000系列,面向臺積電3nm、Intel 5nm工藝,引入High NA(高數(shù)值孔徑)透鏡,從0.33轉(zhuǎn)向0.55,以匹配更先進的制造工藝,預(yù)計2023年上市。

至于這種EUV光刻機有多貴,據(jù)說三星不久前訂購了15臺,總價值3萬億韓元,折合人民幣約180億元,那么一臺就是12億元,堪稱史上最貴半導(dǎo)體設(shè)備了。

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